-
公开(公告)号:CN100538987C
公开(公告)日:2009-09-09
申请号:CN03818040.5
申请日:2003-07-29
Applicant: 艾克塞利斯技术公司
Inventor: V·本维尼斯特
IPC: H01J37/317 , H01J37/05
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/05 , H01J37/08 , H01J2237/0835 , H01J2237/31701
Abstract: 公开了离子注入系统以及用于该系统的束线,其中质量分析并准直具有相对大宽高比的带状束,以提供用于注入一个或多个工件的经质量分析的带状束。束线系统(12)包括两个相似的磁体(22、24),其中第一磁体(22)质量分析带状束以提供经质量分析的中间离子束,第二磁体(24)准直该中间束以向终端台(18)提供均匀的经质量分析的带状束。该对称系统为横跨细长的束宽度的离子提供等距离的束轨道(41、43),以便减轻系统的束输运中的非线性,从而使最终经质量分析后的束具有均匀的高度。
-
公开(公告)号:CN101390186A
公开(公告)日:2009-03-18
申请号:CN200780006879.9
申请日:2007-02-14
Applicant: 国际商业机器公司
Inventor: R·M·特罗普
IPC: H01J37/05 , H01J37/153 , G01N23/20 , G01N23/227
CPC classification number: H01J37/153 , H01J37/05 , H01J37/252 , H01J37/295 , H01J2237/055 , H01J2237/1534 , H01J2237/2538 , H01J2237/2544
Abstract: 提供一种像差校正显微镜仪器。所述仪器具有用于接收第一非色散的电子衍射图形的第一磁偏转器(206)。第一磁偏转器还被构造为在第一磁偏转器的出射面(A2)内投影第一能量色散的电子衍射图形。在第一磁偏转器的出射面内设置有静电透镜(224)。第二磁偏转器(222)基本上与第一磁偏转器相同,其被设置用于接收来自静电透镜的第一能量色散的电子衍射图形。第二磁偏转器还被构造为在第二磁偏转器的第一出射面(B2)内投影第二非色散的电子衍射图形。电子反射镜(226)被构造为用于校正第二非色散的电子衍射图形内的一个或多个像差。电子反射镜被设置用于将第二非色散的电子衍射图形反射到第二磁偏转器,用于在第二磁偏转器的第二出射面(B3)内投影第二能量色散的电子衍射图形。
-
公开(公告)号:CN1672235A
公开(公告)日:2005-09-21
申请号:CN03818040.5
申请日:2003-07-29
Applicant: 艾克塞利斯技术公司
Inventor: V·本维尼斯特
IPC: H01J37/317 , H01J37/05
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/05 , H01J37/08 , H01J2237/0835 , H01J2237/31701
Abstract: 公开了离子注入系统以及用于该系统的束线,其中质量分析并准直具有相对大宽高比的带状束,以提供用于注入一个或多个工件的经质量分析的带状束。束线系统(12)包括两个相似的磁体(22、24),其中第一磁体(22)质量分析带状束以提供经质量分析的中间离子束,第二磁体(24)准直该中间束以向终端台(18)提供均匀的经质量分析的带状束。该对称系统为横跨细长的束宽度的离子提供等距离的束轨道(41、43),以便减轻系统的束输运中的非线性,从而使最终经质量分析后的束具有均匀的高度。
-
公开(公告)号:CN1658331A
公开(公告)日:2005-08-24
申请号:CN200510051944.2
申请日:2005-02-16
Applicant: FEI公司
CPC classification number: H01J37/05 , H01J37/09 , H01J37/153 , H01J37/26
Abstract: 本发明揭示了一种能够进行能量选择的粒子源。能量选择是通过使带电粒子束(13)偏心通过透镜(6)。由于这种方式,在经透镜(6)所形成的像15内出现能量扩散。通过将像(15)投射到光阑(7)上,可仅允许能谱内有限部分的粒子通过。因此,通过的射束(16)具有减小的能够分布。通过增设偏转单元(10),该粒子束(16)能够向光轴偏转。还可选择向光轴偏转通过透镜(6)中央的(例如具有较大射束电流的)射束(12)。
-
公开(公告)号:CN105428193B
公开(公告)日:2018-08-10
申请号:CN201510477413.3
申请日:2015-08-06
Applicant: 住友重机械离子技术有限公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/304 , H01J37/05 , H01J37/244 , H01J37/3171 , H01J2237/055 , H01J2237/24514
Abstract: 本发明提供一种离子注入装置及离子束的调整方法,其课题在于在避免离子注入装置的生产率的下降的同时实现能量精度的提高。本发明的离子注入装置的能量分析狭缝(28)构成为可切换标准狭缝开口(110)与高精度狭缝开口(112),所述标准狭缝开口用于在所给注入条件下进行的注入处理;所述高精度狭缝开口具有比标准狭缝开口(110)高的能量精度,且为了调整高频线性加速器的加速参数而使用。加速参数取决于所给注入条件,以便使向高频线性加速器供给的离子的至少一部分加速至目标能量,并且使通过射束测量部测量的射束电流量与目标射束电流量相当。
-
公开(公告)号:CN105575754B
公开(公告)日:2018-06-26
申请号:CN201510548657.6
申请日:2015-08-31
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J49/20
CPC classification number: H01J49/30 , H01J37/05 , H01J37/1472 , H01J37/3171 , H01J49/20 , H01J2237/055 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明提供一种质量分析电磁铁,其能抑制在离子束(IB)的质量分离方向以外的位置因离子束(IB)与分析管(9)的壁面碰撞而附着、堆积的堆积物混入目标物(5)中。质量分析电磁铁(2)具备在内侧区域形成离子束(IB)通道的分析管(9),使离子束(IB)向规定的方向偏转,利用质量的不同分离包含在离子束(IB)中的离子,在与离子束(IB)的前进方向和离子束(IB)的质量分离方向垂直的方向上,分析管(9)具有遮蔽离子束(IB)的端部的至少一个遮蔽构件(SH)。
-
公开(公告)号:CN104250687B
公开(公告)日:2018-01-30
申请号:CN201410223350.4
申请日:2014-05-26
Applicant: 苹果公司
Inventor: S·R.·兰开斯特-拉罗克 , C·钱 , 植村贤介 , P·哈雷罗
IPC: C21D10/00
CPC classification number: B23K15/00 , B23K15/02 , B23K20/122 , H01J37/05 , H01J37/305 , H01J2237/05
Abstract: 公开了一种电子束调节。所描述的实施例一般地涉及调整输出或电子束的调节。更具体而言,公开了涉及将入射到工件的电子束的足迹保持在所限定的能量水平内的各种构造。这样的构造允许电子束仅将工件的特定部分加热到在其中金属间化合物分解的过热状态。在一个实施例中,公开了阻止电子束的低能量部分接触工件的掩模。在另一个实施例中,电子束可以用将电子束保持在一能量水平以使得基本所有的电子束在阈值能量水平之上的方式被聚焦。
-
公开(公告)号:CN105531793B
公开(公告)日:2017-07-14
申请号:CN201480047309.4
申请日:2014-05-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/295 , G01N23/04 , H01J37/09 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/24 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/28
CPC classification number: H01J37/10 , G01N23/20058 , G01N2223/418 , H01J37/04 , H01J37/05 , H01J37/09 , H01J37/147 , H01J37/1472 , H01J37/153 , H01J37/24 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/261 , H01J37/28 , H01J37/285 , H01J37/295 , H01J2237/21 , H01J2237/2614
Abstract: 本发明提供一种电子显微镜,其特征在于,在通过关闭透射电子显微镜的物镜(5),使电子束的交叉(11、13)与限制视场光阑(65)一致,并使第一成像透镜(61)的焦距变化,来进行试样的像观察模式与试样的衍射图案观察模式的切换的无透镜傅科法中,在第一成像透镜(61)的后段配置偏转器(81),在确定成像光学系统的条件后能够固定照射光学系统(4)的条件。由此,在不安装磁屏蔽透镜的通常的通用型透射电子显微镜中,也能够对操作者没有负担地实施无透镜傅科法。
-
公开(公告)号:CN103137418B
公开(公告)日:2017-05-24
申请号:CN201210595867.7
申请日:2012-11-29
Applicant: FEI公司
Inventor: B·R·小劳思
CPC classification number: H01J37/285 , G01T1/28 , H01J27/16 , H01J37/05 , H01J37/077 , H01J37/08 , H01J37/10 , H01J37/1471 , H01J37/265 , H01J37/30 , H01J37/304 , H01J37/305 , H01J37/3056 , H01J2237/0817 , H01J2237/24415 , H01J2237/2445 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448 , H01J2237/31749
Abstract: 本发明涉及作为用于光谱分析的电子束源的感应耦合等离子体源。一种具有用户可选择配置的单镜筒感应耦合等离子体源操作在用于FIB操作的离子模式或用于SEM操作的电子模式下。装备有x射线探测器,能量色散x射线光谱分析是可能的。用户能够选择性地配置ICP以在离子模式或FIB模式下制备样品,接着实质上扳动选择电子模式或SEM模式的开关并且使用EDS或其它类型的分析来分析样品。
-
公开(公告)号:CN104380427B
公开(公告)日:2017-03-01
申请号:CN201380025282.4
申请日:2013-04-02
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01J37/22 , H01J37/10 , H01J37/147
CPC classification number: H01J37/153 , H01J37/05 , H01J37/28 , H01J2237/1534
Abstract: 一个实施例涉及一种用于高分辨率电子束成像的设备。所述设备包含经配置以限制入射电子束中的电子的能量扩散的能量过滤器。所述能量过滤器可使用消像散维恩(Wien)过滤器及过滤器孔口而形成。另一实施例涉及一种形成用于高分辨率电子束设备的入射电子束的方法。另一实施例涉及一种包含弯曲导电电极的消像散维恩过滤器。另一实施例涉及一种包含一对磁轭及多极偏转器的消像散维恩过滤器。本发明还揭示其它实施例、方面及特征。
-
-
-
-
-
-
-
-
-