-
公开(公告)号：KR1019970003595A
公开(公告)日：1997-01-28
申请号：KR1019960024416
申请日：1996-06-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 아키모토마사미
IPC: H01L21/304
Abstract: 세정처리장치는, 반도체 웨이퍼를 화학세정하기 위한 세정액이 수용된 세정액 공급원(102)과, 처리대상이 되는 웨이퍼를 회전가능하게 유지하는 스핀척(50,250,350,450)과, 세정액 공급원에 연이어 통과하고, 스핀척상의 웨이퍼에 세정액 공급원으로부터 세정액을 공급하는 노즐(70,281,370,481)과, 이 노즐로부터 웨이퍼를 향하여 공급되는 세정액의 온도를 조정하는 온도조정수단(100,106,106a,106b)과, 스핀척상의 웨이퍼를 덮도록 근접하여 웨이퍼상에 존재하는 세정액이 실질적으로 온도변화하지 않도록 하는 온도조정커버(71,271,371,471)를 구비한다.
-
公开(公告)号：KR1019960030343A
公开(公告)日：1996-08-17
申请号：KR1019960001149
申请日：1996-01-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판으로서의 반도체 웨이퍼(W)를 세정하는 세정장치(20)는, 웨이퍼(W)의 주연부를 보호하는 보호기구(30)와, 이 보호기구(30)에 의해 보호된 웨이퍼(W)를 회전시키는 회전수단으로서의 모터(40)와, 보호기구(30)로 보호된 웨이퍼(W)의 적어도 일면측에 설치된 세정부(31)를 구비한다. 이 세정부(31)는, 웨이퍼(W)에 대해 당접가능하게 설치된 적어도 하나의 세정부재(51)를 가지며, 이 세정부재(51)는, 웨이퍼(W)에 당접한 상태에서 모터(40)에 의해 회전하는 기판의 회전을 따라 회전가능하다.
-
公开(公告)号：KR1019960030309A
公开(公告)日：1996-08-17
申请号：KR1019960000326
申请日：1996-01-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 인터페이스부에 있어서, 노광처리장치로부터 반출된 상기 기판을 받아들이고, 이어서, 기판반송수단에 의해 인터페이스부로부터 기판을 열처리부까지 반송하고, 열처리부에 있어서, 기판에 열처리를 수행한다. 그 다음, 기판 반송수단에 의해 열처리부로부터 냉각처리부까지 반송하고, 냉각처리부에 있어서 기판을 냉각한다. 냉각처리종료후, 기판 반송수단에 의해 냉각처리부로부터 현상처리부까지 반송하고, 현상처리부에 있어서 기판상의 레지스트막을 현상한다. 이 레지스트처리에 있어서, 노광처리장치에서의 처리 소요시간을 토대로 열처리부에서의 처리 소요시간을 변경한다. 열처리부에서의 처리 소요시간은, 노광처리장치에서의 처리 소요시간과 같게 한다. 열처리부에서의 처리 소요시간의 변경은, 열처리부에서의 전대기 시간의 연장 또는 단축에 의해 수행된다.
-
公开(公告)号：KR1020150050416A
公开(公告)日：2015-05-08
申请号：KR1020140147230
申请日：2014-10-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/683 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/6715 , B08B1/04 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , Y10S134/902
Abstract: 미스트의발생을억제하면서처리액을컵을향하여배출하는것이가능한액 처리장치를제공한다. 처리액공급부(40)로부터, 회전하는기판(W)에처리액을공급하여액 처리를행하는액 처리장치에있어서, 연직축둘레로회전가능하게구성된기판유지부(31)는, 기판(W)을수평으로흡착유지하기위한유지면(311)을구비한다. 가이드부(34)는, 기판유지부(31)와일체로형성되며, 그기판유지부(31)에유지된기판(W)의주위에배치되고, 기판(W)의주연부의상면의높이와동일하거나, 이높이보다낮은높이위치에마련되며, 기판(W)의상면을흘러온 처리액을안내하기위한안내면(347)을구비한다. 회전컵(35)은, 기판유지부(31)와함께일체적으로회전하며, 기판유지부(31)의외방에마련된컵(50a∼50c)을향하여, 가이드부(34)와의사이에서처리액을안내한다.
Abstract translation: 提供了一种液体处理装置，其将防止产生雾的处理液体排出到杯子。 在从处理液供给部（40）向处理液供给处理液并进行液体处理的液体处理装置中，能够围绕纵轴旋转的基板保持部（31）具有保持面（ 311），用于水平地吸附基板（W）。 引导部（34）与基板保持部（31）一体化并且被配置在由基板保持部（31）保持的基板（W）的周围。 引导部的高度与基板（W）的周边部的上侧的高度相同或者低于基板的周边部的高度。 引导部分包括用于引导从基板（W）的上侧泄漏的处理液的引导表面（347）。 旋转杯（35）与基板保持部（31）一起旋转。 旋转杯将处理液引导到在引导部分（34）和旋转杯之间的间隙中准备到基板保持部分（31）外部的杯（50a-50c）。
-
公开(公告)号：KR1020110131146A
公开(公告)日：2011-12-06
申请号：KR1020110106340
申请日：2011-10-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , G03F7/16
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/00 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/6719 , G03F7/16 , H01L21/0274
Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus is provided to reduce the occupied area of a process block by arranging unit blocks while laminating a unit block for spreading drug solution for a reflection preventing film on a substrate and a unit block for spreading resist liquid. CONSTITUTION: A carrier block(S1) includes a placement board(21) which mounts a carrier(20) and a transfer arm(C). A process block(S2), which surrounds a frame body(24), is connected with the inside of the carrier block. The processing block is composed by vertically arranging five unit blocks. A main arm(A4) is arranged in a carrier range(R1). A shelf unit(U5) is arranged in a location where being accessed to the transfer arm and the main arm in a wafer accepting range(R2).
Abstract translation: 目的：提供一种涂覆和显影装置，用于通过布置单元块来降低处理块的占用面积，同时层压用于将基板上的反射防止膜的药物溶液铺展的单位块和用于铺展抗蚀剂液体的单位块。 构成：载体块（S1）包括安装载体（20）和传送臂（C）的放置板（21）。 围绕框体（24）的处理块（S2）与承载块的内部连接。 处理块由垂直排列的五个单位块构成。 主臂（A4）布置在载体范围（R1）中。 搁板单元（U5）布置在在晶片接受范围（R2）中被访问到传送臂和主臂的位置。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100776890B1
公开(公告)日：2007-11-19
申请号：KR1020060012371
申请日：2006-02-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/67017 , H01L21/67173 , H01L21/67742 , H01L21/67748 , H01L21/67754 , Y10S414/135
Abstract: 반송 기구에 의한 파티클의 비산이 억제되는 반도체 제조 장치를 제공한다.
반도체 제조 장치는, 횡방향으로 긴 반송용 통로를 따라 이동부가 이동하는 반송 기구와, 상기 반송용 통로를 따라 배치되어 반송 기구의 사이에서 기판의 전달이 실행됨과 함께 기판에 대하여 처리를 실행하는 복수의 처리 유닛과, 처리 유닛의 하부에 마련되어 반송용 통로측에 배기용의 개구부를 가지는 배기실과, 배기실에 접속되는 흡인 배기로와, 상기 배기실내 또는 상기 개구부에 임하는 위치에서, 반송용 통로를 따라 길게 마련되어, 상기 이동부를 가이드하는 가이드 부재를 구비하도록 반도체 제조 장치를 구성한다. 해당 배기실내를 흡인 배기함으로써 반송용 통로로부터 배기실로 향하는 흡인 기류가 발생하기 때문에, 가이드 부재를 이동부가 이동하여 파티클이 발생한 경우라도, 해당 파티클은 기류를 타고 배기실내로 유입하여 반송용 통로로부터 제거되기 때문에 파티클의 비산을 저감할 수 있다.-
公开(公告)号：KR100739209B1
公开(公告)日：2007-07-13
申请号：KR1020070013949
申请日：2007-02-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/162 , Y10S134/902
Abstract: 본 발명은 도포막 형성장치 및 도포유니트에 관한 것으로서 기판에 도포액을 도포하여 도포막을 형성하는 도포막형성장치는 기판카세트재치부 도포유니트 현상유니트 전처리/후처리유니트 및 각 유니트간에서 기판을 반송하는 주반송기구를 구비한다. 일필휘지의 요령으로 기판상에 레지스트액을 도포하기 위하여 기판을 Y방향으로 간헐적으로 이동시키고 또한 도포액노즐을 X방향으로 이동시키는 도포부를 도포유니트내에 설치한다. 도포후의 기판을 감압하에서 건조시키기 위한 감압건조부를 도포유니트내에 설치하고 또한 기판주연부에 부착하고 있는 도포막을 제거하기 위하여 장치를 도포유니트내에 설치한다. 감압건조부가 도포유니트의 외측에 있는 경우 주반송기구의 암을 커버물로 덮고 상기의 안을 용제의 분위기로 하는 기술이 제시된다.
기판, 도포액, 도포막, 도포 유니트Abstract translation: 本发明是一种用于通过在基板上涂布的涂布液形成的涂布膜的成膜装置涉及一种形成薄膜和涂层单元在基板盒之间传送衬底的装置安装部分涂敷单元显影单元前/后处理单元，并且每个单元 提供主要的运输机制。 为了涂覆在弯曲的刷子的一个行程中的Y方向上间歇地移动衬底，并且还在涂布单元，用于在X方向移动的涂敷液喷嘴提供的涂敷单元的方式在基板上的抗蚀剂溶液。 在涂布装置中设置减压干燥装置，用于在减压下干燥所涂布的基材，并将该装置安装在涂布装置中以去除附着在基材周围的涂膜。 当减压干燥单元位于涂布单元的外部时，主输送机构的臂被覆盖水覆盖，并且主输送机构的内部设定为溶剂气氛。
-
公开(公告)号：KR100618108B1
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：KR1020000031750
申请日：2000-06-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 아키모토마사미
IPC: H01L21/30
CPC classification number: H01L21/67109 , Y10S414/135
Abstract: 본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 가열처리장치와 도포처리장치, 현상장치와의 사이에 웨이퍼를 소정 온도로까지 냉각하는 냉각처리장치가 배치되어 있으며, 냉각처리장치 위에 프리냉각장치가 다단으로 설치되어 있고, 가열처리장치에서의 가열처리가 종료된 직후의 웨이퍼는 제 1 반송장치에 의해 먼저 프리냉각장치로 반송된 후, 제 3 반송장치에 의해 웨이퍼는 냉각처리장치로 반송되어 소정 온도로까지 냉각되며, 그 후 제 2 반송장치에 의해 레지스트 도포처리장치로 반송되어짐으로써, 기판의 오버 베이크(overbake)를 방지할 수 있는 기술이 제시된다.
Abstract translation: 基板处理装置技术领域本发明涉及基板处理装置，在加热处理装置，涂敷处理装置和显影装置之间配置有用于将晶片冷却到规定温度的冷却处理装置， 首先，在热处理装置中的热处理完成之后的晶片首先被第一输送装置输送到预冷却装置，晶片通过第三输送装置被输送到冷却处理装置， 然后通过二次转印装置转印到抗蚀剂涂布设备，由此防止基材过度烘烤。
-
公开(公告)号：KR1020060092061A
公开(公告)日：2006-08-22
申请号：KR1020060012371
申请日：2006-02-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/67017 , H01L21/67173 , H01L21/67742 , H01L21/67748 , H01L21/67754 , Y10S414/135
Abstract: 반송 기구에 의한 파티클의 비산이 억제되는 반도체 제조 장치를 제공한다.
반도체 제조 장치는, 횡방향으로 긴 반송용 통로를 따라 이동부가 이동하는 반송 기구와, 상기 반송용 통로를 따라 배치되어 반송 기구의 사이에서 기판의 전달이 실행됨과 함께 기판에 대하여 처리를 실행하는 복수의 처리 유닛과, 처리 유닛의 하부에 마련되어 반송용 통로측에 배기용의 개구부를 가지는 배기실과, 배기실에 접속되는 흡인 배기로와, 상기 배기실내 또는 상기 개구부에 임하는 위치에서, 반송용 통로를 따라 길게 마련되어, 상기 이동부를 가이드하는 가이드 부재를 구비하도록 반도체 제조 장치를 구성한다. 해당 배기실내를 흡인 배기함으로써 반송용 통로로부터 배기실로 향하는 흡인 기류가 발생하기 때문에, 가이드 부재를 이동부가 이동하여 파티클이 발생한 경우라도, 해당 파티클은 기류를 타고 배기실내로 유입하여 반송용 통로로부터 제거되기 때문에 파티클의 비산을 저감할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020060085190A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：KR1020060005978
申请日：2006-01-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67184 , H01L21/00 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , G03F7/70975 , G03F7/7075
Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1 ; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ;BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모 할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.Abstract translation: 本发明涉及一种涂布显影装置及其方法，其包括作为用于在处理块（S2）上形成涂膜的单位块的TCT层（B3）; COT层B4; 作为用于显影处理的单位块的BCT层B5和DEV层B1（B2）彼此堆叠。 在TCT层B3中也包括形成防反射膜的情况和未形成防反射膜的情况; 可以通过从BCT层B5中选择要使用的单元块来应对COT层B4，在这种情况下，可以抑制传输程序的复杂性并且可以简化软件。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
140
records
(took 0.025 seconds)
