KR20210032106A - Clutch actuator control device with wear compensation device and control method thereof

    公开(公告)号:KR20210032106A

    公开(公告)日:2021-03-24

    申请号:KR1020190113396A

    申请日:2019-09-16

    CPC classification number: F16D13/752 F16D2500/50233

    Abstract: 마모 보상장치가 구비된 클러치 액추에이터 제어 장치 및 그 제어 방법이 개시된다.
    본 발명의 실시 예에 따른 차량의 자동화 변속기에 적용된 크러치의 마모 보상장치가 구비된 클러치 액추에이터 제어 장치는, 모터의 회전에 따른 캠의 직선운동으로 회전되는 작동 레버에 의해 크러치의 포크와 연결된 풀 로드부를 후퇴시켜 클러치의 압력판을 클러치 디스크에 접합시키는 클러치 액추에이터; 상기 클러치 액추에이터의 하우징 내부에 적용되며, 상기 풀 로드부의 후단부에 형성된 이송 스크류에 나사 결합된 마모보상 너트와 상기 풀 로드부의 후방 동축상에 위치하여 마모보상 작동 시 통과되는 상기 마모보상 너트를 물리적 상호작용에 의해 회전시키는 마모보상 링을 포함하는 마모 보상부; 및 일반적인 주행상태에서 상기 캠의 직선방향 운동범위를 상기 마모보상 너트가 마모보상 링을 통과하지 않는 기준이동범위로 일정하게 제어하되, 마모보상 시 상기 마모보상 너트가 마모보상 링을 통과하도록 상기 캠이 초기위치로부터 최전방의 물리 벽을 터치한 것을 감지한 후 복귀시키는 제어기를 포함한다.

    나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치
    3.
    发明申请
    나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치 审中-公开
    NANOTRANSFER印刷方法和SERS基材,SERS VIAL和SERS PATCH制造使用相同

    公开(公告)号:WO2016068538A1

    公开(公告)日:2016-05-06

    申请号:PCT/KR2015/011082

    申请日:2015-10-20

    CPC classification number: G03F7/0002 B82Y10/00 B82Y40/00

    Abstract: 일실시예에 따른 나노전사 프린팅 방법은 표면 패턴이 형성된 템플릿 기판 상에 고분자 박막을 코팅하는 단계; 상기 고분자 박막 및 접착 필름을 이용하여 상기 고분자 박막을 복제 박막 몰드로 제작하는 단계; 상기 복제 박막 몰드 상에 나노구조체를 형성하는 단계; 상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드간 접착력을 선택적으로 약화시키는 단계; 및 상기 나노구조체를 대상 물체에 전사하는 단계를 포함한다.

    Abstract translation: 根据实施方案的纳米转印印刷方法包括以下步骤:用聚合物薄膜涂覆其上形成有表面图案的模板基材; 使用聚合物薄膜和粘合膜从聚合物薄膜制造复制薄膜模具; 在复制薄膜模具上形成纳米结构; 选择性地削弱粘合膜和复制薄膜模具之间的粘合力; 并将纳米结构转移到目标物体上。

    고내구성 초친수성 김서림 방지용 박막의 제조방법
    6.
    发明公开
    고내구성 초친수성 김서림 방지용 박막의 제조방법 无效
    具有高耐久性和超级亲水性的抗静电薄膜的制造方法

    公开(公告)号:KR1020170007885A

    公开(公告)日:2017-01-23

    申请号:KR1020150098850

    申请日:2015-07-13

    Abstract: 본발명은고내구성초친수성김서림방지용박막의제조방법에관한것이다. 구체적으로는상기김서림방지용박막을제조함에있어서, 실리콘을포함하는블록공중합체를준비하고, 상기블록공중합체를함유하는용액을기판에습식코팅법으로코팅한뒤 산소플라즈마로처리하여다공성실리카박막을형성함으로써초친수성의성질을부여하고, 상기다공성실리카박막을다층구조로형성하며상기다공성실리카박막위에알콕시실란화합물을사용하여자기조립단층박막을형성함으로써고내구성의성질을부여한다.

    나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치
    7.
    发明授权
    나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치 有权
    使用该方法制造纳米转印印刷方法和SERS基底,SERS小瓶和SERS贴剂

    公开(公告)号:KR101761010B1

    公开(公告)日:2017-07-25

    申请号:KR1020150129896

    申请日:2015-09-14

    Abstract: 일실시예에따른나노전사프린팅방법은표면패턴이형성된템플릿기판상에고분자박막을코팅하는단계; 상기고분자박막및 접착필름을이용하여상기고분자박막을복제박막몰드로제작하는단계; 상기복제박막몰드상에나노구조체를형성하는단계; 상기접착필름과상기복제박막몰드간접착력을선택적으로약화시키는단계; 및상기나노구조체를대상물체에전사하는단계를포함한다.

    Abstract translation: 根据本发明的一个实施例,提供了一种纳米转印印刷方法,包括:在其上形成有表面图案的模板基板上涂覆聚合物薄膜; 使用聚合物薄膜和粘合膜制造聚合物薄膜作为复制薄膜模具; 在复制薄膜模具上形成纳米结构; 选择性地弱化粘合剂膜和复制薄膜模具之间的粘合力; 并将纳米结构转移到目标物体上。

    용매 어닐링 방법, 이를 이용한 블록 공중합체 패턴 형성 방법 및 이에 의하여 제조된 블록 공중합체 패턴
    9.
    发明授权
    용매 어닐링 방법, 이를 이용한 블록 공중합체 패턴 형성 방법 및 이에 의하여 제조된 블록 공중합체 패턴 有权
    溶剂退火方法,使用该方法形成嵌段共聚物图案的方法以及通过使用其形成嵌段共聚物图案的方法形成的嵌段共聚物图案

    公开(公告)号:KR101449850B1

    公开(公告)日:2014-10-13

    申请号:KR1020130056998

    申请日:2013-05-21

    Abstract: In a method for forming block copolymer pattern, provided is a method for forming block copolymer pattern, comprising: a step for contacting an annealing pad where an organic solvent is absorbed in a block copolymer applied to a substrate; and a step for which the block copolymer is self-assembled by the organic solvent discharged from the annealing pad.

    Abstract translation: 在形成嵌段共聚物图案的方法中,提供了一种形成嵌段共聚物图案的方法,包括:使有机溶剂吸收在施加到基材上的嵌段共聚物中的退火焊盘的接触步骤; 和通过从退火焊盘排出的有机溶剂自组装嵌段共聚物的步骤。

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