公开(公告)号：EP2132764A2

公开(公告)日：2009-12-16

申请号：EP08730756.7

申请日：2008-02-26

Applicant: Veeco Instruments Inc.

Inventor： HAYES, Alan, V. ,  YEVTUKHOV, Rustam ,  KANAROV, Viktor ,  DRUZ, Boris, L.

IPC: H01J37/08 ,  H01J27/18 ,  H01J27/16 ,  H01J37/32 ,  C23C14/35

CPC classification number: H01J37/302 ,  H01J27/18 ,  H01J37/08 ,  H01J37/305 ,  H01J37/32082 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/24542

Abstract: Ion sources and methods of operating an electromagnet of an ion source for generating an ion beam with a controllable ion current density distribution. The ion source (10) includes a discharge chamber (16) and an electromagnet (42; 42a-d) adapted to generate a magnetic field (75) for changing a plasma density distribution inside the discharge chamber (16). The methods may include generating plasma (17) in the discharge space (24), generating and shaping a magnetic field (75) in the discharge space (24) by applying a current to an electromagnet (42; 42a-d) that is effective to define the plasma density distribution, extracting an ion beam (15) from the plasma (17), measuring a distribution profile for the ion beam density, and comparing the actual distribution profile with a desired distribution profile for the ion beam density. Based upon the comparison, the current applied to the electromagnet (42; 42a-d) may be adjusted to modify magnetic field (75) the magnetic field in the discharge space and, thereby, alter the plasma density distribution.

Abstract translation: 离子源和操作离子源的电磁体的方法，用于产生具有可控离子电流密度分布的离子束。 离子源（10）包括适于产生用于改变放电室（16）内的等离子体密度分布的磁场（75）的放电室（16）和电磁体（42; 42a-d）。 所述方法可以包括在放电空间（24）中产生等离子体（17），通过向有效的电磁体（42; 42a-d）施加电流来产生和成形放电空间（24）中的磁场（75） 定义等离子体密度分布，从等离子体（17）提取离子束（15），测量离子束密度的分布分布，并将实际分布分布与用于离子束密度的期望分布分布进行比较。 基于比较，可以调节施加到电磁体（42; 42a-d）的电流以改变放电空间中的磁场（75），从而改变等离子体密度分布。

公开(公告)号：EP1199739A2

公开(公告)日：2002-04-24

申请号：EP01308857.0

申请日：2001-10-18

Applicant: eLith LLC ,  Agere Systems Guardian Corporation

Inventor： Katsap, Victor ,  Liddle, James A. ,  Mkrtchyan, Masis ,  Stanton, Stuart T.

IPC: H01J37/24 ,  H01J37/153 ,  H01J37/317

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/065 ,  H01J37/153 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/0656 ,  Y10S977/881 ,  Y10S977/887

Abstract: An electron beam lithographic apparatus has an electron gun providing a beam of accelerated electrons, a mask stage adapted to hold a mask in a path of the beam of accelerated electrons, and a workpiece stage adapted to hold a workpiece in a path of electrons that have traversed the mask. The electron gun has a cathode having an electron emission surface, an anode adapted to be connected to a high-voltage power supply to provide an electric field between the cathode and the anode to accelerate electrons emitted from the cathode toward the anode, and a current-density-profile control grid disposed between the anode and the cathode. The current-density-profile control grid is configured to provide an electron gun that produces an electron beam having a non-uniform current density profile. A method of producing a micro-device includes generating a beam of charged particles having a non-uniform charged-particle current density, illuminating a mask with the beam of charged particles, and exposing a workpiece with charged particles from the beam of charged particles.

Abstract translation: 的电子束光刻设备具有电子枪（22）提供加速的电子束，掩模台angepasst保持掩模中加速的电子束的路径，和一个工件阶段angepasst到的路径保持工件 电子thathave穿过掩模。电子枪（22）具有在阳极上电子发射表面（52），其具有在阴极（42）（46）angepasst被连接到高电压电源（56），以提供 在阴极和加速从朝向阳极阴极发射的电子在阳极，以及在阳极和阴极之间设置的电流密度轮廓控制栅极（44）之间的电场。 电流密度轮廓控制栅极被配置为提供到电子枪的确产生具有非均匀的电流密度分布（90）的电子束的。 制造微器件的方法包括：产生具有非均匀的带电粒子电流密度，照亮的掩模与带电粒子的束，并露出工件从带电粒子的束带电粒子的带电粒子的射束。

公开(公告)号：JP2018501626A

公开(公告)日：2018-01-18

申请号：JP2017536305

申请日：2016-01-06

Applicant: マイヤー・ブルガー・(ジャーマニー)・アクチエンゲゼルシャフト

Inventor： マイ・ヨアヒム ,  ルカ・アルフォンツ ,  ザルスタット・マルギット

IPC: H01J27/02 ,  H01J37/077 ,  H01J37/08 ,  H01J37/30 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J27/024 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/083

Abstract: 本発明は、担体を抽出するための少なくとも一つの電極集合体1aを備えた、担体発生空間から電荷担体を抽出する装置に関し、この少なくとも一つの電極集合体は、一致した開口を有する、少なくとも第一の格子電極と第二の格子電極を備えている。第一の格子電極及び第二の格子電極は、それぞれ少なくとも一つの導電性の第一の格子電極領域110,210を有し、第一の格子電極の少なくとも一つの第一の格子電極領域110a,bが第一の層100に構成され、第二の格子電極の少なくとも一つの第一の格子電極領域210a,bが第二の層200に構成されている。第一の層と第二の層は、電極集合体内において粒子出射方向に対して順番に配置されるとともに、粒子出射方向に沿って互いに第一の間隔300を開けて配置されており、第一の格子電極の少なくとも一つの第一の格子電極領域110a,bが、第一の層において導電性の第一の層部分101を構成する。更に、第一の層部分から電気的に絶縁された導電性の第二の層部分102が第一の層に構成されている。第二の層部分102が、第一の格子電極又は第二の格子電極の少なくとも一つの導電性の第二の格子電極領域によって構成され、第二の層部分102が、第二の格子電極の少なくとも一つの第一の格子電極領域210a,bと通電接続301されている。そのため、本発明による担体を抽出する装置は、電気的にスイッチング可能な抽出格子電極集合体であり、その電極集合体を用いて、抽出した担体から成る粒子ビームのビーム特性を変更することができる。

公开(公告)号：JP5203456B2

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：JP2010517699

申请日：2009-06-10

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 圭吾 糟谷 ,  卓 大嶋 ,  創一 片桐 ,  滋 小久保 ,  秀男 戸所

IPC: H01J37/073

CPC classification number: H01J1/304 ,  H01J37/073 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/06325 ,  H01J2237/0653 ,  H01J2237/0656

公开(公告)号：JP5091258B2

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：JP2009551065

申请日：2008-02-26

Applicant: ビーコ・インスツルメンツ・インコーポレーテッド

Inventor： アラン・ヴイ・ヘイズ ,  ルスタム・イェヴトゥクコフ ,  ヴィクター・カナロフ ,  ボリス・エル・ドルズ

IPC: H01J27/16 ,  H01J37/04 ,  H01J37/08 ,  H01J37/305 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/00 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/302 ,  H01J27/18 ,  H01J37/08 ,  H01J37/305 ,  H01J37/32082 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/24542

公开(公告)号：KR1020170104558A

公开(公告)日：2017-09-15

申请号：KR1020177022297

申请日：2016-01-06

Applicant: 마이어 부르거 (저머니) 아게

Inventor： 마이,요아힘 ,  루카,알폰스 ,  사르스테트,마르기트

IPC: H01J27/02 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J27/024 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/083

Abstract: 본발명은전하캐리어들의추출을위한적어도하나의전극어셈블리를포함하는, 전하캐리어생성공간으로부터전기전하캐리어들의추출을위한디바이스에관한것이고, 적어도하나의전극어셈블리는대응하는오리피스(orifice)들을가지는적어도하나의제 1 그리드전극및 제 2 그리드전극을가진다. 제 1 및제 2 그리드전극은각각적어도하나의제 1 전기전도성그리드전극지역을포함하고, 제 1 그리드전극의적어도하나의제 1 그리드전극지역은제 1 층에구성되고제 2 그리드전극의적어도하나의제 1 그리드전극지역은제 2 층에구성된다. 제 1 층및 제 2 층은전극어셈블리내의입자출구방향으로잇따라배열되고입자출구방향을따라제 1 거리만큼서로이격되고, 제 1 그리드전극의적어도하나의제 1 그리드전극지역은제 1 층에제 1 전기전도성층 부분을형성한다. 게다가, 제 2 전기적전도성층 부분은제 1 층에형성되고, 제 1 층부분과전기적으로절연된다. 제 2 층부분은제 1 그리드전극또는제 2 그리드전극의적어도제 2 전기전도성그리드전극지역에의해형성되며제 2 층부분은제 2 그리드전극의적어도하나의제 1 그리드전극지역에전기전도성방식으로연결된다. 따라서, 본발명에따른전하캐리어들의추출을위한디바이스는전기적으로스위칭가능한추출그리드전극어셈블리를제공하고, 이에의해추출된전하캐리어들의입자빔의빔 특징들은수정될수 있다.

Abstract translation: 具有含至少一个电极组件，本发明涉及一种装置，用于将电荷载流子从载流子产生空间，节流孔（节流孔）的提取，对应于电荷载流子的提取，其中至少一个电极组件，至少 一个第一栅极和一个第二栅极。 第一mitje第二格栅电极是至少一个第一，至少一个第一栅电极的导电格栅，所述第一栅格电极的面积，以及电极区由第二格栅电极的第一层，每个中的至少一个的 第一栅极区域被配置在第二层中。 所述第一层和第二层彼此首先通过沿颗粒出口被连续地布置在所述电极组件的方向粒子出口方向分开第一距离，所述第一栅格电极的所述至少一个第一栅极电极区域是先在第一层 1导电层部分。 另外，第二导电层部分形成在第一层中并且与第一层部分电隔离。 在至少一个第二导电栅格电极的第二层部分是由本地第二层部分形成在所述第一栅电极的第二栅电极系统或所述第二格栅电极中的至少一个第一格栅电极面积导电 它连接。 因此，根据本发明的用于电荷载流子的提取装置提供的可切换电网引出电极通过装配，从而粒子的光束的光束特性，载流子的提取可以被修改。

公开(公告)号：KR1020170054281A

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：KR1020160144930

申请日：2016-11-02

Applicant: 램 리써치 코포레이션

Inventor： 탄종규 ,  푸첸 ,  우잉 ,  슈칭

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32146 ,  H01J37/32165 ,  H01J37/32422 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/308

Abstract: 제 1 시간기간동안, 기판레벨에서저 바이어스전압을인가하는동안, 기판으로의노출시플라즈마를생성하도록보다높은 RF (radiofrequency) 전력이인가된다. 제 2 시간기간동안, 기판레벨에서고 바이어스전압을인가하는동안, 플라즈마를생성하도록보다낮은 RF 전력이인가된다. 제 1 시간기간및 제 2 시간기간은기판상에서목표된효과를생성하기위해필요한전체시간기간동안교번하고연속적인방식으로반복된다. 일부실시예들에서, 시간평균기준으로플라즈마가라디칼밀도보다큰 이온밀도를갖도록제 1 시간기간은제 2 시간기간보다짧다. 일부실시예들에서, 시간평균기준으로플라즈마가라디칼밀도보다낮은이온밀도를갖도록제 1 시간기간은제 2 시간기간보다길다.

Abstract translation: 在第一时间段内，当在衬底级施加低偏置电压时，施加更高的RF（射频）功率以在暴露于衬底时产生等离子体。 在第二时间段期间，当在衬底级施加高偏置电压时，施加较低的RF功率以产生等离子体。 第一时间段和第二时间段以交替和连续的方式在基板上产生所需效果所需的整个时间段内重复。 在一些实施例中，第一时间段短于第二时间段，使得等离子体具有大于基于时间平均的自由基密度的离子密度。 在一些实施例中，第一时间段比第二时间段长，使得等离子体具有比基于时间平均的自由基密度更低的离子密度。

公开(公告)号：JP2018190723A

公开(公告)日：2018-11-29

申请号：JP2018088536

申请日：2018-05-02

Applicant: エフ イー アイ カンパニ ,  FEI COMPANY

Inventor： アリ モハマディ ゲイダーリ ,  アレキサンデル ヘンストラ ,  ペーター クリスティアン タイメイヤー ,  クン リウ ,  プレウン ドナ ,  グレゴリー エー.シュヴィント ,  ガーバート イエルーン ヴァン デ ワーテル ,  マールテン ビショフ

IPC: H01J37/145

CPC classification number: H01J37/29 ,  G02B21/06 ,  H01J37/065 ,  H01J37/067 ,  H01J37/145 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/06316 ,  H01J2237/06341 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/28

Abstract: 【課題】荷電粒子顕微鏡のガンレンズ設計を提供する。 【解決手段】荷電粒子顕微鏡であって、真空エンクロージャと、荷電粒子ビームを生成するためのソースと、試料を保持するための試料ホルダと、ソースと前記試料ホルダとの間に設けられた照射器であって、ビームの伝搬方向においてソースレンズ及びコンデンサシステムを有する照射器と、ビームによる照射に応答して試料から放出される放射を検出するための検出器と、を備え、前記ソースレンズは複合レンズであり、前記伝搬方向において、前記真空エンクロージャの外部に配置され、その内部に磁界を生成する永久磁石を含む磁気レンズと、可変静電レンズと、を備える。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP6054929B2

公开(公告)日：2016-12-27

申请号：JP2014200302

申请日：2014-09-30

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 糟谷 圭吾 ,  大嶋 卓 ,  片桐 創一 ,  小久保 滋 ,  戸所 秀男

IPC: H01J37/18 ,  H01J37/28 ,  H01J37/06

CPC classification number: H01J1/304 ,  H01J37/073 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/06325 ,  H01J2237/0653 ,  H01J2237/0656

公开(公告)号：JP2013084629A

公开(公告)日：2013-05-09

申请号：JP2013025053

申请日：2013-02-13

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： KASUYA KEIGO ,  OSHIMA TAKU ,  KATAGIRI SOUICHI ,  KOKUBO SHIGERU ,  TODOKORO HIDEO

IPC: H01J37/06

CPC classification number: H01J1/304 ,  H01J37/073 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/06325 ,  H01J2237/0653 ,  H01J2237/0656

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam apparatus which can emit a stable electron beam, having high brightness and a narrow energy width.SOLUTION: A charged particle beam apparatus comprises a field emission electron source, electrodes for applying an electric field to the field emission electron source, and a vacuum exhaust unit for keeping the pressure around the field emission electron source at 1×10Pa or less. The apparatus is so constituted as to use electron beams having an electron-beam-center radiation angle of 1×10str or less among the emitted electron beams, and to use the electric current thereof, the second order derivative of which with respect to the time of the electric current of the electron beam is negative or zero and which decreases at a rate of 10% or less per hour. The charged particle beam apparatus further comprises a heating unit for the field emission electron source, and a detection unit for the electric current of the electron beam. The field emission electron source is repeatedly heated to keep the electric current of the electron beam to be emitted, at a predetermined value or higher.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够发射稳定电子束的带电粒子束装置，其具有高亮度和窄的能量宽度。 解决方案：带电粒子束装置包括场致发射电子源，用于向场致发射电子源施加电场的电极和用于将场致发射电子源周围的压力保持在1×10 5的真空排气单元， SP POS =“POST”> - 8 Pa以下。 该装置构成为使用发射电子束中电子束中心辐射角为1×10 2 以下的电子束，并使用 其电流相对于电子束的电流的二次导数为负或为零，以每小时10％以下的速度降低。 带电粒子束装置还包括用于场发射电子源的加热单元和用于电子束电流的检测单元。 重复加热场致发射电子源以使电子束的电流保持在规定值以上。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT