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公开(公告)号：KR1020090051422A
公开(公告)日：2009-05-22
申请号：KR1020070117809
申请日：2007-11-19
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/162 , B05D1/005 , G03F7/707 , G03F7/70758
Abstract: 본 발명은 원통형 기판을 회전시키면서 발생하는 원심력으로 얇고 균일한 두께의 코팅막을 표면에 형성하는 원통형 기판용 스핀 코터 및 이를 이용한 코팅방법에 관한 것이다.
이를 위하여 본 발명은 기판에 균일한 코팅막을 형성하는 스핀 코터에 있어서,
제어부에 의해 회전속도가 조절되는 모터의 모터축과 연결되는 회전판; 상기 회전판의 길이방향 가장자리에 마련되는 복수의 고정대와 이 고정대로부터 일정 간격 이격된 회전판의 내측에 구성되는 복수의 수평이동대; 상기 고정대와 수평이동대에 설치되어 원통형 기판의 중심축에 연결되는 지지축;을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 원통형 기판용 스핀 코터를 제공한다.
그리고, 상기 고정대는 높이조절을 위한 높이조절장치가 더 포함되어 설치된다.
원통, 기판, 모터, 회전, 원심력, 중력, 기어, 감광제-
22.发明授权미세 패턴 형성용 고분자 몰드의 제조 방법, 이에 의해 제조되는 미세 패턴 형성용 고분자 몰드, 및 이를 이용한 미세 패턴 형성 방법 有权用于形成精细图案的聚合物模具的制造方法，由其制造的聚合物模具以及使用该胶片形成精细图案的方法
公开(公告)号：KR101416625B1
公开(公告)日：2014-07-08
申请号：KR1020120062344
申请日：2012-06-11
Applicant: 한국전기연구원
Abstract: 본 발명은 PDMS나 자외선 경화 수지를 사용하여 제조한 종래의 고분자 몰드가 가지는 문제점을 해결할 수 있는 새로운 재질의 고분자 몰드 및 그 제조 방법을 제공하는데 주된 목적이 있는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 기판에 전사하고자 할 나노 또는 마이크로 패턴이 형성된 마스터 몰드를 제공하는 공정; 상기 패턴이 형성된 마스터 몰드의 표면에 PVA 수용액을 도포한 후 경화시켜 PVA 몰드층을 형성하는 공정; 상기 PVA 몰드층에 접합층을 개재한 상태로 몰드 베이스층을 적층 형성하는 공정; 및 상기 마스터 몰드를 분리하여 PVA 몰드층 및 접합층, 몰드 베이스층으로 이루어진 일체의 고분자 몰드를 완성하는 공정;을 포함하는 미세 패턴 형성용 고분자 몰드의 제조 방법을 제공한다.
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公开(公告)号：KR101410743B1
公开(公告)日：2014-06-24
申请号：KR1020120142435
申请日：2012-12-10
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01J37/22 , H01J37/317 , H01L21/302
Abstract: 본 발명은 플라즈마 잠입 이온을 이용한 나노패턴 가공 장치 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가속 이온을 이용한 저온 플라즈마 잠입 이온으로 시편의 표면에 다양한 형태의 나노패턴을 형성하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
이에 본 발명은, 전기적으로 절연되며, 플라즈마가 채워지는 진공 챔버; 가공물이 놓여지는 부분으로서, 진공 챔버의 내부에 설치되어 가공물과 함께 회전가능한 받침대; 상기 가공물 및 받침대의 회전을 위한 회전수단; 전도성을 가지면서 가공물을 둘러싸서 가공물을 플라즈마로부터 분리시키며, 전기적으로 가공물과 연결되는 덮개; 적어도 상기 덮개의 한 면 이상에 회전가능하게 구비되고, 가공물의 표면을 따라 배치되는 슬롯;을 포함하며, 상기 슬롯을 회전시켜 형성하고자 하는 나노패턴의 형상에 따라 소정의 각도로 세팅함으로써, 플라즈마로부터 나온 이온이 슬롯을 통해 덮개와 가공물 사이의 공간으로 이끌리게 되어 가공물의 표면에 충돌하게 될 때, 상기 슬롯의 각도에 따라 가공물의 표면에 원하는 나노패턴을 형성할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 플라즈마 잠입 이온을 이용한 나노패턴 가공 장치를 제공한다.-
公开(公告)号：KR1020140074464A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：KR1020120142435
申请日：2012-12-10
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01J37/22 , H01J37/317 , H01L21/302
Abstract: The present invention relates to a device and a method for processing nanopatterns using plasma immersion ions and, more specifically, to a device and a method for forming nanopatterns of various types on the surface of a sample by low temperature plasma immersion ions by using acceleration ions. The device for processing nanopatterns using plasma immersion ions comprises: a vacuum chamber which is electrically insulated and is filled with plasma; a rack which is installed in the vacuum chamber to receive a processed article and is rotatable along with the processed article; a rotating means to rotate the processed article and the rack; a cover which has conductivity, covers the processed article to separate the processed article from the plasma, and is electrically connected to the processed article; and a slot which is included to be rotated in at least one or more surfaces of the cover and is arranged along the surface of the processed article. The desired nanopatterns are formed on the surface of the processed article according to an angle of the slot by rotating the slot to be set at a certain angle according to the shape of nanopatterns to be formed when the ions extracted from the plasma are led to the space between the cover and the processed article through the slot and the ions collide with the surface of the processed article.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用等离子体浸没离子处理纳米图案的装置和方法，更具体地涉及通过使用加速离子通过低温等离子体浸入离子在样品表面上形成各种类型的纳米图案的装置和方法 。 使用等离子体浸没离子处理纳米图案的装置包括：电绝缘并填充有等离子体的真空室; 安装在真空室中以容纳处理物品并与处理物品一起旋转的搁架; 用于旋转经处理的物品和搁架的旋转装置; 具有导电性的覆盖物覆盖加工制品以将处理的物品与等离子体分离，并与处理物品电连接; 以及包括在所述盖的至少一个或多个表面中旋转并沿着所述处理物品的表面布置的槽。 根据当从等离子体提取的离子被引导到所形成的纳米图案的形状时，根据槽的角度将所需的纳米图案的形状转换成一定角度，形成所需的纳米图案。 通过狭槽，盖子和被处理物品之间的空间和离子与处理物品的表面碰撞。
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公开(公告)号：KR101264224B1
公开(公告)日：2013-05-14
申请号：KR1020100138525
申请日：2010-12-30
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/68 , H01L21/02 , H01L21/027
CPC classification number: H02K7/09 , H02K16/00 , H02K21/12 , H02K41/031 , H02K2201/15 , H02K2201/18
Abstract: 본발명은원통형자기부상스테이지에관한것으로서, 원통의부상이이루어지는수직방향(상하방향), 직선이송방향이되는축방향, 그리고원통의회전방향과더불어, 원통단면상좌우방향이되는수평방향으로도원통의위치를정밀하게제어할수 있는원통형자기부상스테이지를제공하는데주된목적이있는것이다. 상기한목적을달성하기위해, 원통금형에일체로장착되고영구자석배열체를구비하여영구자석배열체와하기베이스부의전자석배열체간 상호작용에의한자기부상력, 자기회전력, 자기이송력에의해부상하여비접촉식으로회전및 직선이송이가능한원통이동부와; 전자석배열체를구비하고상기원통이동부의하측으로배치되어비접촉으로원통이동부를회전및 직선이송가능하게지지하는베이스부와; 상기원통이동부의측방으로배치되고전자석배열체를구비하여상기전자석배열체와원통이동부의영구자석배열체간 상호작용에의해발생하는수평이송력으로원통이동부및 원통금형의수평방향위치를제어하는수평자기부상보조부;를포함하여구성되는원통형자기부상스테이지가개시된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101243182B1
公开(公告)日：2013-03-14
申请号：KR1020100126316
申请日：2010-12-10
Applicant: 한국전기연구원
Abstract: 본 발명은 지문 상의 인체 분비물에 의하여 필름 표면이 오염되는 것을 방지하기 위하여 지문 생성을 억제하는 내지문 기능을 갖는 내지문 필름 및 이러한 내지문 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
이와 관련하여, 본 발명에서는 인체 분비물이 필름의 기재의 표면에 머무르는 것을 저해할 수 있도록 간단한 제조 공정에 의하여 내지문 기능을 수행하기 위한 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법 및 이러한 방법에 의하여 제조된 내지문 필름을 제공하고자 한다.
이를 위해, 본 발명에서는 내지문 필름의 제조 방법에 있어서, 나노 구조물이 형성된 원통형 금형을 이용하여 UV 임프린트 롤 투 롤 공정을 수행함에 따라, 필름 표면 상에 상기 나노 구조물에 대응되는 나노 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법을 제공한다.
또한, 본 발명에서는 이러한 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법을 구현함에 있어서, 상기 원통형 금형은 진공 챔버 내에서 플라즈마 처리를 수행함에 따라 형성된 표면의 나노 구조물을 갖도록 구성하는 한편, 상기 UV 임프린트 롤 투 롤 공정에서는 필름 표면에 UV 경화성 수지를 도포한 다음, 원통형 금형에 밀착하여 나노 구조물을 전사시킨 후, UV를 조사하여 경화시키는 공정으로 구현함으로써 간단한 공정을 통하여 대량 생산이 가능한 내지문 필름의 제조 방법 및 이러한 방법을 통하여 제작된 나노 패턴이 형성된 내지문 필름을 제공한다.-
公开(公告)号：KR101087583B1
公开(公告)日：2011-11-29
申请号：KR1020090117520
申请日：2009-12-01
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H02K7/09 , G03F7/70716 , H02K21/12 , H02K41/031 , H02K2201/15 , H02K2201/18
Abstract: PURPOSE: An electromagnetic holder device for an exposing device is provided to improve processing performance by decreasing the length of a mover by removing the chuck part of a magnetic levitation stage mover. CONSTITUTION: A rotating side electromagnet holder(16) is arranged on the upper side of a rotating side mover(11). A rotating side mover includes a rotating side permanent magnet(10). The rotating side electromagnet holder is comprised of a core(14a) and a coil(15a). The rotating side electromagnet holder controls the current to lift the rotating side mover and the transferring side mover up and down. The rotating side electromagnet holder includes a bracket(18a) which connects a core to a transfer stage.
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公开(公告)号：KR1020170026981A
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：KR1020150123296
申请日：2015-09-01
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01B13/00 , H01B5/14 , H01B13/008
Abstract: 본발명은투명유연전극의제조장치및 제조방법에관한것으로, 더욱상세하게는경화성수지층에형성된음각패턴에진동을통해전도성페이스트의충진성을높여미세한전극패턴을구현함으로써, 시인성과전기적특성을향상시킬수 있는투명유연전극의제조장치및 제조방법에관한것이다. 이러한본 발명은, 상부에경화성수지층이형성된기판을이송공급하는공급유닛; 이송공급되는기판의경화성수지층표면에음각패턴을형성시키는스탬핑유닛; 음각패턴이형성된경화성수지층표면에전도성페이스트를도포하는도포유닛; 경화성수지층표면에도포된전도성페이스트의용제를휘발시키는건조유닛; 용제가휘발된전도성페이스트를진동을통해음각패턴의내부에충진하는진동충진유닛; 및음각패턴의내부에충진된전도성페이스트를포함하는기판을소성처리하여전극패턴을형성하는소성유닛;을포함하며, 상기스탬핑유닛, 상기도포유닛, 상기건조유닛, 상기진동충진유닛및 상기소성유닛은상기공급유닛상에상기기판의이송방향을따라순차적으로배치되는것을특징으로하는투명유연전극의제조장치및 제조방법을기술적요지로한다.
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公开(公告)号：KR1020160107893A
公开(公告)日：2016-09-19
申请号：KR1020150031426
申请日：2015-03-06
Applicant: 한국전기연구원
CPC classification number: H01B13/0026 , H01B1/02 , H01B3/30 , H01B3/306
Abstract: 본발명은전도성페이스트를이용한투명유연전극의제조방법및 제조장치에관한것으로, 더욱상세하게는경화성수지층에형성된음각패턴내부에도포되는전도성페이스트의충진성을높여미세한전극패턴을형성시킴으로써시인성과전기적특성이향상되는전도성페이스트를이용한투명유연전극의제조방법및 제조장치에관한것이다. 이러한본 발명은, 투명유연전극을제조하는방법에있어서, 기판상의음각패턴이형성된경화성수지층상부표면에전도성페이스트를도포한후, 상기경화성수지층의표면을스크러빙(scrubbing)하여상기전도성페이스트를상기음각패턴의내부에충진함과동시에상기경화성수지층상의잔존전도성페이스트를제거하여투명유연전극을제조하는것을특징으로하는전도성페이스트를이용한투명유연전극의제조방법및 제조장치를기술적요지로한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用导电浆料制造透明柔性电极的方法和装置，更具体地说，涉及使用能够通过包括微细电极提高其电性能和可视性的导电膏制造透明柔性电极的方法 通过增加涂覆在形成在热固性树脂上的雕刻图案中的导电浆料的填充来实现电极图案。 制造透明柔性电极的方法包括：用导电膏将具有雕刻图案的热固性树脂层的上表面涂覆在基底上; 通过擦洗热固性树脂层的表面，用导电浆料填充雕刻图案; 去除残留在热固性树脂层上的导电膏; 制造透明柔性电极及其制造装置。
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公开(公告)号：KR1020160058600A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：KR1020140160295
申请日：2014-11-17
Applicant: 한국전기연구원
Abstract: 본발명은트렌치구조를가지는투명유연전극의제조방법및 제조장치에관한것으로, 더욱상세하게는트렌치내부에증착된도전성금속을제외한경화성수지층표면의잔존도전성금속을식각및 와이핑처리로마무리함으로써투명유연전극의평탄도를향상시키는트렌치구조를가지는투명유연전극의제조방법및 제조장치에관한것이다. 이러한본 발명은, 유연성을가지는기판의상부에경화성수지를도포하여경화성수지층을형성하는제1단계; 상기경화성수지층에음각패턴의트렌치를형성하는제2단계; 상기경화성수지층에형성된트렌치의내부에진공증착방식으로도전성금속을증착시켜전극패턴을형성하는제3단계; 상기전극패턴을제외한경화성수지층표면을식각액에침지하거나상기식각액을분사하여, 상기경화성수지층표면의잔존도전성금속을상기경화성수지층표면으로부터제거하는제4단계; 및상기전극패턴을제외한경화성수지층표면을와이핑(wiping)하면서상기제거된잔존도전성금속을상기전극패턴의내부에충전하는제5단계;를포함하여이루어지는것을특징으로하는트렌치구조를가지는투명유연전극의제조방법및 제조장치를기술적요지로한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种具有沟槽结构的柔性透明电极的制造方法及其制造装置。 更具体地说，本发明涉及一种具有沟槽结构的柔性透明电极的制造方法，该方法除了沉积在沟槽内部的导电金属之外，还残留在固化性树脂层的表面上的导电性金属进行蚀刻， 柔性透明电极的平坦度及其制造装置。 根据本发明的方法包括：通过将可固化树脂施加到柔性基板的上部来形成可固化树脂层的第一步骤; 在固化树脂层中形成具有雕刻图案的沟槽的第二步骤; 通过在真空蒸镀法中形成导电性金属而形成电极图案的第3工序; 从可固化树脂层的表面除去残留在固化性树脂层的表面上的导电性金属的第四工序，将除了电极图案以外的固化性树脂层的表面浸渍在蚀刻剂中或将蚀刻剂喷涂到表面上 的固化性树脂层; 以及除去电极图案之外，除去剩余的导电金属，除去固化性树脂层的表面的第五工序。
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