公开(公告)号：KR100578136B1

公开(公告)日：2006-05-10

申请号：KR1020040005085

申请日：2004-01-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 하민호 ,  전진호 ,  정이하

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45578

Abstract: 플라즈마 강화된 화학기상 증착 장비를 제공한다. 이 장비는 공정 챔버을 관통하는 가스 분사관을 포함한다. 가스 분사관에는 그것의 측벽일부로 이루어진 분사 영역이 배치된다. 분사 영역 내에는 복수개의 분사 슬롯들이 배치된다. 분사 슬롯들에 의하여 공정 챔버의 내부에 유도된 플라즈마력이 가스 분사관 내로 침투하는 현상을 최소화하여 파티클성 오염을 최소화할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990065417A

公开(公告)日：1999-08-05

申请号：KR1019980000690

申请日：1998-01-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정이하

IPC: H01L21/205

Abstract: 본 발명은 박막 형성용 반도체 장치의 제조설비에 관해 개시한다. 본 발명에 의한 박막 형성용 반도체 장치의 제조설비는 화학기상증착설비로서 서셉터의 웨이퍼 장착면 둘레에 상기 서셉터의 표면에 고착물이 고착되는 것을 방지하는 수단을 구비하고 있다. 상기 수단은 정전기적 척력을 발생시키는 것으로 박막 형성공정에서 발생되는 미 반응가스나 파우더의 정전기 상태와 동일한 정전기 상태를 만든다. 동일한 정전기 상태를 갖는 물체 사이에 척력이 작용하므로 상기 미 반응가스나 파우더가 상기 서셉터에 고착되는 것을 방지할 수 있다. 이 결과, 상기 서셉터의 웨이퍼 장착면에 웨이퍼를 장착할 때나 장착면으로부터 웨이퍼를 탈착할 때, 상기 서셉터로부터 비산되는 파티클이 발생되지 않으므로 웨이퍼의 파티클에 의한 오염을 방지할 수 있다. 아울러, 서셉터의 교환주기를 길게하여 반도체 장치의 생산성 향상을 도모할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020060037563A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：KR1020040086557

申请日：2004-10-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정이하 ,  허근

IPC: H01L21/31

CPC classification number: H01L21/02252 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/3065

Abstract: 본 발명은 고밀도 플라즈마 절연막을 형성시 플라즈마 충격에 의한 금속이온의 발생을 방지할 수 있는 고밀도 플라즈마 절연막의 형성방법을 제공한다. 그 방법은 반응챔버 내의 반도체 기판 상으로 공급된 반응가스를 리모트 플라즈마 발생기를 이용하여 플라즈마화시키고, 플라즈마화된 반응가스를 반도체 기판에 접촉시켜 제1 절연막을 형성한 다음, 상기 반응챔버 내로 공급된 스퍼터용 식각가스를 상기 리모트 플라즈마 발생기를 이용하여 플라즈마화 시킨 후 상기 반도체 기판의 표면을 스퍼터 식각하여 상기 제1 절연막을 소정 두께만큼 제거한다.
고밀도 플라즈마, 리모트, 절연막, 스퍼터 식각

公开(公告)号：KR1020060024150A

公开(公告)日：2006-03-16

申请号：KR1020040073034

申请日：2004-09-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정이하

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67706 ,  H01L21/68707

Abstract: 본 발명은 고온의 기판을 반송할 필요가 있는 그리고 고온의 기판을 반송하는 과정에서 기판의 온도 불균형을 최소화할 수 있는 기판 반송 장치에 관한 것으로, 본 발명의 기판 반송 장치는 기판을 반송하는 장치는 구동수단이 설치되는 구동부; 상기 구동부에 연결되어 수평면상에서 기판을 이송시키도록 회전운동과 직선운동을 하는 적어도 2개의 아암을 갖는 로봇 아암부; 상기 로봇 아암부의 선단에 설치되는 그리고 기판이 안착되는 블레이드; 상기 블레이드의 상면에 설치되어 상기 기판의 저면을 지지하는 복수의 돌기를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020080078344A

公开(公告)日：2008-08-27

申请号：KR1020070018319

申请日：2007-02-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이형구 ,  김의환 ,  정이하 ,  정학수 ,  진경환 ,  최병철

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45574 ,  C23C16/4405

Abstract: Semiconductor manufacturing equipment and a management method thereof are provided to prevent a wafer from being polluted by cleaning a lift pin with cleaning gas. A management method of semiconductor manufacturing equipment includes the steps of: removing a wafer, which is subjected to a semiconductor manufacturing process, from a process chamber(110); if the number of the wafers subjected to the semiconductor manufacturing process reaches to the predetermined number or the semiconductor manufacturing process takes a predetermined time, supplying second reaction gas in the process chamber to clean an inner wall of the process chamber; and lifting a lift pin(116) out of the top of the heater blocks(114) installed at the bottom of the process chamber to expose the lift pin to the second reaction gas.

Abstract translation: 提供半导体制造设备及其管理方法，以通过用清洁气体清洁提升销来防止晶片被污染。 半导体制造设备的管理方法包括以下步骤：从处理室（110）去除经受半导体制造工艺的晶片; 如果经过半导体制造工艺的晶片的数量达到预定数量或半导体制造过程需要预定时间，则在处理室中提供第二反应气体以清洁处理室的内壁; 以及将提升销（116）从设置在处理室底部的加热器块（114）的顶部提起以将提升销暴露于第二反应气体。

公开(公告)号：KR1020030094493A

公开(公告)日：2003-12-12

申请号：KR1020020031450

申请日：2002-06-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이태원 ,  하대오 ,  차상엽 ,  심경만 ,  이기석 ,  정이하

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A chuck for supporting a substrate is provided to be capable of preventing porosities from being generated inside of a predetermined layer and restraining the bubble phenomenon of a lower layer. CONSTITUTION: A chuck(100) for supporting a substrate is provided with a body part(110) for supporting the substrate, the first coating layer(120) made of the first ceramic, formed on the surface of the body part, and the second coating layer(130) formed at the upper portion of the first coating layer for contacting the substrate. At this time, a plurality of buffer layers(132) and ceramic layers(134), are alternately stacked with each other for forming the second coating layer. At the time, the buffer layer is made of conductive layer and the ceramic layer is made of the second ceramic. Preferably, a concave portion is formed at one side of the body part corresponding to the size of the substrate and the second coating layer is formed at the concave portion of the body part.

Abstract translation: 目的：提供用于支撑基板的卡盘，以能够防止在预定层内部产生孔隙，并抑制下层的气泡现象。 构成：用于支撑基板的卡盘（100）设置有用于支撑基板的主体部分（110），形成在主体部分的表面上的由第一陶瓷制成的第一涂层（120），第二涂层 形成在第一涂层的上部的用于接触基底的涂层（130）。 此时，多个缓冲层（132）和陶瓷层（134）彼此交替堆叠以形成第二涂层。 此时，缓冲层由导电层制成，陶瓷层由第二陶瓷制成。 优选地，在与所述基板的尺寸相对应的所述主体部分的一侧形成凹部，并且所述第二涂覆层形成在所述主体部分的凹部处。

公开(公告)号：KR1020000025459A

公开(公告)日：2000-05-06

申请号：KR1019980042555

申请日：1998-10-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정이하

IPC: H01L21/205

Abstract: PURPOSE: An operation method for a storage elevator of load lock chamber is provided to prevent that a wafer is broken while conveying the wafer in a storage elevator of load lock chamber. CONSTITUTION: A wafer(104) is loaded on a storage elevator, and a wafer which is not accurately aligned on a slot is detected by using a sensor before vertically moving the storage elevator. The storage elevator is vertically moved when there is no wafer not accurately aligned on the slot, and a process is performed. Thereby, if wafer alignment is not accurately performed in the storage elevator(100), the sensor senses this, and a motor driving the storage elevator is stopped, so that the wafer is not broken in a vertical moving passage of a storage elevator.

Abstract translation: 目的：提供一种负载锁定室存储电梯的操作方法，以防止晶片在负载锁定室的存储电梯中输送晶片时损坏晶片。 构成：将晶片（104）装载在存放电梯上，并且在垂直移动存放电梯之前，通过使用传感器来检测在槽上不准确对准的晶片。 当没有晶片在槽上没有精确对准时，存储电梯被垂直移动，并且进行处理。 因此，如果在存储电梯（100）中没有精确地执行晶片对准，则传感器感测到这一点，并且停止了驱动存储电梯的电动机，使得晶片在存放电梯的垂直移动通道中不会断裂。

公开(公告)号：KR1020070028057A

公开(公告)日：2007-03-12

申请号：KR1020050083221

申请日：2005-09-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정이하

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/205

Abstract: A vacuum processing apparatus for a semiconductor fabrication is provided to minimize the failure of a wafer by using a detecting unit capable of detecting leakage gas of a vacuum line in real time. A vacuum processing apparatus for a semiconductor fabrication includes a vacuum chamber, a vacuum pump for keeping the vacuum chamber in a vacuum state, a vacuum line for connecting the vacuum chamber with the vacuum pump, and a detecting unit. The detecting unit(40) is used for detecting the existence of predetermined gas in the vacuum line. The detecting unit includes a detecting sensor of an ICP-OES(Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometer).

Abstract translation: 提供一种用于半导体制造的真空处理装置，通过使用能够实时检测真空管线的泄漏气体的检测单元来最小化晶片的故障。 用于半导体制造的真空处理装置包括真空室，用于将真空室保持在真空状态的真空泵，用于将真空室与真空泵连接的真空管线和检测单元。 检测单元（40）用于检测真空管线中预定气体的存在。 检测单元包括ICP-OES（电感耦合等离子体发射光谱仪）的检测传感器。

公开(公告)号：KR100520221B1

公开(公告)日：2005-10-11

申请号：KR1020030036260

申请日：2003-06-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조정훈 ,  배도인 ,  정이하 ,  권경수 ,  이승배

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 이송용 블레이드의 미끄럼 방지장치에 관한 것으로서, 평판의 상부면으로 폭간 중심선을 기준으로 양측에 각각 대응되게 복수개의 링홈(10)을 형성하고, 이 링홈(10)의 중앙에는 보다 작은 직경으로 판면을 하향 관통되게 하여 공기 배출공(20)을 형성하며, 링홈(10)과 공기 배출공(20)의 단차진 걸림턱(11)에는 링홈(10)의 두께보다는 큰 단면 직경으로 이루어지는 O링(30)이 삽입되도록 하는 웨이퍼 이송용 블레이드의 미끄럼 방지장치에 있어서, 링홈(10)의 상부로부터는 상단부측 머리부(41)가 상기 O링(30)의 내경보다는 크고 상기 O링(30)의 내경과 외경간 중앙의 직경보다는 작은 외경을 가지며, 중앙은 소정의 직경으로 수직 관통되게 한 고정 수단(40)을 하부의 체결부(42)가 공기 배출공(20)에 나사 체결되게 하면서 상기 O링(30)을 견고하게 고� �시키도록 하는 구성이 특징인 바

公开(公告)号：KR100505585B1

公开(公告)日：2005-09-26

申请号：KR1019980000690

申请日：1998-01-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정이하

IPC: H01L21/205

Abstract: 본 발명은 박막 형성용 반도체 장치의 제조설비에 관해 개시한다. 본 발명에 의한 박막 형성용 반도체 장치의 제조설비는 화학기상증착설비로서 서셉터의 웨이퍼 장착면 둘레에 상기 서셉터의 표면에 고착물이 고착되는 것을 방지하는 수단을 구비하고 있다. 상기 수단은 정전기적 척력을 발생시키는 것으로 박막 형성공정에서 발생되는 미 반응가스나 파우더의 정전기 상태와 동일한 정전기 상태를 만든다. 동일한 정전기 상태를 갖는 물체 사이에 척력이 작용하므로 상기 미 반응가스나 파우더가 상기 서셉터에 고착되는 것을 방지할 수 있다. 이 결과, 상기 서셉터의 웨이퍼 장착면에 웨이퍼를 장착할 때나 장착면으로부터 웨이퍼를 탈착할 때, 상기 서셉터로부터 비산되는 파티클이 발생되지 않으므로 웨이퍼의 파티클에 의한 오염을 방지할 수 있다. 아울러, 서셉터의 교환주기를 길게하여 반도체 장치의 생산성 향상을 도모할 수 있다.