반도체 패키지 기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지
    11.
    发明公开
    반도체 패키지 기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지 审中-实审
    半导体封装衬底和包括其的半导体封装

    公开(公告)号:KR1020150080821A

    公开(公告)日:2015-07-10

    申请号:KR1020140000322

    申请日:2014-01-02

    Abstract: 본발명의실시예에따른패키지기판은반도체칩이부착되는칩 영역을포함하는패키지기판, 상기칩 영역의상기패키지기판상에제 1 방향으로교대로그리고반복적으로배열되는제 1 리드내지제 3 리드들을포함하되, 상기제 1 리드와상기제 2 리드사이의제 1 이격거리및 상기제 3 리드와상기제 3 리드와상기제 1 방향으로인접한상기제 1 리드사이의제 3 이격거리는동일하고, 상기제 2 리드와상기제 3 리드사이의제 2 이격거리는상기제 1 이격거리및 상기제 3 이격거리보다작다.

    Abstract translation: 根据本发明的实施例的封装基板包括:封装基板,其包括用于附接半导体芯片的芯片区域; 以及在芯片区域的封装基板上沿第一方向重复地和交替地布置的第一引线到第三引线。 第一引线和第二引线之间的第一间隔距离与第一引线相邻的第三引线与第三引线之间的第一引线的第三间隔距离相同。 第二引线之间的第二分离距离比第一分离距离和第三分离距离短。

    반도체 소자의 제조 방법
    15.
    发明公开
    반도체 소자의 제조 방법 审中-实审
    制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:KR1020160125830A

    公开(公告)日:2016-11-01

    申请号:KR1020150056843

    申请日:2015-04-22

    Abstract: 반도체소자의제조에서, 기판상에마스크막및 제1 박막을형성하고, 상기제1 박막을사진식각공정을통해패터닝하여 1차패턴을형성하고, 상기 1차패턴표면상에실리콘산화막을형성하고, 상기실리콘산화막표면상에실리콘을포함하는물질을코팅하여코팅막패턴을형성하고, 그리고상기 1차패턴, 상기실리콘산화막및 코팅막패턴을포함하는 2차패턴을식각마스크로이용하여상기마스크막을식각하여마스크패턴을형성한다. 상기방법에의하면, 균일한크기를갖는마스크패턴을형성할수 있다.

    Abstract translation: 在制造半导体器件的方法中,掩模层和第一层可以顺序形成在衬底上。 可以通过光刻工艺来构图第一层以形成第一图案。 可以在第一图案上形成氧化硅层。 可以在氧化硅层上形成包括硅的涂层图案。 可以使用第二图案作为蚀刻掩模蚀刻掩模层以形成掩模图案,并且第二图案可以包括第一图案,氧化硅层和涂层图案。 掩模图案可以具有均匀的尺寸。

    오르토-니트로벤질 에스테르 화합물 및 이를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물
    19.
    发明公开
    오르토-니트로벤질 에스테르 화합물 및 이를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물 无效
    邻氨基苯甲酸酯化合物和包含其的阳性类型的感光性树脂组合物

    公开(公告)号:KR1020120066924A

    公开(公告)日:2012-06-25

    申请号:KR1020100128278

    申请日:2010-12-15

    Abstract: PURPOSE: An ortho-nitrobenzyl ester compound is provided to restrain the dissolution of non-exposure part, and to provide a positive type photosensitive resin composition with excellent sensitivity, resolution, pattern formation, and removal of residue. CONSTITUTION: An ortho-nitrobenzyl ester compound comprises a compound in chemical formula 1. In chemical formula 1, R^1 and R^2 is respectively and independently C1-20 aliphatic organic group, or a substituted or unsubstituted cycloaliphatic organic group, R^3 and R^4 is respectively and independently single bond, or substituted or unsubstituted divalent C1-20 aliphatic organic group, and Z^1 and Z^2 is respectively and independently a hydroxy group, an amine group, a carboxy group, or an aldehyde group, n1 and n2 is respectively and independently an integer from 0-5, and n1+n2 is an integer from 1-5.

    Abstract translation: 目的:提供邻硝基苄酯化合物以抑制非曝光部分的溶解,并提供具有优异的灵敏度,分辨率,图案形成和残留物去除的正型感光性树脂组合物。 构成:邻硝基苄基酯化合物包括化学式1中的化合物。在化学式1中,R 1和R 2分别为C 1-20脂族有机基团或取代或未取代的脂环族有机基团R 1, 3和R 4分别为单键或取代或未取代的二价C 1-20脂族有机基团,Z 1和Z 2分别独立地为羟基,胺基,羧基或 醛基,n1和n2分别为0-5的整数,n1 + n2为1-5的整数。

    신규 페놀 화합물 및 이를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물
    20.
    发明公开
    신규 페놀 화합물 및 이를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물 无效
    新型酚醛化合物和含有它们的正型感光树脂组合物

    公开(公告)号:KR1020120066923A

    公开(公告)日:2012-06-25

    申请号:KR1020100128277

    申请日:2010-12-15

    CPC classification number: G03F7/0226 C07C69/84 G03F7/0233

    Abstract: PURPOSE: A positive type photosensitive composition is provided to improve physical properties and reliability of a membrane, and to boating excellent sensitivity, resolution, pattern formation, removal of residue, high elongation, high tensile strength, and low membrane shrinkage. CONSTITUTION: A phenol compound comprises one selected from a group consisting of a compound in chemical formula 1, a compound in chemical formula 2, and combinations thereof. A positive type photosensitive composition comprises 100.0 parts by weight of polybenzoxazole precursor, 5-100 parts by weight of a photosensitive diazoquinone compound, 1-30 parts by weight of a phenol compound, 0.1-30 parts by weight of a silane compound, and 50-300 parts by weight of a solvent. The polybenzoxazole precursor has the weight average molecular weight of 3,000-300,000.

    Abstract translation: 目的:提供一种正型感光组合物,以改善膜的物理性能和可靠性,并且具有优异的灵敏度,分辨率,图案形成,残留物的去除,高伸长率,高拉伸强度和低膜收缩率。 构成:酚化合物包括选自化学式1中的化合物,化学式2中的化合物及其组合的一种酚化合物。 正型感光性组合物包含100.0重量份聚苯并恶唑前体,5-100重量份光敏重氮醌化合物,1-30重量份酚化合物,0.1-30重量份硅烷化合物和50 -300重量份溶剂。 聚苯并恶唑前体的重均分子量为3,000-300,000。

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