公开(公告)号：BR8801160A

公开(公告)日：1988-10-18

申请号：BR8801160

申请日：1988-03-15

Applicant: IBM

Inventor： ALLEN ROBERT DAVID ,  FRECHET JEAN M J ,  TWIEG ROBERT JAMES ,  WILLSON CARLTON GRANT

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  C08F2/46

Abstract: Heat stable, negative resist compositions are provided for use, particularly in deep ultraviolet light x-ray and electron beams. The composition comprises an acid generting onium salt photoinitiator, a source of polyfunctional activated aromatic rings and a source of polyfunctional carbonium ions, with at least one of said sources being a polymer.

公开(公告)号：DE112015004453B4

公开(公告)日：2022-01-27

申请号：DE112015004453

申请日：2015-10-19

Applicant: IBM

Inventor： GELORME JEFFREY ,  HUNG LI-WEN ,  ANDRY PAUL ,  KANG-I TSANG CORNELIA ,  KNICKERBOCKER JOHN ,  ALLEN ROBERT DAVID

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02

Abstract: Verfahren zum Ausbilden einer Halbleitereinheit, das aufweist:Verbinden eines Handhabungs-Wafers mit einer Vorderfläche eines Einheiten-Wafers mit einem phenoxyharzhaltigen Haftmittel, wobei das Phenoxyharz eine Viskosität in einem Bereich von 100 bis 10.000 Pa·s bei einer Temperatur in einem Bereich von 160 °C bis 210 °C und unter einem Druck von 1.000 mbar pro Fläche bei einer Wafer-Größe von 8 Zoll bei dem Einheiten-Wafer und/oder dem Handhabungs-Wafer aufweist;Vermindern der Dicke des Einheiten-Wafers von der Rückseite des Einheiten-Wafers aus, während der Einheiten-Wafer haftend an dem Handhabungs-Wafer anliegt; undEntfernen des phenoxyharzhaltigen Haftmittels durch Laser-Ablösen, wobei der Einheiten-Wafer von dem Handhabungs-Wafer getrennt wird.

公开(公告)号：DE112010004289B4

公开(公告)日：2016-03-24

申请号：DE112010004289

申请日：2010-09-14

Applicant: IBM

Inventor： SOORIYAKUMARAN RATNAM ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  BROCK PHILLIP JOE ,  SWANSON SALLY ANN ,  TRUONG HOA ,  CHEN KUANG-JUNG ,  HUANG WU-SONG ,  FRIZ ALEXANDER

IPC: C09D143/04 ,  G03F7/00 ,  G03F7/075

Abstract: Beschichtungszusammensetzung, umfassend: ein Polymer, umfassendwobei R1 eine Silicium-enthaltende Einheit ist, R2 eine säurestabile Lactonfunktionalität ist und R3 eine säurelabile Lactonfunktionalität ist; X1, X2, X3 unabhängig H oder CH3 sind; und m, n und o von null verschiedene positive ganze Zahlen sind, die die Anzahl von Wiederholungseinheiten darstellen; und wobei die Silicium enthaltende Einheit (m) 20 bis 40 mol-Prozent, die säurestabile Lactonfunktionalität (n) 10 bis 40 mol-Prozent und die säurelabile Lactonfunktionalität (o) 20 bis 70 mol-Prozent des Polymers bildet; einen Fotosäuregenerator; und ein Lösungsmittel.

公开(公告)号：GB2485470B

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：GB201119373

申请日：2010-08-03

Applicant: IBM

Inventor： DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  BROCK PHILLIP JOE ,  TRUONG HOA

IPC: G03F7/039

Abstract: Photoresist compositions include a blend of a phenolic polymer with a (meth)acrylate-based copolymer free of ether-containing and/or carboxylic acid-containing moieties. The (meth)acrylate copolymer includes a first monomer selected from the group consisting of an alkyl acrylate, a substituted alkyl acrylate, an alkyl (meth)acrylate, a substituted alkyl methacrylate and mixtures thereof, and a second monomer selected from the group consisting of an acrylate, a (meth)acrylate or a mixture thereof having an acid cleavable ester substituent; and a photoacid generator. Also disclosed are processes for generating a photoresist image on a substrate with the photoresist composition.

公开(公告)号：DE112010004289T5

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：DE112010004289

申请日：2010-09-14

Applicant: IBM

Inventor： SOORIYAKUMARAN RATNAM ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  BROCK PHILLIP JOE ,  SWANSON SALLY ANN ,  TRUONG HOA ,  CHEN KUANG-JUNG ,  HUANG WU-SONG ,  FRIZ ALEXANDER

IPC: C09D143/04 ,  G03F7/00 ,  G03F7/075

Abstract: Beschichtungszusammensetzungen umfassen ein Polymer, umfassend (I), wobei R1 eine Silicium-enthaltende Einheit ist, R2 eine säurestabile Lactonfunktionalität ist und R3 eine säurelabile Lactonfunktionalität ist; X1, X2, X3 unabhängig H oder CH3 sind; und m und o von null verschiedene positive ganze Zahlen sind und n null oder eine positive ganze Zahl ist, die die Anzahl von Wiederholungseinheiten darstellen; einen Fotosäuregenerator; und ein Lösungsmittel. Ferner werden Verfahren zum Herstellen eines Musters in der Beschichtungszusammensetzung, welche dieses enthält, offenbart.

公开(公告)号：GB2485470A

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：GB201119373

申请日：2010-08-03

Applicant: IBM

Inventor： DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  BROCK PHILLIP JOE ,  TRUONG HOA

IPC: G03F7/039

Abstract: Photoresist compositions include a blend of a phenolic polymer with a (meth)acrylate-based copolymer free of ether-containing and/or carboxylic acid-containing moieties. The (meth)acrylate copolymer includes a first monomer selected from the group consisting of an alkyl acrylate, a substituted alkyl acrylate, an alkyl (meth)acrylate, a substituted alkyl methacrylate and mixtures thereof, and a second monomer selected from the group consisting of an acrylate, a (meth)acrylate or a mixture thereof having an acid cleavable ester substituent; and a photoacid generator. Also disclosed are processes for generating a photoresist image on a substrate with the photoresist composition.

公开(公告)号：DE602006015428D1

公开(公告)日：2010-08-26

申请号：DE602006015428

申请日：2006-02-22

Applicant: IBM

Inventor： ALLEN ROBERT DAVID ,  BROCK PHILLIP JOE ,  GIL DARIO ,  HINSBERG WILLIAM DINAN ,  LARSON CARL ERIC ,  SUNDBERG LINDA KARIN ,  WALLRAFF GREGORY MICHAEL

IPC: G03C1/76 ,  G03F7/20

公开(公告)号：DE69123873D1

公开(公告)日：1997-02-13

申请号：DE69123873

申请日：1991-04-16

Applicant: IBM

Inventor： ALLEN ROBERT DAVID ,  HINSBERG III WILLIAM DINAN ,  SIMPSON LOGAN LLOYD ,  WALLRAFF GREGORY MICHAEL

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26 ,  H05K3/06 ,  C08L33/06

公开(公告)号：ES2019413B3

公开(公告)日：1991-06-16

申请号：ES88101849

申请日：1988-02-09

Applicant: IBM

Inventor： ALLEN ROBERT DAVID ,  FRECHET JEAN M J ,  TWIEG ROBERT JAMES ,  WILLSON CARLTON GRANT

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：DE112015004453T5

公开(公告)日：2017-07-20

申请号：DE112015004453

申请日：2015-10-19

Applicant: IBM

Inventor： GELORME JEFFREY ,  HUNG LI-WEN ,  ANDRY PAUL ,  KANG-I TSANG CORNELIA ,  KNICKERBOCKER JOHN ,  ALLEN ROBERT DAVID

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02

Abstract: Ein Verfahren zum haftenden Verbinden bei einer Bearbeitung von Mikroelektronikeinheiten wird bereitgestellt, das ein Verbinden eines Handhabungs-Wafers mit einer Vorderseite eines Einheiten-Wafers mit einem phenoxyharzhaltigen Haftmittel; und ein Vermindern der Dicke des Einheiten-Wafers von der Rückseite des Einheiten-Wafers aus beinhaltet, während der Einheiten-Wafer haftend an dem Handhabungs-Wafer anliegt. Nachdem die Dicke des Einheiten-Wafers vermindert worden ist, kann das phenoxyharzhaltige Haftmittel durch Laser-Ablösen entfernt werden, wobei der Einheiten-Wafer von dem Handhabungs-Wafer getrennt wird.