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公开(公告)号：KR1020120118440A
公开(公告)日：2012-10-26
申请号：KR1020120040281
申请日：2012-04-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: B08B3/10 , B08B3/02 , B08B3/022 , B08B3/024 , B08B3/04 , B08B3/041 , B08B3/048 , H01L21/67017 , H01L21/67034 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , Y10S134/902
Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method and a computer readable memory medium with a program are provided to lift two cups without synchronization control by transferring driving force of a first driving unit installed in the first cup to the second cup. CONSTITUTION: A spin chuck(21) holds a wafer(W). A rotary shaft(22) rotates the spin chuck by a rotary motor(23). A processing liquid nozzle(31) supplies various processing liquid on the upper surface of the wafer. Three cups(51,52,53) receive the processing liquid scattered from a gap. An organic liquid supply unit(42) supplies isopropyl alcohol(IPA) to the wafer. [Reference numerals] (1) Liquid processing device; (21) Spin chuck; (31) Processing liquid nozzle; (42) Organic liquid; (43) Acid; (44) Alkali; (45) Rinse liquid; (51) First cup; (52) Second cup; (53) Third cup; (7) Controller; (AA) Wafer; (BB) Actuator
Abstract translation: 目的：提供具有程序的液体处理装置，液体处理方法和具有程序的计算机可读存储介质，以通过将安装在第一杯中的第一驱动单元的驱动力传递到第二杯来提升两个杯而不进行同步控制。 构成：旋转卡盘（21）保持晶片（W）。 旋转轴（22）通过旋转马达（23）旋转旋转卡盘。 处理液喷嘴（31）在晶片的上表面上提供各种处理液。 三杯（51,52,53）接收从间隙散开的处理液。 有机液体供应单元（42）向晶片提供异丙醇（IPA）。 （附图标记）（1）液体处理装置; （21）旋转卡盘 （31）加工液体喷嘴; （42）有机液体; （43）酸; （44）碱 （45）冲洗液体; （51）第一杯; （52）第二杯; （53）第三杯; （7）控制器; （AA）晶圆; （BB）执行机构
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公开(公告)号：KR1020110132971A
公开(公告)日：2011-12-09
申请号：KR1020110039569
申请日：2011-04-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: PURPOSE: A substrate liquid treatment apparatus is provided to improve the design freedom of a cup structure by installing a partition wall which prevents interference with a liquid guideline center cup between a tank for a first drain and a tank for a second drain. CONSTITUTION: A positional adjusting mechanism adjusts a position relation between a first guideline cup(131) and a second guideline cup(141). A tank(161) for collecting first treatment liquid collection is formed in the lower side of the first guideline cup and the second guideline cup. The tank for collecting the first treatment liquid collects treatment liquid which is guided by the first guideline cup. A tank(162) for collecting second treatment liquid is installed in the inner circumferential side of the tank for collecting the first treatment liquid. The tank for collecting the second treatment liquid collects treatment liquid which is guided by the second guideline cup.
Abstract translation: 目的：提供一种基板液体处理装置，通过安装隔离壁来改善杯形结构的设计自由度，防止与第一排水槽和第二排水槽之间的液体引导杯中心杯的干涉。 构成：位置调节机构调整第一准线杯（131）和第二准杯（141）之间的位置关系。 用于收集第一处理液体收集物的罐（161）形成在第一引导杯和第二引导杯的下侧。 用于收集第一处理液的罐收集由第一准线杯引导的处理液。 用于收集第二处理液体的罐（162）安装在用于收集第一处理液体的罐的内周侧。 用于收集第二处理液体的罐收集由第二准线杯引导的处理液。
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23.发明公开기판 액처리 장치, 기판 액처리 장치의 제어 방법 및 기판 액처리 장치의 제어 방법을 기판 액처리 장치로 실시하게 하는 기록 매체 有权用于基板的液体处理装置，用于控制其的方法和用于执行方法的储存介质
公开(公告)号：KR1020110132969A
公开(公告)日：2011-12-09
申请号：KR1020110037938
申请日：2011-04-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , Y10T137/8593
Abstract: PURPOSE: A substrate liquid treatment apparatus and a method for controlling the substrate liquid treatment apparatus and a recording medium are provided to efficiently divide and collect mist more than 3 kinds by guiding distributed liquid to a cup by a driving tool. CONSTITUTION: A liquid supply part supplies liquid in a substrate which is arranged on an arrangement table. A liquid guideline top cup(21), a liquid guideline center cup(22), and a liquid guideline bottom cup(23) are successively included in order to guide liquid which is distributed from the substrate to lower side. A driving tool is connected to the liquid guideline center cup. The driving tool elevates the liquid guideline top cup, the liquid guideline center cup, and the liquid guideline bottom cup. The liquid guideline top cup rises by being supported to the liquid guideline center cup and comprises an outer flange on an outer circumferential wall.
Abstract translation: 目的：提供一种基板液体处理装置和用于控制基板液体处理装置和记录介质的方法，以通过驱动工具将分配的液体引导至杯子来有效地分割和收集3种以上的雾。 构成：液体供应部件在布置在布置台上的基板中供应液体。 依次包括液体引导杯顶盖（21），液体引导杯中心杯（22）和液体导向底杯（23），以将从基底分配的液体引导到下侧。 驱动工具连接到液体导向杯中心。 驱动工具提升液体导向杯，液体指南中心杯和液体指导底杯。 液体导向杯顶部通过支撑在液体引导杯中心杯上而升高，并且包括在外周壁上的外凸缘。
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公开(公告)号：KR101949722B1
公开(公告)日：2019-02-19
申请号：KR1020130140481
申请日：2013-11-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
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公开(公告)号：KR101580708B1
公开(公告)日：2015-12-28
申请号：KR1020110124277
申请日：2011-11-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/68785 , H01L21/68792
Abstract: 본발명은, 기판의하면에효율적으로액체세정및 2 유체세정을행할수 있는액 처리장치를제공한다. 기판세정장치(10)는, 기판유지부에유지된기판(W)의아래쪽에위치하여기판의하면에액체와기체를혼합하여이루어지는 2 유체를토출할수 있도록구성된노즐(60)을구비한다. 노즐은, 액체를토출하기위한복수의액체토출로(67a)와, 기체를토출하기위한복수의기체토출로(67b)를갖고있다. 노즐은, 복수의액체토출로에각각대응하는복수의액체토출구(61)를갖고있다. 액체토출구는, 기판유지부에유지된기판의주연부로부터안쪽을향하도록기판의아래쪽으로연장하는수평선상에형성되어있다. 액체토출구는, 기체토출로에기체가공급되지않고액체토출로에액체가공급되고있을때에, 액체토출구로부터기판의하면을향해서토출되는액체의토출방향이, 기판의하면을포함하는평면에대하여회전구동부에의해회전되는기판의회전방향으로어떤각도를이루어경사지도록형성되어있다.
Abstract translation: 本发明提供一种能够在基板上有效地进行液体清洗和双流体清洗的液体处理装置。 基板清洗装置10设置在被基板保持单元保持的基板W的下方，并且包括喷嘴60，该喷嘴60配置为排出通过在基板上混合液体和气体而形成的两种流体。 喷嘴具有用于排出液体的多个液体排出路径67a和用于排出气体的多个气体排出路径67b。 每个喷嘴具有与多个液体排出路径对应的多个液体排出口61。 液体排出口形成在从基板向下延伸的水平线上，以便从由基板保持部分保持的基板的周边边缘向内面向内。 液体排出口被布置成使得当气体不被供应到气体排出路径并且液体被供应到液体排出路径时从液体排出口朝向基板的表面排出的液体的排出方向被布置， 并且在由基板旋转的基板的旋转方向上倾斜一定角度。
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Patent Agency Ranking26.发明授权
公开(公告)号：KR101524334B1
公开(公告)日：2015-05-29
申请号：KR1020110040843
申请日：2011-04-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B15/002 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/67173
Abstract: 본발명은피처리체를액처리하는액처리부내의압력의변동을억제할수 있는액처리장치를제공한다. 본발명에따른액처리장치(1)는, 피처리체(W)에대하여처리액을공급하여피처리체(W)를액처리하는복수의액처리부(3)와, 복수의액처리부(3) 내의분위기를배출하는공통배기로(6)와, 액처리부(3)의각각과공통배기로(6)를연결하는개별배기로(35)와, 개별배기로(35)에개폐가능하게마련된개폐기구(5)와, 공통배기로(6)에외기를취입하는외기취입부(65)를구비하고있다. 공통배기로(6)에는, 외기취입부(65)로부터취입되는외기의유량을조정하는취입량조정밸브가마련되어있다. 제어부(100)는, 개폐기구(5)의각각의개폐상태에기초하여, 취입량조정밸브의개방도를제어하도록되어있다.
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公开(公告)号：KR101490538B1
公开(公告)日：2015-02-05
申请号：KR1020100082559
申请日：2010-08-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B3/04 , B08B11/02 , H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/68742 , H01L21/68792
Abstract: 본 발명은, 기판의 건조후에 리프트 핀에 처리액이 남는 것을 방지하고, 이것에 의해 액처리후의 기판의 이면에 처리액이 부착되는 것을 방지할 수 있는 액처리 장치 및 액처리 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시형태인 기판 세정 장치(10)에는, 기판(W)을 유지하는 유지 플레이트(30)와, 유지 플레이트(30)의 상방에 마련되고, 기판(W)을 아래쪽으로부터 지지하는 리프트 핀(22)을 갖는 리프트 핀 플레이트(20)와, 유지 플레이트(30)에 의해 유지된 기판(W)의 이면에 처리액을 공급하는 처리액 공급부(40)가 마련되어 있다. 처리액 공급부(40)는, 리프트 핀 플레이트(20)의 관통 구멍(20a)을 막도록 마련된 헤드 부분(42)을 갖고 있다. 처리액 공급부(40) 및 리프트 핀 플레이트(20)는 유지 플레이트(30)에 대하여 상대적으로 승강하도록 되어 있다.-
公开(公告)号：KR101464613B1
公开(公告)日：2014-11-24
申请号：KR1020120025403
申请日：2012-03-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 간소한 방법으로, 행해지는 액처리에 적합한 처리 분위기를 형성하는 것이 가능한 액처리 장치 등을 제공한다. 하우징 내의 처리 공간(21)에서 피처리 기판(W)의 표면으로 처리액을 공급하여 액처리를 행하는 액처리 장치(2)에서, 회전 보지부(33, 341)는 피처리 기판(W)을 보지(保持)하여 수직축을 중심으로 회전시키고, 처리액 공급 노즐(35)은 회전하는 피처리 기판(W)의 표면으로 처리액을 공급한다. 제 1 기체 공급부(23)는, 상기 액처리에 적합한 처리 분위기를 형성하기 위하여, 피처리 기판(W)의 표면 전체를 흘러, 컵(31)으로 유입하는 제 1 기체의 하강류를 형성하고, 제 2 기체 공급부(22)는 이 제 1 기체의 하강류의 외방 영역에, 상기 제 1 기체와는 상이한 제 2 기체의 하강류를 형성한다. 그리고, 제 1 기체 공급부(23) 및 제 2 기체 공급부(22)는, 상기 처리 공간(21)을 이루는 하우징의 천장부에 설치되어 있다.
Abstract translation: 提供了一种能够以简单的方式形成适合于液体处理的处理气氛的液体处理装置等。 在向壳体内的处理空间21内的基板W的表面供给处理液而进行液体处理的液体处理装置2中，为了保持被处理基板W而设置有旋转保持部33,341 并且，处理液供给喷嘴35将处理液供给到被处理基板W的表面而旋转。 第一气体供应单元23流动基板W的整个表面以形成流入杯31中的第一气体的向下流动，以形成适于液体处理的处理气氛， 第二气体供给部22在第一气体的下游侧以外的区域形成与第一气体不同的第二气体的下游。 第一气体供给部23和第二气体供给部22设置在构成处理空间21的壳体的顶部。
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公开(公告)号：KR101224272B1
公开(公告)日：2013-01-18
申请号：KR1020090019842
申请日：2009-03-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: B05C11/08 , H01L21/68 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/162 , H01L21/6715 , H01L21/68742 , H01L21/68785
Abstract: 도포 장치는, 기판(W)의 표면 중앙부에 공급된 도포액을 기판의 표면 둘레 가장자리부에 원심력에 의해 확산시키기 위해 기판 유지부(11)를 수직 축 둘레로 회전시키는 구동부(12)를 구비한다. 또한, 이 장치는, 기판의 이면과 대향하도록 각각 마련된 토출구(50a) 및 흡인구(50b)를 가지며, 토출구로부터 기체를 토출하고 흡입구로 기체를 흡인함으로써 회전중인 기판의 흔들림을 억제하는 흔들림 억제 기구(50)를 구비한다.
도포 장치-
公开(公告)号：KR1020120106584A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：KR1020120025403
申请日：2012-03-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and method and a storage medium are provided to locally form process atmosphere suitable for liquid processing on the entire surface of a processed substrate by changing supply amount from a first gas supply unit. CONSTITUTION: A rotation holding unit rotates a processed substrate around a vertical axis. A process liquid supply nozzle(35) supplies a processing liquid to the surface of the rotating processed substrate. A first gas supply unit(23) forms a descending current of first gas entering into a cup(31) flowing through the entire surface of the processed substrate. A second gas supply unit(22) forms the descending current of second gas different from the first gas in an outside area of the descending current of the first gas. The first and second gas supply units are arranged in a ceiling portion of a housing comprising a process space. [Reference numerals] (2) Liquid processing unit; (22(20)) Second gas supply unit; (23) First gas supply unit; (5) Control unit; (W) Photoresist whose pattern is formed on a wafer
Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和方法以及存储介质，通过改变来自第一气体供应单元的供给量，在处理过的基板的整个表面上局部地形成适合于液体处理的工艺气氛。 构成：旋转保持单元围绕垂直轴旋转经处理的基板。 处理液供给喷嘴（35）将处理液供给到旋转处理基板的表面。 第一气体供给单元（23）形成进入流过处理过的基板的整个表面的杯状物（31）的第一气体的下降电流。 第二气体供给单元（22）在第一气体的下降电流的外部区域形成与第一气体不同的第二气体的下降电流。 第一和第二气体供应单元布置在包括处理空间的壳体的顶部。 （附图标记）（2）液体处理单元; （22（20））第二气体供给单元; （23）第一气体供应单元; （5）控制单元; （W）在晶片上形成图案的光致抗蚀剂
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