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公开(公告)号:DE102024109179A1
公开(公告)日:2025-04-24
申请号:DE102024109179
申请日:2024-04-02
Applicant: ASML NETHERLANDS BV , ZEISS CARL SMT GMBH
Inventor: EHM DIRK , WIDMANN DANIEL , STARZMANN JOERG , LEUNISSEN LEONARDUS HENDRIKUS ALBERTINO , NEDANOVSKA ELENA , PANDIYAN ARUNKUMAR , ZDRAVKOV ALEXANDAR NIKOLOV , VORONINA VICTORIA
Abstract: Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung (24) für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage (1), umfassend mindestens ein einen Strahlengang (25) einer zur Abbildung genutzten Nutzstrahlung (16) zumindest teilweise umschließendes Gehäuse (26,28), wobei eine Öffnung (27,29) des Gehäuses (26,28) von einer Kontamination (33) und dem Strahlengang (25) zumindest teilweise durchdrungene Durchdringungsfläche (AD) definiert. Die optische Anordnung zeichnet sich dadurch aus, dass eine Partikelfalle (30) die Kontamination (33) in Strahlungsrichtung zumindest teilweise abschattet.Weiterhin betrifft die Erfindung eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einer optischen Anordnung (24) nach einer der erläuterten Ausführungsformen.
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公开(公告)号:CA3149349A1
公开(公告)日:2021-03-04
申请号:CA3149349
申请日:2020-08-20
Applicant: ASML NETHERLANDS BV
Inventor: NIKIPELOV ANDREY , BALTUSSEN SANDER , BANINE VADIM YEVGENYEVICH , DOLGOV ALEXANDR , DONMEZ NOYAN INCI , HOUWELING ZOMER SILVESTER , NOTENBOOM ARNOUD WILLEM , VAN DE KERKHOF MARCUS ADRIANUS , VAN DER WOORD TIES WOUTER , VERMEULEN PAUL ALEXANDER , VLES DAVID FERDINAND , VORONINA VICTORIA , YEGEN HALIL GOKAY
IPC: G03F1/62 , C01B32/158 , D01F9/12 , D01F11/12 , G03F7/20
Abstract: A pellicle membrane for a lithographic apparatus, said membrane comprising uncapped carbon nanotubes is provided. Also provided is a method of regenerating a pellicle membrane, said method comprising decomposing a precursor compound and depositing at least some of the products of decomposition onto the pellicle membrane. Also described is a method of reducing the etch rate of a pellicle membrane, said method comprising providing an electric field in the region of the pellicle membrane to redirect ions from the pellicle, or heating elements to desorb radicals from the pellicle, preferably wherein the pellicle membrane is a carbon nanotube pellicle membrane as well as an assembly for a lithographic apparatus, said assembly including a biased electrode near or including the pellicle membrane or heating means for pellicle membrane.
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