半导体器件
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1163488A

    公开(公告)日:1997-10-29

    申请号:CN97102374.3

    申请日:1997-01-29

    Abstract: 半导体器件,具有:包括主表面和相对表面的半导体衬底,至少一个部分暴露于衬底侧表面的p-n结,以及具有两个或更多个涂敷于所述半导体衬底侧表面的钝化膜的多层钝化结构,所述半导体衬底表面上提供的第一钝化膜和所述第一钝化膜表面上提供的第二钝化膜之间界面附近感应的界面极化电荷Qr(库/厘米2)满足1.6×10-8≥|Qr|,所述第一钝化膜的电导率σ1和所述第二钝化膜的电导率σ2满足0.05≤σ2/σ1≤10。从而避免感应出电荷密度的界面极化以限制半导体器件的漏电源的增加或变化。

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