Abstract:
The present invention relates to a strontium precursor which is represented by chemical formula 1, is thermally stable, and has good volatility, thereby easily forming a thin film including good quality strontium. In chemical formula 1, each of R1, R2, and R3 is independently H or a C1-C10 linear or branched alkyl group; each of R4, R5, R6, and R7 is independently a C1-C10 linear or branched alkyl group or a C1-C10 alkyl fluoride group; and each of m and n is 1-3.
Abstract:
PURPOSE: A novel tungsten aminoamide azide compound is thermally stable and highly volatile, so that the novel tungsten aminoamide azide compound can be used in producing a thin film including quality tungsten. CONSTITUTION: A novel tungsten aminoamide azide compound is indicated as the chemical formula 1. A preparation method of the novel tungsten aminoamide azide compound indicated as the chemical formula 1 comprises a step of generating the reaction of a compound represented by the chemical formula 2 and a compound represented by the chemical formula 3. A method for growing a thin film containing tungsten by using the novel tungsten aminoamide azide compound is provided. The film growth process is performed by the chemical vapor deposition (CVD) method or the atomic layer deposition (ALD) method.
Abstract:
PURPOSE: A raw material basket for growing a single crystal and a seed crystal combining device are provided to easily control an opening by including a replaceable baffle. CONSTITUTION: Raw materials are arranged in a basket (100). One or more racks (200) combine seed crystals. A baffle (300) is located between the basket and the rack. The basket is separated from the rack. The baffle is replaceable.
Abstract:
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 아미노 알콕사이드 리간드를 갖는 신규의 비스무트 아미노 알콕사이드 화합물 및 그 제조 방법에 관한 것이다. [화학식 1] Bi[OA-NR 1 R 2 ] 3 [상기 화학식 1에서, A는 C 2 -C 5 의 알킬렌이고; 상기 A는 하나 이상의 C 1 -C 10 의 선형 또는 분지형 알킬기로 더 치환될 수 있고; R 1 및 R 2 는 서로 독립적으로 C 1 -C 10 의 선형 또는 분지형 알킬기이다.] 본 발명에 따르는 비스무트 아미노 알콕사이드 화합물은 비스무트 전구체로서 상온에서 고체 상태로 존재하며 증기압이 매우 높아 비스무트를 포함하는 물질의 박막의 증착 또는 여러 가지 합금 증착에 비스무트 원료 물질로 유용하게 사용될 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A novel antimony aminoalkoxide compound is provided to bind with oxygen ligand and to manufacture a thin film containing the antimony and to ensure excellent thermal stability and volatility. CONSTITUTION: An antimony aminoalkoxide compound is denoted by chemical formula 1(Sb[O-A-NR1R2]3). A compound of chemical formula 1 is denoted by chemical formula 2(Sb[O-CR3R4(CH2)m-NR1R2]3). A method for preparing the antimony amino alkoxide compounds comprises a step of reacting antimony halide compounds of chemical formula 3(SbX3) and alcohol alkali metal salt of chemical formula 4(M[O-A-NR1R2]). A method for forming a thin film comprises a step of forming a thin film containing antimony using an antimony amino alkoxide compounds as a precursor.
Abstract translation:目的:提供新型的锑氨基烷氧基化合物与氧配位体结合并制造含有锑的薄膜,并确保优异的热稳定性和挥发性。 构成:化学式1(Sb [O-A-NR1R2] 3)表示锑氨基烷氧基化合物。 化学式1的化合物由化学式2(Sb [O-CR 3 R 4(CH 2)m -NR 1 R 2] 3)表示。 制备锑氨基醇盐化合物的方法包括使化学式3(SbX 3)的卤化锑化合物与化学式4的醇碱金属盐(M [O-A-NR1R2])反应的步骤。 形成薄膜的方法包括使用锑氨基醇盐化合物作为前体形成含有锑的薄膜的步骤。
Abstract:
A dicing die bonding film is provided to easily perform the die bonding of a semiconductor wafer by maintaining superior peeling force at a boundary between an adhesive layer and a wafer bonding layer. A dicing die bonding film is formed by sequentially stacking a supporting layer(10), a point/adhesive layer(20) having an adhesive layer(21) and a reinforcement layer(22), a wafer bonding layer(30), and a wafer bonding protection layer. Peeling force between the supporting layer and the adhesive layer is in a range, 3 to 30 N/20mm. Peeling force between the reinforcement layer and the wafer bonding layer is in a range, 0.01 to 0.3 N/20mm.
Abstract:
본 발명은 당류를 수소화하여 당알콜을 제조하는 방법에 관한 것으로, 하기 화학식 1로 표시되는 촉매의 존재하에 당류를 수소화하면, 목적하는 당알콜을 고선택성 및 고수율로 촉매의 수시 재활성화 조작을 수행하지 않고도 장기간 안정적으로 제조할 수 있다: CuO(a)SiO 2 (b)
이때, (a) 및 (b)는 중량을 기준으로 한 백분율로서, 각각 30∼90 및 10∼70 범위의 수이다.
Abstract:
본 발명은 폴리올레핀 왁스 제조용 촉매계 및 이를 이용하는 왁스의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 중심금속성분에 칼릭사렌계 리간드와 할로겐 성분을 포함하는 주촉매물질과 유기알루미늄 화합물의 조촉매물질로 구성된 새로운 촉매계 및 이를 이용하는 올레핀의 소중합 반응에서 이들 구성 성분의 조합 비율을 일정 범위로 제한하고 분자량 제어 역할을 하는 수소를 사용하지 않으며 반응조건을 선택함으로써, 반응 활성을 높게 유지할 수 있으며 결정성과 분자량 분포에서 우수한 물성을 갖는 왁스를 제조하는 방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 파라-디옥사논(p-dioxanone)을 정제하는 방법에 관한 것으로, (1) 파라-디옥사논을 냉각시켜 파라-디옥사논을 결정화시키는 단계; (2) 결정화된 파라-디옥사논을 파쇄하고 여과시키는 단계; (3) 여과된 파라-디옥사논 입자를 고진공하에서 파라-디옥사논의 녹는점 이하의 온도에서 건조시키는 단계; 및 (4) 건조된 파라-디옥사논을 열-용융시킨 후 감압하에서 증류하는 단계를 포함하는, 본 발명의 파라-디옥사논의 정제방법에 따르면 99.9% 이상의 고순도 파라-디옥사논을 높은 수율로 간단하게 수득할 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A method for preparing 1,4-butanediol from an maleic acid ester is provided to produce 1,4-butanediol stably with high selectivity, high yield and high productivity without the treatment for reactivating a catalyst. CONSTITUTION: The method comprises the step of hydrogenating an maleic acid ester in the presence of a catalyst represented by CuO(a)MnO2(b)M(c)SiO2(d), wherein a, b, c and d are a percentage based on weight, a is 40-90, b is 0.15-5, c is 0.001-5 and d is 5-50; and M is at least one oxide of metal selected from the group consisting of Zn, Pt, Pd, Re, Ru and Rh. Preferably the catalyst is used in the hydrogenation after activated by using hydrogen or a hydrogen-containing gas at a temperature of 100-250 deg.C for 1-60 hours. Preferably the hydrogenation is carried out at a temperature of 140-260 deg.C and a pressure of 30-120 atm with a weight hourly space velocity of a maleic acid ester of 0.1-2.0/hr. Preferably the maleic acid ester is selected from dimethyl malate, diethyl malate, dipropyl malate, diisopropyl malate and dibutyl malate.