Abstract:
강화된 에너지량 제어 및 재생력을 갖고 약 500 내지 2000Hz의 범위에 있는 속도로 펄스를 만들 수 있는 초협대역 펄스 엑시머 레이저. 버스트의 펄스 개시 후, 1 가스 순환시간에 발생하는 종래기술의 버스트 모드 "슬러그 효과"는 미소량의 산소를 추가함으로써 제거될 수 있다. 바람직한 실시예에서, 초협대역폭은 플루오르 부분압력을 0.10% 미만으로 줄이며, 출력 커플러의 반사율을 25%보다 크게 증가시킴으로써 이루어진다. 바람직한 실시예에서, 종래기술의 라인 협소화 모듈에서 사용된 종래기술의 용화된 실리카는 플루오르화 칼슘 프리즘으로 대체된다. 프리즘, 초협대역 레이저, 엑시머 레이저, 플루오르, 산소, 라인 협소화 모 듈, 출력 커플러, 전극, 반사율
Abstract:
고출력 엑시머 또는 분자 플루오르 가스 방전 레이저 DUV 광원 시스템으로서, 광 지연 라인 미러의 면을 가로질러 퍼징가스를 지향시키는 퍼징 가스 공급 시스템을 구비하는 광 지연 경로 미러 가스 퍼징 어셈블리, 및 광 지연 경로 미러를 구비하는 펄스 스트레처를 포함하는 고출력 엑시머 또는 분자 플루오르 가스 방전 레이저 DUV 광원 시스템을 포함하는 장치 및 방법이 개시된다. 상기 광 지연 경로 미러는 복수의 광 지연 경로 미러를 포함하고; 상기 퍼징 가스 공급 시스템은 퍼징 가스를 복수의 광 지연 라인 미러 각각의 면을 지나도록 지향시킨다. 상기 퍼징 가스 공급 시스템은: 퍼징 가스 공급 라인; 퍼징 가스를 각각의 광 지연 경로 미러의 면을 가로질러 지향시키는 퍼징 가스 분배 메커니즘 및 지향 메커니즘을 포함한다. 광 지연 라인 미러, 광 지연 라인 미러 가스 퍼징 어셈블리, 펄스 스트레처, 고 출력 엑시머, 분자 플루오르 가스 방전 레이저 DUV 광원 시스템, 퍼징 가스, 퍼징 가스 분배 및 지향 메커니즘, 퍼징 가스 공급 시스템
Abstract:
레이저 출력 펄스를 산출하는 가스 방전 레이저 시스템 및 상기 시스템을 운용하는 방법으로서, 레이저 출력 펄스의 일부를 레이저 시스템 출력 펄스 광축을 따라 지향시키고 상기 출력 펄스의 일부를 광학 지연경로를 가지는 광학 딜레이로 전환시키는 레이저 출력 펄스 광학 지연 개시 광학기기를 구비하는 펄스 스트레저를 포함하고, 상기 레이저 출력 펄스 광학 지연 개시 광학기기는, 상기 광학적 딜레이의 출력을 상기 레이저 출력 펄스 광학 지연 개시 광학기기로 전달하도록 직렬로 정렬된 복수의 공초점 공진기; 상기 레이저 출력 펄스 광학 지연 개시 광학기기에 의해 전송된 레이저 시스템 출력 펄스의 일부의 광축을 따라 전송된 레이저 출력 펄스의 일부와의 정렬에 대해 광학 딜레이의 출력을 배치하도록 동작가능한 방사방향 거울 포지셔닝 메커니즘을 구비하는 광축 정렬 메커니즘을 구비하는 것을 특징으로 하는 가스 방전 레이저 시스템 및 상기 시스템을 운용하는 방법이 개시된다. 레이저 출력 펄스, 가스 방전 레이저 시스템, 광축, 광학 지연 경로, 레이저 출력 펄스 광학 지연 개시 광학기기, 펄스 스트레처, 공초점 공진기, 포지셔닝 메커니즘
Abstract:
A beam mixer for increasing intensity symmetry along a selected axis of a beam (wherein the beam extends from a first edge to a second edge along the axis) is disclosed and may include a plurality of mirrors establishing a spatially inverting path. For the beam mixer, the inverting path may have a beginning and an end and may be characterized in that a part of the beam near the first beam edge at the beginning of the path translates to the second beam edge at the end of the path. For this aspect, the beam mixer may further include an optic dividing the beam into first and second beam portions, the optic placing the first portion onto the inverting path and recombining the first and second portions onto a common path after the first portion has traveled along the inverting path thereby mixing the beam.
Abstract:
본원발명은 초당 6,000-10,000 펄스 범위의 반복률에서 프로덕션 라인 커패시티내의 신뢰가능한 장기간 동작가능한 가스 방전 레이저 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예는 포토리소그래피에 사용된 KrF, ArF, F 2 레이저로 구성되어 있다. 개선점에는 가스 플로를 증가시키기 위해 애노드(542) 바로 옆에 흡입 팬(555)이 포함된다. 팬(555)의 흡입구는 애노드(542)와 절연 스페이서(544B) 사이에 있다.
Abstract:
레이져를 발하는 가스(108) 혼합물을 재 순환하기 위한 횡류 팬(140) 및 컷오프 조립체는, 끝부에서 끝부로 계단식으로 원주상 위치로 가변하는 블레이드 부재(144) 및/또는 테이퍼진 양극 조립체(120)를 가지고 있다. 블레이드 부재(144)의 개수는 일정하거나 가변할 수 있다. 블레이드 부재(144)의 원주상 위치는 끝부들 사이에서 단일 방향으로 또는 역방향으로 변할 수 있다. 블레이드 부재(144)는 허브부재(212)의 위치 및 개수를 최적 선택함으로써 강화되어 팬의 고유 진동수를 제어한다. 횡류 팬을 성형하는 방법은 단일 블럭으로부터 캐스팅하는 단계, 기계가공하는 단계를 포함한다. 단편으로된 구조는 전자 빔 용접으로부터 전형적으로 결합될 수 있다. 캐스팅, 용접 및 기계가공 처리는 어떠한 추가적인 오염물질을 도입하지 않는다. 생산된 횡류 팬은 기계 강성, 정확한 허용오차, 오염 물질의 낮은 농도를 갖는다. 블레이드 부재(144)는 에어포일 형상으로 성형될 수 있다.
Abstract:
빔의 한 선택된 축을 따른 강도 대칭도를 증가시키기 위한 빔 믹서가 개시되고(여기서, 빔은 상기 축을 따라 제1에지에서 제2에지까지 뻗어 있다), 본 빔 믹서는 공간전 반전 경로를 이루는 복수 개의 미러를 포함할 수 있다. 본 빔 믹서에 대하여, 반전 경로는 시작점 및 끝점을 가지고, 경로의 시작점에서 제1빔 에지 부근의 빔의 일부가 경로의 끝점에서 제2빔 에지로 변환되는 것을 특징으로 한다. 이러한 형태에서, 빔 믹서는 빔을 제1빔 부분 및 제2빔 부분으로 분할하는 광학부재를 더 포함할 수 있고, 이 광학부재는 반전 경로에 제1빔 부분을 반전 경로에 놓고, 제1빔 부분이 반전 경로를 따라 이동된 후 공통 경로 상에서 제1및 제2빔 부분을 재결합함으로써, 빔을 믹싱한다. 빔 믹서, 강도 대칭도, 반전 경로, 미러, 스플리터, 분할 광학부재.
Abstract:
본 발명에 따라, 펄싱된 레이저 출력 빔을 산출하는 레이저 소스로서, 볼록 반사경과 평면 출력 결합기를 가지는 오실레이터를 구비한 레이저 소스; 및 제 1 축에서 빔을 포커싱하고 제 2 축에서 상기 빔을 공간적으로 확대시켜 상기 필름과의 상호작용을 위한 라인빔을 산출하는 광학 배치를 포함하는, 기판상에 증착된 필름을 선택적으로 용융하는 얇은 빔 레이저 결정화 장치가 제공된다. 기판, 필름, 얇은 빔 레이저 결정화 장치, 레이저 출력 빔, 레이저 소스, 볼록 반사경, 평면 출력 결합기, 오실레이터, 제 1 축, 제 2 축, 라인빔, 광학 배치, 원통축, 제 1 빔 디멘션, 증폭기, 광학기기