公开(公告)号：KR1020060064066A

公开(公告)日：2006-06-12

申请号：KR1020067004349

申请日：2005-03-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 츠루사키고타로 ,  다나카히로시 ,  도시마다카유키 ,  에시마가즈요시

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67086 ,  H01L21/6708

Abstract: Treatment liquid supply nozzles (10) are individually arranged on both left and right sides of a semiconductor wafer (W) in a treatment vessel (1). A discharge opening of each of the nozzles (10) faces the semiconductor wafer (W). According to a predetermined procedure, a treatment liquid is discharged from one or more selected nozzles (10). To perform chemical liquid treatment, for example, first a chemical liquid is discharged from nozzles (10) on the lowermost positions, and then nozzles (10) for discharging the chemical liquid are sequentially changed to upper ones. To perform rinse treatment while the chemical liquid in the treatment vessel (1) is replaced with a rinse liquid, for example, first the rinse liquid is discharged from the nozzles (10) on the lowermost positions, and then the rinse liquid is discharged from all the nozzles (10). By this, liquid treatment is improved in efficiency and uniformity.

Abstract translation: 处理液供给喷嘴（10）分别设置在处理容器（1）中的半导体晶片（W）的左右两侧。 每个喷嘴（10）的排出口面向半导体晶片（W）。 根据预定的步骤，从一个或多个选定的喷嘴（10）排出处理液。 为了进行化学液处理，例如首先从最低位置的喷嘴（10）排出化学液，然后将用于排出药液的喷嘴（10）顺序地变更为上方。 为了在处理容器（1）中的化学液体被冲洗液体更换的情况下进行冲洗处理，例如首先将冲洗液从最下方的喷嘴（10）排出，然后将冲洗液从 所有喷嘴（10）。 由此，提高了液体处理的效率和均匀性。

公开(公告)号：KR100175072B1

公开(公告)日：1999-04-01

申请号：KR1019920007937

申请日：1992-05-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 무라카미신야 ,  가키카와유우지 ,  이즈미신이치이로 ,  아나이노리유키 ,  사토오다카미 ,  시라이시히로후미 ,  하라다코지 ,  도모에다다카유키 ,  다나카히로시

IPC: H01L21/304

Abstract: 세정장치는, 피처리체를 반출 및 반입하기 위한 개구부를 가지고, 처리액에 의하여 피처리체를 세정하기 위한 세정처리실과, 상기 개구부를 개폐하기 위한 개폐기구와, 상기 개구기구를 세정하기 위한 세정노즐과를 갖추고 있다. 또, 세정처리액이 저유되고 피처리체를 세정처리액에 의하여 세정하는 세정처리 용기를 갖추고 있으며, 이 용기로부터 세정액이 배출되어서 피처리체의 적어도 일부가 노출하였을 때에, 피처리체에 세정액을 공급하는 노즐을 갖추고 있다.

公开(公告)号：KR1019930005156A

公开(公告)日：1993-03-23

申请号：KR1019920015418

申请日：1992-08-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  니시미쓰오 ,  미조구치류이치 ,  가미카와유우지

IPC: H01L21/68

Abstract: 내용 없음.

公开(公告)号：KR1019920022412A

公开(公告)日：1992-12-19

申请号：KR1019920007937

申请日：1992-05-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 무라카미신야 ,  가키카와유우지 ,  이즈미신이치이로 ,  아나이노리유키 ,  사토오다카미 ,  시라이시히로후미 ,  하라다코지 ,  도모에다다카유키 ,  다나카히로시

IPC: H01L21/304

Abstract: 내용 없음.