公开(公告)号：KR1020020091776A

公开(公告)日：2002-12-06

申请号：KR1020020025467

申请日：2002-05-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/13 ,  B65G13/04 ,  B65G39/14 ,  B65G49/06 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/677 ,  Y10S414/14

Abstract: PURPOSE: A conveyor is provided to prevent slip between both sides of a substrate and a conveyor roller with a pressure roller, and to dry securely by restricting remaining processing fluid around the center of the substrate. CONSTITUTION: When conveying a substrate(G) by a conveyer, the substrate on a conveying roller(43) is conveyed while pressing both terminals with a pressure roller(36). Further, a supporting roller(37) having a diameter larger than the diameter of a placing part(43a) of the conveying roller is provided, and the substrate is conveyed while being projected upward so that the substrate is prevented from being warped.

Abstract translation: 目的：提供输送机以防止基板两侧和带有压力辊的输送辊之间滑动，并通过围绕基板中心限制剩余的处理流体来确保干燥。 构成：当通过输送机输送基板（G）时，输送辊（43）上的基板被输送，同时用加压辊（36）按压两个端子。 此外，提供了直径大于输送辊的放置部分（43a）的直径的支撑辊（37），并且基板被向上突出地被输送，从而防止了基板翘曲。

公开(公告)号：KR1020010092357A

公开(公告)日：2001-10-24

申请号：KR1020010013342

申请日：2001-03-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: To provide heating treatment equipment which is used for the heat treatment of the substrate of a liquid crystal display device or a semiconductor substrate carrying a resist film formed on its surface and prevents the occurrence of transfer to the substrate. CONSTITUTION: This heating treatment equipment 52 is provided with a heating plate 42 which performs heat treatment on a substrate G positioned closely to or placed on the placing surface of the plate 42. On the placing surface of the plate 42, elevating/lowering pins 48 which elevate/lower the substrate G are set so that the pins 42 may pass through the plate 42. Each pin 48 is formed in such a way that the outer diameter of its front end section is made smaller than that of its body section.

Abstract translation: 目的：提供用于液晶显示装置的基板的热处理的加热处理装置或在其表面上形成有抗蚀剂膜的半导体基板，防止向基板的转印。 构成：该加热处理设备52设置有加热板42，该加热板对靠近或放置在板42的放置表面上的基板G进行热处理。在板42的放置面上，升降销48 将基板G升高/降低的位置被设定为使得销42可以穿过板42.每个销48形成为使得其前端部分的外径小于其主体部分的外径。

公开(公告)号：KR100274756B1

公开(公告)日：2000-12-15

申请号：KR1019950024425

申请日：1995-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  세키구치겐지 ,  오모리츠타에

IPC: H01L21/312 ,  H01L21/027 ,  G03F7/06

CPC classification number: B05D1/005 ,  G03F7/162

Abstract: 처리용기 내에 수용된 기판을, 처리용기와 함께 회전 시키면서, 상기 기판의 면위에 도포액을 공급하여 도포막을 형성하는 도포막 형성 방법은, 기판의 면위에 용제를 도포하는 공정과, 기판에 도포액을 공급하는 공정과, 기판 및 처리용기를 제 1의 회전수로 회전시켜서, 도포액을 기판의 면위에서 확산시키는 공정과, 처리용기를 뚜껑체로 폐쇄하고, 기판을 처리용기내에 봉입하는 공정과, 뚜껑체가 구비된 처리용기 및 기판을 제 2의 회전수로 회전시켜서, 도포막의 막두께를 조정하는 공정을 가진다.

公开(公告)号：KR100230753B1

公开(公告)日：1999-11-15

申请号：KR1019920000821

申请日：1992-01-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  가부시끼가이샤 도시바 ,  도꾜일렉트론큐슈리미티드

Inventor： 하세베게이조 ,  다테야마기요히사 ,  요시모또유지 ,  마쯔야마유지 ,  나까하라데쯔로 ,  기무라요시오

IPC: H01L21/20

CPC classification number: B05C5/001 ,  B05C5/0208 ,  B05C5/027 ,  B05C11/08 ,  G03F7/162 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명에 관한 액도포 시스템은 액 공급원과, 이 액 공급원에 연통하는 인렛 및 실질적으로 선형인 액토출부를 갖는 노즐과, 액공급원에서 노즐 수단으로 향하여 가압가스에 의해 액을 압송하는 압송유닛과, 반도체웨이퍼를 재치 고정하는 스핀 척과, 노즐의 액토출부를 스핀척상의 웨이퍼에 근접대면시키는 승강실린더와, 스핀척을 회전시키는 회전기구를 구비한다. 노즐은 액 공급원에서 공급된 액이 모이는 액 저장부와, 상기 액 저장부에 연통하는 다수의 가는 구멍을 가진다. 또한, 노즐의 인렛과 액공급원과의 사이의 연통로에 형성되고, 액저장부로의 압송액의 압력을 줄이는 공기 조작밸브를 가진다.

公开(公告)号：KR100230694B1

公开(公告)日：1999-11-15

申请号：KR1019930008470

申请日：1993-05-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67173 ,  B08B1/007 ,  B08B1/04 ,  B08B11/02 ,  H01L21/67046 ,  Y10S134/902

Abstract: 기판 세정처리장치에서는, 기판을 회전(spin) 판부재와 함께 회전시키는 모터와, 회전 판부재와 웨이퍼 하면과의 상호간에 공간이 형성되도록 웨이퍼를 유지하는 유지돌기와, 웨이퍼 상면에 세정액을 뿌리는 제트노즐과, 웨이퍼 상면에 회전브러시로 세정하는 회전 브러시와, 웨이퍼 하면의 질소가스 또는 순수한 물을 내뿜는 유체 취출기구와, 상호간 공간을 배기하는 배기기구를 가지며, 유체 취출기구의 유체통로 및 배기기구의 배기통로가 모터의 회전구동축의 안에 형성되고, 상호간 공간에 열결되어 통하도록 되어 있다.

公开(公告)号：KR100209564B1

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019910016059

申请日：1991-09-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  가부시끼가이샤 도시바 ,  도꾜일렉트론큐슈리미티드

Inventor： 다테야마기요히사 ,  하세베게이조

IPC: H01L21/31

CPC classification number: H01L21/67173 ,  B05C5/005 ,  H01L21/6715

Abstract: 본 발명에 따른 액 도포 시스템은 액 공급원(13,14)과, 액 공급원(13,14)에 연통하는 노즐(8,30)을 구비한다. 노즐(8,30)은 액공급원(13,14)으로 부터 공급된 액이 모이는 액저장부(21)와, 액저장부(21)에 연통되고, 각 횡단면이 액저장부(21)보다 각각 작은 복수의 세관(22)과, 세관(22)의 각각에 연통되고, 세관(22)으로부터의 액의 흐름을 합류시키고, 반도체 웨이퍼(W)로 향하여 액을 연속적이며 또한 커튼 형상으로 토출하는 슬릿통로(24)를 가진다.

公开(公告)号：KR100158211B1

公开(公告)日：1999-02-18

申请号：KR1019910015595

申请日：1991-09-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 코니시노부오 ,  다카모리히데유키 ,  아키모토마사미 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/20

CPC classification number: H01L21/67173 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719

Abstract: 도포장치는 단일하우징내 배열설치되고, 웨이퍼를 지지하며 또한 회전시키는 2 개의 스핀척을 구비한다.
양 스핀척 사이에는, 상기 노즐내의 굳어진 상기 도포액을 배출하기 위한 대기 트렌치가 배열설치된다.
웨이퍼는 상기 하우징외에 배열설치된 단일의 반송기구에 의하여 상기 스핀척에 대하여 공급/배열된다.
도포액공곱기구는 상기 스핀척에 지지된 웨이퍼상에 도포액을 토출하기 위한 단일 노즐을 포함한다.
상기 노즐은 이동아암에 의하여 상기 스핀척 사이에서 이동시킨다.
상기 양스핀척에 있어서의 처리 사이클은 동일 처리시간이고 또한 서로 반사이클씩 어긋나게 하여 설정된다.
상기 노즐은 상기 스핀척에 지지된 웨이퍼상에 도포액을 토출하는때 이외에는 상기 대기 트렌치상에 배치된다.

公开(公告)号：KR1019980087108A

公开(公告)日：1998-12-05

申请号：KR1019980017562

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  다카모리히데유키

IPC: H01L21/68

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판반송장치 및 기판반송방법
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
단순한 구성으로 기판에 오염물이 다시 부착되는 것을 신뢰성 있게 방지할 수 있는 기판반송장치 및 동일한 효과를 발휘할 수 있는 기판반송방법을 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
기판이 반출될 때, 기판에 오염물질이 부착되는 것을 방지하는 기판반송장치로서, 제 1 및 제 2 지지수단이 아암에 마련되며, 제 1 지지수단은 기판이 처리장치내로 반입될 때 기판을 지지하고, 제 2 지지수단은 기판이 처리장치로부터 반출될 때 기판을 지지한다.
4. 발명의 중요한 용도
기판의 세정장치등과 같은 처리장치용 기판반송장치에 사용됨.

公开(公告)号：KR1019980018527A

公开(公告)日：1998-06-05

申请号：KR1019970037949

申请日：1997-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 쓰카모토다케시 ,  다테야마기요히사 ,  무라타가즈히코

IPC: H01L21/027

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
본 발명은 LCD기판이나 반도체웨이퍼와 같은 기판의 가장자리부로부터 처리제를 제거하는 처리장치에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
본 발명은 레지스트와 같은 처리제를 용해제거하기 위하여 사용한 용제의 증기가 주변분위기중으로 누출하는 것을 방지하는 기구를 가지는 처리장치를 제공하는 데 있다.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명의 처리장치는, 기판의 표면에 레지스트를 도포하는 레지스트 도포장치와, 레지스트 도포장치로부터 반출되고 기판의 가장자리부에 부착한 불필요한 레지스트를 제거하는 레지스트 제거장치와, 레지스트 도포장치로부터 레지스트 제거장치로 기판을 반송하는 반송아암으로 구성되며, 레지스트 제거장치는, 반송아암에 의해서 반압된 기판을 재치하는 재치대와, 재치대에 재치된 기판의 가장자리부에 부착한 불필요한 레지스트를 용해제거하기 위하여 가장자리부에 용제를 분출하는 노즐과, 불필요한 레지스트를 용해 제거하기 위하여 사용된 용제 및 용해 제거된 레지스트를 배출하기 위한 배출장치와, 재치대 하부의 분위기를 하방으로 배기하는 배기장치로 구성된다.
4. 발명의 중요한 용도
레지스트와 같은 처리제를 기판상에 도포하는 장치에 사용한다.

公开(公告)号：KR1019960042125A

公开(公告)日：1996-12-21

申请号：KR1019960017656

申请日：1996-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모토다기미오 ,  다테야마기요히사 ,  아나이노리유키

IPC: G02F1/13

Abstract: 레지스트 도포장치는, 승강가능하게 설치되고, 수취한 기판을 유지하고, 기판과 함께 스핀회전하는 스핀척과, 이 스핀척상의 기판에 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급원과, 스핀척상의 기판을 둘러싸고, 스핀척과 연동하여 회전되고, 기판으로 부터 원심분리되는 레지스트액을 받는 회전컵과, 이 회전컵 주위에 설치되고, 회전컵내로 부터 방출되는 폐기물을 받아내고, 받아낸 폐기물이 모이는 집합공간을 가지는 드레인컵과, 이 집합공간에 개구하는 배액구를 가지며, 이 배액구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 액체성분을 배출하는 배액통로와, 집합공간에 연이어 통하는 배기구를 가지며,이 배기구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 가스성분을 배기하는 배기통로와, 가스성분을 집합공간로 부터 배기통로쪽으로 안내하기 위해서, 적 도 배액구보다도 높은 위치에 설치된 배기안내통로와, 이 배기안내통로에 설치되고, 가스성분을 따라 가는 기류가 충돌하면, 이것에 포함되는 액체성분은 응측시키고, 액체성분이 배기통로쪽으로 가는 것을 저지하는 기액분리부재를 구비한다.