OPTOELEKTRONISCHES BAUTEIL, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES OPTOELEKTRONISCHEN BAUTEILS UND BELEUCHTUNGSVORRICHTUNG

    公开(公告)号:DE102018126494A1

    公开(公告)日:2020-04-30

    申请号:DE102018126494

    申请日:2018-10-24

    Abstract: Es wird ein optoelektronisches Bauteil (1) angegeben, mit:- einem strahlungsemittierenden Halbleiterchip (2), der im Betrieb elektromagnetische Primärstrahlung (P) von einer Strahlungsaustrittsfläche (3) aussendet,- einem Konversionselement (6), das Primärstrahlung (P) in elektromagnetische Sekundärstrahlung konvertiert,- einem ersten Verguss (8), der zumindest eine Seitenfläche des Halbleiterchips (5) bedeckt, und- einem Haftvermittler (10), mit dem das Konversionselement (6) auf der Strahlungsaustrittsfläche (3) des Halbleiterchips (2) befestigt ist, wobei- der Haftvermittler (10) auf einer Deckfläche des ersten Vergusses (9) angeordnet ist.Des Weiteren werden ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauteils und eine Beleuchtungsvorrichtung angegeben.

    Optoelektronische Leuchtvorrichtung

    公开(公告)号:DE102015104220A1

    公开(公告)日:2016-09-22

    申请号:DE102015104220

    申请日:2015-03-20

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine optoelektronische Leuchtvorrichtung, umfassend: – einen Träger, – auf welchem eine lichtemittierende Diode angeordnet ist, – wobei auf einer lichtemittierenden Oberfläche der Diode eine mehrere Mikrolinsen aufweisende Mikrolinsenstruktur angeordnet ist, – wobei auf der Mikrolinsenstruktur eine Konversionsschicht angeordnet ist, – so dass von der lichtemittierenden Oberfläche emittiertes Licht zumindest teilweise durch die Mikrolinsenstruktur abgebildet und dann konvertiert werden kann. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Leuchtvorrichtung.

    Elektronisches Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Halbleiterbauelements

    公开(公告)号:DE102018116821A1

    公开(公告)日:2020-01-16

    申请号:DE102018116821

    申请日:2018-07-11

    Abstract: Es wird ein elektronisches Halbleiterbauelement (1) mit einer Gehäusestruktur (10) und einer in die Gehäusestruktur (10) eingebrachten Kavität (100) angegeben. Die Kavität (100) weist eine Grundfläche (100A) auf. Ferner umfasst das elektronische Halbleiterbauelement (1) eine Hilfsschicht (110), die auf der Grundfläche (100A) der Kavität (100) angeordnet ist, und eine die Hilfsschicht (110) bis mindestens zur Grundfläche (100A) der Kavität (100) durchdringende Markierung (120). Die Markierung (120) weist einen optischen Kontrast auf, der sowohl von einer optischen Eigenschaft der Gehäusestruktur (10) als auch einer optischen Eigenschaft der Hilfsschicht (110) abhängt.Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Halbleiterbauelements (1) angegeben.

    Verfahren zum Aufbringen eines Materials auf einer Oberfläche

    公开(公告)号:DE102014116076A1

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:DE102014116076

    申请日:2014-11-04

    Abstract: Es wird ein Verfahren zum Aufbringen eines ersten Materials (5) auf einer Oberfläche (1) in einer Mehrzahl von voneinander getrennten Beschichtungsbereichen (2) angegeben mit den Schritten: A) Bereitstellen der Oberfläche (1) mit den Beschichtungsbereichen (2), B) Herstellen einer ersten Maskenschicht (3) auf der Oberfläche (1) mittels eines fotolithografischen Verfahrens, wobei die erste Maskenschicht (3) eine Mehrzahl von ersten Öffnungen (31) aufweist, die über den Beschichtungsbereichen (2) angeordnet sind, C) Bereitstellen einer selbsttragenden zweiten Maskenschicht (4) und anschließendes Aufbringen der zweiten Maskenschicht (4) auf der ersten Maskenschicht (3), wobei die zweite Maskenschicht (4) eine Mehrzahl von zweiten Öffnungen (41) aufweist, die über den ersten Öffnungen (31) angeordnet sind und die eine Größe aufweisen, die kleiner oder gleich einer Größe der ersten Öffnungen (31) ist, D) Aufbringen des ersten Materials (5) auf der Oberfläche (1) in den Beschichtungsbereichen (2) durch die ersten und zweiten Öffnungen (31, 41) der ersten und zweiten Maskenschicht (3, 4) hindurch.

    Elektronisches Bauteil sowie Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauteils

    公开(公告)号:DE102015107660A1

    公开(公告)日:2016-11-17

    申请号:DE102015107660

    申请日:2015-05-15

    Abstract: Es wird ein elektronisches Bauteil (1) angegeben, das sich entlang einer Haupterstreckungsebene in einer ersten lateralen Richtung (x) und in einer zweiten lateralen Richtung (y) erstreckt, umfassend – zumindest einen elektronischen Halbleiterchip (10), – einen Formkörper (3), der den Halbleiterchip (10) lateral vollständig umschließt, und – eine Vielzahl von mechanischen Verstärkungsstrukturen (2, 2‘), wobei – die Verstärkungsstrukturen (2, 2‘) in den Formkörper (3) eingebettet sind, – jede Verstärkungsstruktur (2, 2‘) länglich ausgebildet ist und jeweils eine Länge (L, L‘) aufweist, die einen Großteil einer maximalen Erstreckung des elektronischen Bauteils (1) in der ersten lateralen Richtung (x) und/oder in der zweiten lateralen Richtung (Y) beträgt und – jede Verstärkungsstruktur (2, 2‘) in der ersten und/oder zweiten lateralen Richtung (x, y) beabstandet zu dem Halbleiterchip (10) angeordnet ist.

    Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zu seiner Herstellung

    公开(公告)号:DE102015104185A1

    公开(公告)日:2016-09-22

    申请号:DE102015104185

    申请日:2015-03-20

    Abstract: Ein optoelektronisches Bauelement umfasst einen oberen Gehäuseteil und einen unteren Gehäuseteil. Der obere Gehäuseteil ist über dem unteren Gehäuseteil angeordnet. Der obere Gehäuseteil weist einen optoelektronischen Halbleiterchip auf. Zwischen dem oberen Gehäuseteil und dem unteren Gehäuseteil ist eine mittlere Metallisierungsebene angeordnet. An einer von dem oberen Gehäuseteil abgewandten Unterseite des unteren Gehäuseteils ist eine untere Metallisierungsebene angeordnet. Der untere Gehäuseteil weist einen unteren Durchkontakt auf, der sich von der mittleren Metallisierungsebene durch den unteren Gehäuseteil zu der unteren Metallisierungsebene erstreckt.

    OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR COMPONENT
    10.
    发明申请
    OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR COMPONENT 审中-公开
    光电子半导体元件

    公开(公告)号:WO2014079939A2

    公开(公告)日:2014-05-30

    申请号:PCT/EP2013074400

    申请日:2013-11-21

    CPC classification number: H01L27/15 H05B33/0803 H05B33/0815 H05B33/083

    Abstract: An optoelectronic semiconductor component comprises a first functional region (1) having an active zone provided for generating radiation or for receiving radiation, and a second functional region (2), which is suitable for contributing to the driving of the first functional region (1), wherein the first functional region (1) and the second functional region (2) are integrated on the same carrier substrate (3).

    Abstract translation: 的光电子半导体器件,包括用活性区,其被设置用于生成辐射或辐射接收和第二功能区域(3),其是适用于驱动所述第一功能区域(1)有助于,其中,所述第一功能区域(第一功能区域(1) 1)和第二功能区域(2)集成在同一载体衬底(3)上。

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