Abstract:
PURPOSE: A chip stack package is provided to shorten an electrical interconnection path and increase an interconnection density by three-dimensionally stacking semiconductor chips with various functions or the same semiconductor chips in one package and by interconnecting the semiconductor chips or the semiconductor chip and a substrate while using a penetration electrode formed in each semiconductor chip and micro bumps formed on the surface of the chip. CONSTITUTION: A plurality of semiconductor chips(11,11a) include a predetermined portion of a scribe line(S1,S2) that is formed to saw a wafer into individual chip units. A penetration electrode(19) penetrates the upper surface of a chip toward the lower surface of the chip in a predetermined portion of the scribe line, connected to an integrated circuit. The semiconductor chips are vertically stacked by the connection of the penetration electrodes. The lowermost semiconductor chip is mounted on one surface of a substrate(31) by a connection with the penetration electrode. An external connection terminal is mounted on the opposite surface to the chip mount surface of the substrate.
Abstract:
PURPOSE: A method of forming a bump without surface defects is provided to remove simply a second UBM(Under Bump Metallurgy) layer while removing a first and second photoresist pattern by using a lift-off manner. CONSTITUTION: A first photoresist pattern(115) with an opening(113) for exposing a pad(105) is formed on a semiconductor wafer(100). By depositing UBM metal thereon, a first UBM layer(120a) is formed on the pad and a second UBM layer(120b) is formed on the first photoresist pattern. A second photoresist pattern(125) for exposing the first UBM layer to the outside is formed thereon. A solder bump(130) is filled in the opening. By using a lift-off manner, the second UBM layer is removed therefrom.
Abstract:
다층 배선 패턴의 식각을 최소화하여 신뢰성이 높은 관통 전극을 갖는 반도체 칩, 반도체 패키지 및 그 제조 방법이 제공된다. 상기 반도체 칩에 따르면, 제 1 면 및 제 2 면을 갖는 반도체 기판이 제공된다. 집적 회로층은 상기 반도체 기판의 제 1 면 상에 제공되고, 층간 절연층은 상기 집적 회로층 상에 제공된다. 관통 전극은 상기 반도체 기판 및 상기 층간 절연층을 관통하여, 상기 반도체 기판의 제 2 면으로부터 노출된다. 다층 배선 패턴은 상기 층간 절연층 상에 형성되고, 상기 관통 전극과 연결된다. 금속간 절연층은 상기 다층 배선 패턴을 덮도록 제공된다. 도전성 패드는 상기 금속간 절연층 상에 형성되고 상기 다층 배선 패턴을 통해서 상기 관통 전극과 연결된다.
Abstract:
3 차원의 직렬 및 병렬 회로들을 가지고 차례로 적층된 집적회로 모듈들을 전기적으로 접속하는 반도체 집적회로 장치 및 그 장치의 형성방법을 제공한다. 이를 위해서, 모듈 기판이 준비될 수 있다. 상기 모듈 기판은 적어도 하나의 논리 영역을 가질 수 있다. 상기 논리 영역(Logic Region)은 회로 영역(Circuitry Region) 및 관통 플러그(Through Plug)를 가질 수 있다. 상기 모듈 기판(Module Substrate)의 일 면 및 다른 면 상에 제 1 및 2 층간절연막이 배치될 수 있다. 상기 제 1 및 2 층간절연막 상에 접속 패턴(Connecting Pattern)들이 배치될 수 있다. 상기 접속 패턴들은 제 1 및 2 층간절연막들을 통해서 회로 영역 및 관통 플러그와 전기적으로 접속할 수 있다. 상기 모듈 기판, 제 1 및 2 층간절연막들 그리고 접속 패턴들은 집적회로 모듈을 구성할 수 있다. 모듈 기판, 회로 영역, 관통 플러그, 접속 패턴
Abstract:
PURPOSE: A multi-chip package with three dimensional mesh based power distribution network and a power distribution method thereof are provided to implement stability of the power transmission and reduce voltage drop in a semiconductor memory device. CONSTITUTION: A multi-chip package includes semiconductor memory devices(M1-M8). Semiconductor memory devices are laminated with 3 dimension. The semiconductor memory devices are connected with the mesh. In a power distribution method, the 2 dimensional mesh based power distribution network is formed on semiconductor memory devices. The semiconductor memory devices are stacked. The semiconductor memory devices are connected using TSV(Through Silicon Via)(11). The semiconductor memory devices comprise the 3 dimensional mesh based power distribution network. The power is distributed through the 2 and 3 dimensional mesh based power distribution networks.
Abstract:
A stacked semiconductor device package and a manufacturing method thereof are provided to enhance physical and electrical reliability by forming a reliable stacked structure. Each of semiconductor elements includes a plurality of bonding pads disposed on an upper surface thereof, a lower surface opposing the upper surface, through-hole electrodes(122) having lower protrusions, and a first adhesive material layer(130) formed on the upper surface to obtain an upper surface of the same height as the height of the upper surface of the through-hole electrodes. A second adhesive material layer is formed to cover the through-hole electrodes and the first adhesive material layer. The second adhesive material layer is punched by using the protrusions of the through-hole electrodes so that the through-hole electrodes are connected to each other. The first adhesive material layer includes a material to be patterned. The second adhesive material layer includes a material to be punched.
Abstract:
A semiconductor package having an anchor type coupling structure and a manufacturing method thereof are provided to improve connection reliability by contacting directly a plug structure to an oxidation-preventing metal pattern of a different package unit in a socket region. A plurality of semiconductor chips are manufactured. A plug structure(199) is formed, and the plug structure penetrates the semiconductor chip and defines a recessed socket region from the one surface of the semiconductor chip, and then is protruded to the other surface. The plug structure is connected directly to the inner sidewall of the socket region by inserting the plug structure into the socket region of the other semiconductor chip.
Abstract:
본 발명은 보호판이 부착된 이미지 센서 칩과 그의 제조 방법에 관한 것으로, 웨이퍼 레벨에서 이미지 센서 칩의 마이크로 렌즈의 오염을 막을 수 있고, 이미지 센서 칩과 플랙서블 기판 사이의 전기적 연결 통로 길이를 최소화하기 위해서, 본 발명은 활성면의 가장자리 둘레에 칩 패드가 형성되어 있고, 상기 칩 패드 안쪽의 영역에 마이크로 렌즈가 형성된 이미지 센서 칩과; 상기 마이크로 렌즈를 덮도록 상기 활성면에 부착되며, 상기 활성면과 마주보는 면에 상기 칩 패드와 상기 마이크로 렌즈 사이의 영역에 대응되게 감광성 접착 패턴이 형성된 투명한 보호판;을 포함하며, 상기 이미지 센서 칩은, 상기 활성면에 반대되는 후면을 통하여 상기 칩 패드에 접속되는 금속 플러그와; 상기 후면에 노출된 금속 플러그에 형성된 솔더 볼;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 보호판이 부착된 이미지 센서 칩과 그의 제조 방법을 제공한다. 이미지 센서, 촬상, 감광, 접착제, 웨이퍼 레벨
Abstract:
본 발명은 웨이퍼 레벨 칩 스택 패키지 제조 방법에 관한 것으로서, ⒜칩 가장자리 부분에 관통전극이 형성되고 그 관통전극의 일측 부분에 범프가 형성된 반도체 칩 복수 개를 갖는 웨이퍼들을 준비하는 단계, ⒝칩 단위로 고상 접착수단을 부착하는 단계, ⒞상하 반도체 칩들간 서로 대응되는 관통전극을 범프 본딩시키고 상기 고상 접착수단에 의해 상하 반도체 칩들이 부착되도록 하여 복수의 웨이퍼를 적층시키는 단계, ⒟적층된 웨이퍼들을 칩 스택 패키지 단위로 절단하는 단계, 및 ⒠칩 스택 패키지의 반도체 칩들 사이의 공간에 액상 접착수단을 주입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따르면, 웨이퍼 레벨이나 칩 레벨 등에서의 칩 적층 과정에서 물리적인 또는 기계적인 안전성이 확보될 수 있으며 신뢰성이 확보될 수 있다. 또한, 칩 적층 후 범프 연결에 대한 검사도 가능하게 된다.