Abstract:
Disclosed is an optoelectronic semiconductor chip comprising a first contact point (1) and a second contact point (2) as well as a reflective layer (3) which is directly connected in an electrically conducting manner to the second contact point. The reflective layer contains a metal that tends to migrate. Furthermore, the reflective layer is arranged such that a migration path (4) for the metal can form between the second and the first contact point. The semiconductor chip further comprises a means (6) which generates an electric field counteracting the migration of the metal during operation of the semiconductor chip.
Abstract:
Disclosed is a surface-emitting semiconductor laser component, especially an electrically pumped semiconductor laser component, which features emission in a vertical direction and is used for generating laser radiation by means of an external optical resonator (4,5). Said semiconductor laser component comprises a semiconductor element with a sequence (2) of semiconductor layers which is provided with a lateral main direction of extension and an active zone (3) used for generating radiation. A radiation-permeable contact layer (6) is disposed within the resonator and is connected to the semiconductor element in an electrically conducting manner.
Abstract:
Die Erfindung betrifft einen optoelektronischen Halbleiterchip. Der Halbleiterchip weist eine Halbleiterschichtenfolge auf, welche einen ersten Halbleiterbereich, einen zweiten Halbleiterbereich und eine dazwischen angeordnete aktive Zone zur Strahlungserzeugung umfasst. Der Halbleiterchip weist einen elektrisch mit dem ersten Halbleiterbereich verbundenen ersten Kontakt, einen elektrisch mit dem zweiten Halbleiterbereich verbunden zweiten Kontakt und einen elektrisch mit dem ersten Halbleiterbereich verbundenen dritten Kontakt auf. Der erste Kontakt und der dritte Kontakt sind im Bereich von entgegen gesetzten Seiten des Halbleiterchips angeordnet. Die Erfindung betrifft des Weiteren eine Vorrichtung umfassend mehrere optoelektronische Halbleiterchips.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl optoelektronischer Bauelemente mit den folgenden Schritten angegeben: – Bereitstellen eines Hilfsträgerwafers (1) mit Kontaktstrukturen (4), wobei der Hilfsträgerwafer Glas, Saphir oder ein Halbleitermaterial aufweist, – Aufbringen einer Vielzahl an strahlungsemittierenden Halbleiterkörpern (5) auf die Kontaktstrukturen (4), – Verkapseln zumindest der Kontaktstrukturen (4) mit einem Verguss (10), und – Entfernen des Hilfsträgerwafers (1). Weiterhin wird ein optoelektronisches Bauelement angegeben.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung von mindestens einem Strahlung emittierenden Halbleiterbauelement (11) mit den folgenden Schritten angegeben: – Bereitstellen von mindestens einem Strahlung emittierenden Halbleiterchip (4) mit einer Oberseite (6) und mindestens einer Seitenfläche (7), die schräg zu der Oberseite (6) verläuft, – Aufbringen eines Konversionselements (8) auf die Oberseite (6) und/oder die mindestens eine Seitenfläche (7) mittels Aufsprühen, wobei das Konversionselement (8) aus einem Sprühmittel (2b) erzeugt wird, das ein Matrixmaterial und Konverterpartikel enthält.
Abstract:
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird eine optoelektronische Bauelementevorrichtung (100), die optoelektronische Bauelementevorrichtung (100) aufweisend: mehrere optoelektronische Bauelemente (104), eingerichtet zum Bereitstellen und/oder Aufnehmen von elektromagnetischer Strahlung (102); einen Reflektor (110), der im Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung der mehreren optoelektronischen Bauelemente (104) angeordnet ist, und der eine wenigstens teilweise bezüglich der bereitgestellten elektromagnetischen Strahlung (102) reflektierende Oberfläche (112) aufweist; wobei die mehreren optoelektronischen Bauelemente (104) den Reflektor (110) wenigstens teilweise umgeben oder wenigstens teilweise von dem Reflektor (104) umgeben sind; und wobei der Reflektor (110) derart eingerichtet ist, dass er eine bereitgestellte elektromagnetische Strahlung derart reflektiert, dass eine vorgegebene Feldverteilung der reflektierten elektromagnetischen Strahlung in der Bildebene der optoelektronischen Bauelementevorrichtung (100) ausgebildet wird.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements (10) angegeben, bei dem ein Trägersubstrat (1) bereitgestellt wird, das auf einer Montagefläche (1a) zumindest eine elektrisch leitende Kontaktstruktur (2) aufweist. Auf der Montagefläche (1a) des Trägersubstrats (1) wird ein Halbleiterchip (3) aufgebracht. Anschließend werden lichtreflektierende und/oder lichtstreuende Partikel (4) zumindest bereichsweise auf der Montagefläche (1a) des Trägersubstrats (1) aufgebracht, wobei Hauptflächen (H1, H2, H3) des Halbleiterchips (3) dabei frei von den lichtreflektierenden und/oder lichtstreuenden Partikeln (4) bleiben. Weiter wird ein derart hergestelltes Halbleiterbauelement (10) angegeben.
Abstract:
Optoelektronisches Bauelement mit, – einer epitaktischen Halbleiterschichtenfolge, die eine elektromagnetische Strahlung emittierende aktive Zone aufweist, – mindestens einem elektrischen Kontaktbereich, der mindestens eine strahlungsdurchlässige, ZnO enthaltende elektrische Kontaktschicht aufweist, die mit einer äußeren Halbleiterschicht elektrisch leitend verbunden ist, – einem Bondpad (9), das unmittelbar auf die Halbleiterschichtenfolge aufgebracht ist, und – einem auf sämtliche freie Flächen der Kontaktschicht aufgebrachten wasserdichten Material, wobei die Dicke des wasserdichten Materials 50 bis 200 nm, einschließlich der Grenzen beträgt, wobei das Bondpad (9) ein Metall aufweist und einen Schottky-Kontakt zur Halbleiterschichtenfolge ausbildet.
Abstract:
An optically pumped semiconductor laser device having a surface-emitting vertical emission region ( 1 ) and at least one monolithically integrated pump radiation source ( 2 ) for optically pumping the vertical emission region ( 1 ). The semiconductor laser device is distinguished by the fact that the pump radiation enters the vertical emission region ( 1 ) in the form of partial bundles of rays of radiation with different radiation directions so that the pump radiation and the fundamental mode of the vertical emission region ( 1 ) have an overlap which is suitable for the excitation of this fundamental mode. This device is based on the fact that the fundamental mode of the vertical emission region ( 1 ) is preferably excited when the spatial intensity distribution of the pump radiation matches the profile of the fundamental mode.