公开(公告)号：JP2009188405A

公开(公告)日：2009-08-20

申请号：JP2009021061

申请日：2009-02-02

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： VAN DEN BRINK MARINUS AART ,  BUTLER HANS ,  EUSSEN EMIEL JOZEF MELANIE ,  VAN DER PASCH ENGELBERTUS ANTO ,  VAN DER WIJST MARC WILHELMUS M ,  ANGELIS GEORGO ,  KLAVER RENATUS GERARDUS ,  HAMELS MARTIJN ROBERT ,  VERHAAR BOUDEWIJN THEODOROS ,  HOEKSTRA PETER

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70775 ,  G03F7/70516

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic apparatus which improves the calibration precision of stage position measurement. SOLUTION: A calibration method of a stage system includes moving a stage to an encoder grid in response to a set point signal and measuring the position of the stage by a sensor head cooperating with the encoder grid. The position of the stage is controlled by a stage controller. A signal showing a difference between the position of the state measured by the sensor head and the set point signal is registered. The stage system is calibrated on the basis of the registered signal showing the difference. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供提高台架位置测量的校准精度的光刻设备。 解决方案：舞台系统的校准方法包括响应于设定点信号将舞台移动到编码器电网并且通过与编码器电网协作的传感器头来测量舞台的位置。 舞台的位置由舞台控制器控制。 记录表示由传感器头测量的状态的位置与设定点信号之间的差异的信号。 基于显示差异的登记信号校准舞台系统。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

公开(公告)号：NL2006058A

公开(公告)日：2011-09-06

申请号：NL2006058

申请日：2011-01-25

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： VERHAAR BOUDEWIJN ,  GEERKE JOHAN ,  ANGELIS GEORGO ,  HAMERS MARTIJN ,  GEERLINGS ALEXANDER ,  HOEKSTRA PETER ,  HARDEMAN TOON

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/68

公开(公告)号：NL2011427A

公开(公告)日：2014-04-02

申请号：NL2011427

申请日：2013-09-12

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： DEKKERS JEROEN ,  JEUNINK ANDRE BERNARDUS ,  LOOPSTRA ERIK ,  PASCH ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS ,  RENKENS MICHAEL JOZEF MATHIJS ,  SCHOORMANS CAROLUS JOHANNES CATHARINA ,  HOEKSTRA PETER

IPC: G01D5/26 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00

公开(公告)号：NL2006014A

公开(公告)日：2011-09-06

申请号：NL2006014

申请日：2011-01-17

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： VERHAAR BOUDEWIJN ,  GEERKE JOHAN ,  HAMERS MARTIJN ,  GEERLINGS ALEXANDER ,  HOEKSTRA PETER ,  HARDEMAN TOON

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/68

公开(公告)号：NL1036474A1

公开(公告)日：2009-08-11

申请号：NL1036474

申请日：2009-01-28

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BRINK MARINUS AART VAN DEN ,  BUTLER HANS ,  EUSSEN EMIEL JOZEF MELANIE ,  PASCH ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS VAN DER ,  WIJST MARC WILHELMUS MARIA VAN DER ,  ANGELIS GEORGO ,  KLAVER RENATUS GERARDUS ,  HAMERS MARTIJN ROBERT ,  VERHAAR BOUDEWIJN THEODORUS ,  HOEKSTRA PETER

IPC: G03F7/20