公开(公告)号：SG152931A1

公开(公告)日：2009-06-29

申请号：SG2007177637

申请日：2004-06-08

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： LOF JOERI ,  BUTLER HANS ,  DONDERS SJOERD NOCOLAAS LAMBERTUS ,  KOLESNYCHENKO ALLEKSEY ,  LOOPSTRA ERIK ROELOF ,  MEIJER HENDRICUS JOHANNES MARIA ,  MULKENS JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS ,  RITSEMA ROELOF AEILKO SIEBRAND ,  VAN SCHAIK FRANK ,  SENGERS TIMOTHEUS FRANCISCUS ,  SIMON KLAUS ,  DE SMIT JOANNES THEODOOR ,  STRAAIJER ALEXANDER ,  STREEFKERK BOB ,  BIJLAART ERIK THEODORUS MARIA ,  HOOGENDAM CHRISTIAAN ALEXANDER ,  VAN SANTEN HELMAR ,  VAN DE KERKHOF MARCUS ADRIANUS ,  KROON MARK ,  DEN BOEF ARIE JEFFREY ,  OTTENS JOOST JEROEN ,  MERTENS JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: A lithographic projection apparatus is disclosed in which the space between the final element of the projection system and a sensor is filled with a liquid.