公开(公告)号：KR101523677B1

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：KR1020090016404

申请日：2009-02-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재호 ,  최정달 ,  김현재 ,  오현실

IPC: G11C16/12 ,  G11C16/10 ,  G11C16/30

CPC classification number: G11C16/0483 ,  G11C16/10 ,  G11C16/3418 ,  G11C16/3427

Abstract: 본발명에따른불휘발성메모리장치의프로그램방법은제 1 비선택워드라인에로컬전압을인가하고, 제 1 비선택워드라인에로컬전압을인가한후에, 제 2 비선택워드라인에로컬전압을인가하고, 그리고제 2 비선택워드라인에로컬전압을인가한후에, 제 1 비선택워드라인에패스전압을인가하는것을포함한다.

公开(公告)号：KR1020150047823A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：KR1020130127781

申请日：2013-10-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 노왁에티엔 ,  김대신 ,  권혜영 ,  김재호 ,  박진우 ,  서지웅

IPC: H01L27/115 ,  H01L21/8247 ,  H01L21/28

CPC classification number: H01L27/11582 ,  H01L29/66833 ,  H01L29/7926 ,  H01L21/28282 ,  H01L21/76205 ,  H01L21/823487

Abstract: 수직형메모리장치는기판으로부터기판상면에대해수직한제1 방향으로연장되는복수의채널들및 도체패턴들을포함한다. 채널들및 도체패턴들의외측벽을둘러싸며제1 방향을따라순차적으로서로이격되도록적층되는복수의게이트전극들이구비된다. 비트라인은채널들의상부에구비되어채널들과전기적으로연결된다. 도전라인은도체패턴들의상부에구비되어도체패턴들과전기적으로연결된다. 도체패턴과도전라인의배치를최적화하여수직형메모리장치의집적도를향상시킬수 있다.

Abstract translation: 垂直存储器件包括多个通道和从衬底沿垂直于衬底的前表面的第一方向延伸的导电图案。 安装有多个栅极电极，其围绕通道的外壁和导电图案，并且顺序地堆叠成在第一方向上彼此分开放置。 一个位线安装在通道的上部，并且电连接到通道。 导电线安装在导电图案的上部，并与导电图形电连接。 可以通过优化导电图案和导电线的布置来改善垂直存储器件的集成度。

公开(公告)号：KR1020140059022A

公开(公告)日：2014-05-15

申请号：KR1020120125596

申请日：2012-11-07

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  후지필름 가부시키가이샤

Inventor： 이형래 ,  카토케이타 ,  나카무라아츠시 ,  강율 ,  홍석구 ,  김재호 ,  이동준 ,  이시영

IPC: H01L21/336 ,  H01L29/78

CPC classification number: H01L29/7848 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/325 ,  G03F7/405 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3083 ,  H01L21/823807 ,  H01L21/823814 ,  H01L21/823878 ,  H01L29/165 ,  H01L29/66636

Abstract: A method for fabricating a semiconductor device is provided. The method for fabricating a semiconductor device includes the steps of providing a substrate having a first region and a second region, and gate electrodes which are formed on the first and the second region of the substrate; exposing the first region of the substrate and covering the second region; forming a mask layer with a negative side profile in the boundary of the first region and the second region of the substrate; forming a sigma trench in the first region of the substrate by etching the first region of the substrate using the mask layer and the gate electrodes as masks; and forming an epitaxial layer in the sigma trench.

Abstract translation: 提供一种制造半导体器件的方法。 制造半导体器件的方法包括提供具有第一区域和第二区域的衬底以及形成在衬底的第一和第二区域上的栅电极的步骤; 暴露所述衬底的所述第一区域并覆盖所述第二区域; 在所述基板的所述第一区域和所述第二区域的边界中形成具有负侧轮廓的掩模层; 通过使用掩模层和栅电极作为掩模蚀刻衬底的第一区域，在衬底的第一区域中形成σ沟槽; 并在西格玛沟槽中形成外延层。

公开(公告)号：KR101379150B1

公开(公告)日：2014-04-14

申请号：KR1020070088967

申请日：2007-09-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재호 ,  최우준 ,  이정은 ,  한영섭 ,  심대현

IPC: H04L12/28 ,  H04B7/24

CPC classification number: H04W48/12 ,  H04W84/18

Abstract: 본 발명은 지그비 네트워크(Zigbee Network)를 능동적으로 선택하고, 선택된 지그비 네트워크에 접속하기 위한 지그비 통신 시스템 및 방법(Zigbee Communication System and Method Thereof)에 관한 것으로서, 복수의 지그비 네트워크를 각각 형성하고, 상기 복수의 지그비 네트워크에 각각 접속된 단말(End-Device)의 서비스에 관한 정보를 전송하는, 복수의 지그비 코디네이터(Zigbee Co-ordinator)와, 상기 서비스에 관한 정보를 수신하여 분석하고, 분석된 결과에 따라 상기 복수의 지그비 네트워크 중 소정의 지그비 네트워크를 선택 및 접속하는 단말을 포함하는, 지그비 네트워크를 선택하여 접속할 수 있는 지그비 통신 시스템을 제공한다.
본 발명에 의하여, 단말이 지그비 네트워크에 접속하지 않고, 지그비 네트워크 상의 다른 단말이 제공하는 서비스를 검색할 수 있는 효과가 있다. 그리고 종래 기술에 따라 서비스 검색을 위해 단말이 불필요한 접속 및 해제를 함으로써 발생하는 불필요한 네트워크 자원의 소모나 시간의 낭비를 줄이는 효과를 가져온다.
지그비, 비콘(Beacon)

公开(公告)号：KR1020140017750A

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：KR1020120084086

申请日：2012-07-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 장병현 ,  김주형 ,  이운경 ,  이재구 ,  김재호 ,  양준규 ,  남필욱 ,  안재영 ,  황기현

IPC: H01L27/115 ,  H01L21/8247

CPC classification number: H01L29/792 ,  H01L23/528 ,  H01L27/1157 ,  H01L27/11582 ,  H01L29/045 ,  H01L29/1037 ,  H01L29/42364 ,  H01L29/511 ,  H01L29/66833 ,  H01L29/7926 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00 ,  H01L21/823487

Abstract: The present invention relates to a semiconductor memory device and a method for fabricating the same. The semiconductor memory device includes gates vertically laminated on the upper surface of a substrate having an epi layer, a vertical channel vertically penetrating the gates and electrically connected to the epi layer, and an information storage layer formed between the vertical channel and the gates. The upper surface of the epi layer may be in a level between the lower surface of the lowermost one of the gates and the upper surface of the substrate.

Abstract translation: 半导体存储器件及其制造方法技术领域本发明涉及一种半导体存储器件及其制造方法。 半导体存储器件包括垂直层叠在具有外延层的衬底的上表面上的栅极，垂直穿过栅极并电连接到外延层的垂直沟道以及形成在垂直沟道和栅极之间的信息存储层。 外延层的上表面可以在最下面一个栅极的下表面和基板的上表面之间的水平面中。

公开(公告)号：KR1020130108882A

公开(公告)日：2013-10-07

申请号：KR1020120030702

申请日：2012-03-26

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  연세대학교 산학협력단

Inventor： 김재호 ,  김선미 ,  노원우 ,  이창민 ,  정원섭 ,  김진원

IPC: H04N21/238

CPC classification number: G06F15/173 ,  H04L67/322 ,  H04L69/24

Abstract: PURPOSE: A scheduling device and method for balancing a load when implementing multiple transcoding processes are provided to compare respective output frame rates from the transcoding processes, thereby securing the minimum output frame rates, and uniformly generating the output frame rates. CONSTITUTION: A method for operating a server includes: a step (601) of implementing a first transcoding process in order to transmit at least one video file to a first terminal; a step (602) of implementing a second transcoding process in order to transmit at least one video file to a second terminal requiring the video file; and steps (603,604,605) of monitoring output frame rates from the first and the second transcoding process, and controlling the output frame rates. [Reference numerals] (601) Implement a first transcoding process in order to transmit at least one video file to a first terminal; (602) Implement a second transcoding process in order to transmit at least one video file to a second terminal; (603) Monitor output frame rates from the first and the second transcoding process and calculate an average value of each output frame rate; (604) Is one of the average value of first and second output frame rates smaller than a minimum output frame rate?; (605) Make both of an average value of bigger output frame rates than the minimum output frame and an average value of smaller output frame rates than the minimum output frame same; (AA) Start; (BB) No; (CC) Yes; (DD) End

Abstract translation: 目的：提供一种用于在实现多个代码转换过程时平衡负载的调度设备和方法，用于比较来自代码转换过程的各个输出帧速率，从而确保最小输出帧速率，并均匀地生成输出帧速率。 构成：用于操作服务器的方法包括：执行第一代码转换处理以将至少一个视频文件发送到第一终端的步骤（601）; 执行第二代码转换处理以便将至少一个视频文件发送到需要视频文件的第二终端的步骤（602）; 以及监视来自第一和第二代码转换处理的输出帧速率并控制输出帧速率的步骤（603,604,605）。 （附图标记）（601）实施第一代码转换处理，以将至少一个视频文件发送到第一终端; （602）实施第二代码转换处理，以便将至少一个视频文件传送到第二终端; （603）监视来自第一和第二代码转换处理的输出帧速率，并计算每个输出帧速率的平均值; （604）第一和第二输出帧速率的平均值之一小于最小输出帧速率α; （605）将输出帧速率的平均值与最小输出帧进行比较，输出帧速率的平均值与最小输出帧相同; （AA）开始; （BB）否 （CC）是; （DD）结束

公开(公告)号：KR1020130017664A

公开(公告)日：2013-02-20

申请号：KR1020110080235

申请日：2011-08-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양주형 ,  강율 ,  이형래 ,  신규식 ,  김재호 ,  이동준

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/28 ,  H01L21/768 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L21/28123 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/32139 ,  H01L21/76838 ,  G03F7/70916 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/28008 ,  H01L21/76801

Abstract: PURPOSE: A method for forming a metal pattern and a method for manufacturing a semiconductor device are provided to prevent a photoresist pattern from being damaged in a metal layer etching process by forming a thin film capping layer on the surface of the photoresist pattern formed on the metal layer. CONSTITUTION: A metal layer is formed on a substrate(10). A photoresist pattern(30) is formed on the metal layer. A capping layer(50) is formed by coating the photoresist pattern with overcoating compositions including polymer materials and solvents. The remaining overcoating compositions are removed. The metal layer is etched by using the capping layer and the photoresist pattern as an etch mask.

Abstract translation: 目的：提供一种用于形成金属图案的方法和半导体器件的制造方法，以在金属层蚀刻工艺中防止光致抗蚀剂图案被损坏，该方法是在形成在该金属层上的光致抗蚀剂图案的表面上形成薄膜覆盖层 金属层。 构成：在基板（10）上形成金属层。 在金属层上形成光刻胶图案（30）。 通过用包含聚合物材料和溶剂的外涂组合物涂覆光致抗蚀剂图案来形成覆盖层（50）。 除去剩余的外涂组合物。 通过使用覆盖层和光致抗蚀剂图案作为蚀刻掩模蚀刻金属层。

公开(公告)号：KR1020120026314A

公开(公告)日：2012-03-19

申请号：KR1020100088467

申请日：2010-09-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정주 ,  김경미 ,  양주형 ,  이보희 ,  김민정 ,  김재호 ,  김영호

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/70916

Abstract: PURPOSE: A method of forming a micropattern is provided to improve LWR(Line Width Roughness) by forming a line-and-space pattern using a negative tone developer. CONSTITUTION: A photoresist(130) is spread on a substrate(110). The photoresist is exposed to outside by corresponding to the pattern of a line-and-space The non-exposure unit of the photoresist is removed using a negative tone developer to form the line-and-space pattern. The space of a spin-on-oxide material is formed in the side wall of the line-and-space pattern. The line-and-space pattern is removed by the developer.

Abstract translation: 目的：提供一种形成微图案的方法，通过使用负色调显影剂形成线间距图案来提高LWR（线宽粗糙度）。 构成：将光致抗蚀剂（130）铺展在基底（110）上。 光致抗蚀剂通过对应于线和空间的图案而暴露于外部。使用负色调显影剂除去光致抗蚀剂的非曝光单元以形成线间距图案。 旋转氧化物材料的空间形成在线间距图案的侧壁中。 线和空间图案由开发者移除。

公开(公告)号：KR1020110054852A

公开(公告)日：2011-05-25

申请号：KR1020090111644

申请日：2009-11-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김지혜 ,  김재호 ,  심재성 ,  이상원

IPC: G06F3/041

CPC classification number: G06F3/04883 ,  G01B21/02 ,  G01B21/28 ,  G06F2203/04808

Abstract: PURPOSE: A terminal including a touch screen and a method for measuring geometric data are provided to measure geometric data for a distance of a specific object, an area, or a volume using a sensed touch event. CONSTITUTION: A terminal performs a geometric data measurement mode(510). If a geometric length measurement is selected, the terminal measures the length(520,530). If an area measurement is selected, the terminal produces an area data(540,550). If a volume measurement is selected, the terminal produces a volume data(560,570). The terminal displays the calculated geometric data(580).

Abstract translation: 目的：提供包括触摸屏的终端和用于测量几何数据的方法，以使用感测到的触摸事件来测量特定对象，面积或体积的距离的几何数据。 构成：终端执行几何数据测量模式（510）。 如果选择几何长度测量，终端测量长度（520,530）。 如果选择区域测量，则终端产生区域数据（540,550）。 如果选择音量测量，终端会产生音量数据（560,570）。 终端显示计算出的几何数据（580）。

公开(公告)号：KR1020100086828A

公开(公告)日：2010-08-02

申请号：KR1020090006262

申请日：2009-01-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재호

IPC: H04N5/262 ,  H04N5/225

CPC classification number: H04N5/262 ,  H04N5/225

Abstract: PURPOSE: An image processing apparatus performing the deletion, re-photographing or the storage of an image by supplying the printing availability of the image is provided to supply the re-photographing, deletion or storage by supplying state information of the image to the user. CONSTITUTION: A status information generator(310) generates one or more status information by the raw data of the stored image of the data storage unit. A compensation unit(330) compensates a state of the selected image. A printing availability decision unit predicts the quality of the image based on state information of the image after compensation. The printing availability decision unit supplies a predicted result to the user.

Abstract translation: 目的：提供通过提供图像的打印可用性来执行图像的删除，重新拍摄或存储的图像处理装置，以通过向用户提供图像的状态信息来提供重新拍摄，删除或存储。 构成：状态信息生成器（310）通过数据存储单元的存储图像的原始数据生成一个或多个状态信息。 补偿单元（330）补偿所选图像的状态。 打印可用性判定单元基于补偿后的图像的状态信息来预测图像的质量。 打印可用性判定单元向用户提供预测结果。