公开(公告)号：KR101841775B1

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：KR1020120070460

申请日：2012-06-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  가나가와고오조오 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

Abstract: 본발명은기판의도포, 현상처리를행하는기판처리장치에있어서, 인터페이스블록(S3) 내의분위기온도의변동에관계없이, 기판을노광기(S4)에서요구되고있는목표온도로설정하는것에관한것이다. 기판을온도조절플레이트(53)에의해온도조절한후에인터페이스블록(S3)으로부터노광기(S4)로반송한다. 그리고, 온도조절플레이트(53)를통과하는온도조절유체의온도를검출하고, 설정온도에기초하여칠러(5)를제어한다. 또한, 인터페이스블록(S3) 내의분위기의온도또는당해분위기를반송된기판의온도를검출하고, 그온도에기초하여온도조절유체의설정온도를조정한다. 또는예를들어, 상기분위기의온도가목표온도로부터벗어나있을때에기판의반송속도를상기분위기의온도가목표온도일때의속도보다빨라지도록컨트롤한다.

公开(公告)号：KR101752513B1

公开(公告)日：2017-07-11

申请号：KR1020120123672

申请日：2012-11-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까하라다마사히로 ,  사까따요오지 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루 ,  나까시마쯔네나가

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/302 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/70691 ,  H01L21/02043 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6875 ,  H01L22/20

Abstract: 노광전에기판의이면세정을행하는기능을구비한기판처리시스템에있어서, 기판처리의수율을향상시키고, 기판반송의부하를저감시킨다. 일양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는세정유닛(100)과, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는검사유닛(101)과, 각유닛(100, 101) 사이에서기판을반송하는아암을구비한웨이퍼반송기구(120, 130)와, 웨이퍼반송기구(120, 130)의동작을제어하는웨이퍼반송제어부를갖고있다. 웨이퍼반송제어부는, 검사결과, 웨이퍼의상태가세정유닛(100)에서의재세정에의해노광가능한상태로된다고판정되면, 당해웨이퍼를세정유닛(100)에다시반송하도록, 웨이퍼반송기구(120, 130)를제어한다. 다른양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는웨이퍼세정부(141)와, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는웨이퍼검사부(142)와, 웨이퍼세정부(141)와웨이퍼검사부(142) 사이에서웨이퍼(W)를반송하는반송수단(143)을갖고있다. 웨이퍼세정부(141), 웨이퍼검사부(142) 및반송수단(143)은, 하우징(140)의내부에설치되어있다.

公开(公告)号：KR1020170077084A

公开(公告)日：2017-07-05

申请号：KR1020170079084

申请日：2017-06-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까하라다마사히로 ,  사까따요오지 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루 ,  나까시마쯔네나가

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/70691 ,  H01L21/02043 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6875 ,  H01L22/20

Abstract: 노광전에기판의이면세정을행하는기능을구비한기판처리시스템에있어서, 기판처리의수율을향상시키고, 기판반송의부하를저감시킨다. 일양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는세정유닛(100)과, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는검사유닛(101)과, 각유닛(100, 101) 사이에서기판을반송하는아암을구비한웨이퍼반송기구(120, 130)와, 웨이퍼반송기구(120, 130)의동작을제어하는웨이퍼반송제어부를갖고있다. 웨이퍼반송제어부는, 검사결과, 웨이퍼의상태가세정유닛(100)에서의재세정에의해노광가능한상태로된다고판정되면, 당해웨이퍼를세정유닛(100)에다시반송하도록, 웨이퍼반송기구(120, 130)를제어한다. 다른양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는웨이퍼세정부(141)와, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는웨이퍼검사부(142)와, 웨이퍼세정부(141)와웨이퍼검사부(142) 사이에서웨이퍼(W)를반송하는반송수단(143)을갖고있다. 웨이퍼세정부(141), 웨이퍼검사부(142) 및반송수단(143)은, 하우징(140)의내부에설치되어있다.

Abstract translation: 在具有在曝光之前执行衬底的背面清洁的功能的衬底处理系统中，衬底处理的成品率得到改善并且衬底传输的负载减小。 在一个实施方案中，该涂层和相对于所述接口站5显影具有清洁单元100，用于在处理系统中，清洗后的晶片的背表面，例如晶片的曝光的曝光装置导入晶片之前清洁至少晶片的背面 晶片传送机构120,130具有用于在每个单元100,101之间传送衬底的臂，用于在单元100,101之间传送衬底的晶片传送机构120（120） 并且用于控制晶片传送单元130的操作的晶片传送控制单元130， 晶片搬送控制部，测试的结果，如果判断出通过重新清洗曝光状态eseoui晶片清洁单元100中，晶片搬送机构（120，130，从而的状态，如本领域晶片EDA清洁单元期间传送（100） ）控制。 根据另一个方面，所述涂敷，显影接口站（5）是用于其中已清洗该晶片的晶片导入晶片在曝光装置中的处理系统的清洁部141，相对于背表面之前清洁至少所述晶片的背面表面的晶片 它有一个转印装置143，用于在曝光能够与晶片142用于检查是否在曝光装置之前的获取，携带晶片清洗部141和晶片142之间的晶片（W）。 晶圆清洁器141，晶圆检查单元142和传送单元143设置在壳体140内部。

公开(公告)号：KR101692679B1

公开(公告)日：2017-01-03

申请号：KR1020160115376

申请日：2016-09-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/708 ,  H01L21/6715

Abstract: 본발명의과제는처리블록의설치면적을억제하는동시에장치의가동효율의저하를억제할수 있는기술을제공하는것이다. 전단처리용의단위블록을제1 전단처리용의단위블록및 제2 전단처리용의단위블록으로서상하로이중화하여서로적층하고, 후단처리용의단위블록을제1 후단처리용의단위블록및 제2 후단처리용의단위블록으로서상하로이중화하여, 서로적층하고, 또한현상처리용의단위블록을제1 현상처리용의단위블록및 제2 현상처리용의단위블록으로서상하로이중화하여, 서로적층하여처리블록을구성하고, 전단처리용의단위블록으로부터후단처리용의각 단위블록에기판을배분하여전달하는제1 전달기구와, 노광후의기판을현상처리용의단위블록에배분하여전달하는제2 전달기구를구비하도록도포, 현상장치를구성한다.

Abstract translation: 在一个实施例中，涂层和显影装置包括具有彼此垂直堆叠的至少一个涂膜形成单元块堆叠和显影单元块堆叠的处理块。 每个单元块堆叠由垂直堆叠的单元块组成，并且每个单元块包括包含液体处理模块和加热模块的处理模块，每个单元块设置有沿着传送通道移动的传送机构，该传送机构沿着从 载体块侧到接口块侧，以在属于单位块的处理模块之间输送基板。 第一转印单元分别设置在涂膜形成单元块和显影单元块的承载块侧上，用于将基板传送到相关的涂膜形成块或显影单元块的输送机构。 第一传送机构将从载体移除的基板传送到与涂膜形成单元块相关联的第一转印单元之一。

公开(公告)号：KR1020120116351A

公开(公告)日：2012-10-22

申请号：KR1020120037260

申请日：2012-04-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/42

CPC classification number: H01L21/0273 ,  G03F7/422 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67727 ,  H01L21/681

Abstract: PURPOSE: A wafer processing method, a recording medium for executing the same, a wafer processing apparatus, and a wafer processing system are provided to regularly maintain a width size of an area from which a coating layer is eliminated in a peripheral portion of a wafer without need to install a position determination sensor for each module. CONSTITUTION: A rinse fluid supply part(80) supplies a rinse liquid on a surface of a peripheral portion of a wafer(W) held and supported by a spin chuck(61). A coating film on a location where the rinse liquid is provided is selectively removed. A detection part is installed in a wafer transfer part. A detection part detects the location of the peripheral portion of the wafer when the wafer is transferred by the wafer transfer part in advance. The detection part determines the location of the rinse fluid supply part based on the detected location.

Abstract translation: 目的：提供晶片处理方法，用于执行晶片处理方法的记录介质，晶片处理装置和晶片处理系统，以在晶片的周边部分中规则地保持消除涂层的区域的宽度尺寸 而不需要为每个模块安装位置确定传感器。 构成：冲洗液供给部件（80）在由旋转卡盘（61）保持和支撑的晶片（W）的周边部分的表面上提供冲洗液。 选择性地除去在提供漂洗液体的位置上的涂膜。 检测部安装在晶片转印部中。 当晶片预先由晶片转印部分转印时，检测部分检测晶片周边部分的位置。 检测部件基于检测到的位置确定冲洗液供给部件的位置。

公开(公告)号：KR101176250B1

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：KR1020080038514

申请日：2008-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  하시모또다까히로 ,  쯔찌야가쯔히로 ,  하야시신이찌 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/027 ,  G02F1/1335

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67709 ,  H01L21/6776

Abstract: 수평축주위로회전하고, 회전축이서로평행하게되도록전후에배치된한 쌍의회전체(131, 132)와, 이들회전체(131, 132) 사이에걸쳐져주회궤도를따라이동하고그 위에적재된웨이퍼(W)의반송로를형성하는반송로부재(130)와, 상기반송로의상류단에설치된반입용전달부(110)와, 상기반송로의하류단에설치된반출용전달부(111)와, 상기반송로의상류단과하류단사이에, 상류측으로부터차례로웨이퍼(W)에현상액을공급하기위한현상노즐(151), 웨이퍼(W)에세정액을공급하기위한세정노즐(152) 및웨이퍼(W)에기체를공급하기위한가스노즐(154)을구비한다.

公开(公告)号：KR1020120025393A

公开(公告)日：2012-03-15

申请号：KR1020110074341

申请日：2011-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/16 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/67721

Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus, a coating and developing method, and a storage medium are provided to reduce the installation area of an apparatus by being formed to convert a negative developing process and a positive developing process. CONSTITUTION: A substrate carried with a carrier(C) is delivered to a processing block(S20). A coating film including a resist film is formed in the processing block. The substrate is carried to an exposure apparatus through an interface block(S7). The substrate coming back through the interface block after exposure is developed in the processing block. The substrate is delivered to a carrier block(S1).

Abstract translation: 目的：提供一种涂覆和显影装置，涂覆和显影方法以及存储介质，以通过形成负极显影处理和正显影处理来减少设备的安装面积。 构成：将携带有载体（C）的基板输送到处理块（S20）。 在处理块中形成包括抗蚀剂膜的涂膜。 基板通过界面块传送到曝光装置（S7）。 在处理块中展开曝光后通过界面块返回的衬底。 将衬底输送到载体块（S1）。

公开(公告)号：KR1020120005937A

公开(公告)日：2012-01-17

申请号：KR1020110043716

申请日：2011-05-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루 ,  도미따히로시 ,  하야까와마꼬또 ,  요시다다쯔헤이

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/16 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus, a method thereof, and a memory medium are provided to apply a unit block for a dual developing process, thereby suppressing the degradation of operation efficiency of the coating and developing apparatus. CONSTITUTION: A carrier block(S1) comprises a loading stand(11) which loads a carrier(C), an opening and closing part(12), and a transfer arm. The transfer arm comprises five wafer holding support parts in up and down directions. A processing block(S2) comprises unit blocks(B1-B6) which perform liquid processing process in a wafer. The unit block comprises a heating module, a main arm, and a return region. A liquid processing unit comprises an antireflection film formation module(BCT1, 2) and a resist film formation module(COT1,2).

Abstract translation: 目的：提供一种涂布和显影装置，其方法和存储介质以应用用于双显影处理的单位块，从而抑制涂层和显影装置的操作效率的劣化。 构成：载体块（S1）包括装载载体（C）的装载台（11），开闭部分（12）和传送臂。 传送臂在上下方向上包括五个晶片保持支撑部。 处理块（S2）包括在晶片中执行液体处理处理的单元块（B1-B6）。 单元块包括加热模块，主臂和返回区域。 液体处理单元包括防反射膜形成模块（BCT1,2）和抗蚀膜形成模块（COT1,2）。

公开(公告)号：KR101059277B1

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：KR1020100091510

申请日：2010-09-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  후꾸오까데쯔오 ,  오다데쯔야 ,  이나도미히로아끼

IPC: H01L21/30

CPC classification number: F27B5/04 ,  F27B17/0025 ,  F27D3/0084 ,  H01L21/67109

Abstract: 본 발명의 과제는 천정판이 승강하지 않아도 면내 균일성이 높은 가열 처리를 행하는 가열 장치 및 가열 방법을 제공하는 것이다.
기판을 적재하여 가열하기 위한 열판과, 이 열판의 상방에 기판과 간격을 두고 대향하도록 설치되고, 기판의 피가열 처리 영역보다도 큰 정류용 천정판과, 천정판의 내부에 기판측으로부터의 열을 단열하기 위해 형성된 진공 영역과, 상기 열판에 적재된 기판과 상기 천정판 사이에 기류를 형성하기 위한 기류 형성 수단을 구비하도록 가열 장치를 구성한다. 내부에 진공 영역이 마련된 천정판을 이용하고 있으므로 열판측으로부터의 열이 도피되기 어렵고, 천정판과 열판 사이의 주위를 개방한 상태로 해도 천정판의 하면의 온도를 기판의 온도에 근접시킬 수 있어, 기판과 천정판의 하면의 온도차가 확대되는 것이 억제된다. 그 결과로서 상기 기류가 냉각됨으로써 난류가 되는 것을 막을 수 있으므로 기판에 대해 면내 균일성이 높은 가열 처리를 행할 수 있다.

Abstract translation: 发明内容本发明的目的在于提供一种加热装置和加热方法，即使在顶板不升降时也能进行面内均匀性高的加热处理。

公开(公告)号：KR1020080089245A

公开(公告)日：2008-10-06

申请号：KR1020080028876

申请日：2008-03-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  하시모또다까히로 ,  쯔찌야가쯔히로 ,  하야시신이찌 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178 ,  G05B19/4189 ,  G05B2219/31002 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67742

Abstract: A coating and developing system, a coating and developing method, and a storage medium are provided to adjust easily a processing speed by increasing or reducing the number of processing blocks arranged between a carrier block and an interface block. A processing station is installed between a carrier block(S1) and an interface block(S6) and includes at least two processing blocks of the same construction. Each of the processing blocks is built by stacking a plurality of unit blocks including a film forming unit block and a developing unit block, and is arranged longitudinally contiguously between the carrier block on a front side and the interface block on a back side along a substrate carrying passage of a substrate. A transfer unit group is installed at a position corresponding to each unit block in a front side within the processing blocks in order to transfer a substrate between the stacked unit blocks of the processing blocks. The transfer unit group includes a plurality of transfer units for transferring the substrate by using a substrate carrying unit of each unit block. Transfer arms(D1,D2,D3) are installed at the processing blocks, respectively. Inlet/outlet transfer units are installed to transfer the substrate between the carrier block and the processing block or between the adjacent processing blocks. Direct carrying unit is installed in each of the processing blocks in order to carry the substrate exclusively between the inlet and outlet transfer unit of the processing block and the inlet and outlet transfer unit of the processing block behind and adjacent to the prior processing block.

Abstract translation: 提供一种涂覆和显影系统，涂层和显影方法以及存储介质，以通过增加或减少布置在载体块和界面块之间的处理块的数量来容易地调整处理速度。 处理站安装在承载块（S1）和接口块（S6）之间，并且包括至少两个相同结构的处理块。 每个处理块通过堆叠包括成膜单元块和显影单元块的多个单位块而构成，并且在前侧的载体块和沿着基板的背侧的界面块之间纵向连续地布置 承载基底的通道。 传送单元组安装在与处理块内的前侧中的每个单元块相对应的位置处，以便在处理块的堆叠单元块之间传送衬底。 转印单元组包括多个转印单元，用于通过使用每个单位块的基板承载单元来转印基板。 传送臂（D1，D2，D3）分别安装在处理块上。 安装入口/出口传送单元以在载体块和处理块之间或相邻处理块之间传送衬底。 直接承载单元安装在每个处理块中，以便仅将处理块的入口和出口传送单元以及处理块的入口和出口传送单元背后并与之相邻的先前处理块承载基板。