公开(公告)号：KR101031295B1

公开(公告)日：2011-04-29

申请号：KR1020060119156

申请日：2006-11-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카고지 ,  미나미데루오미

IPC: G01F23/00

CPC classification number: G01F23/02 ,  G01F23/2927

Abstract: 본 발명은 액체중에 발생하는 기포의 영향을 받지 않고 탱크 내에 저장된 액체의 양을 정확히 검출하고, 감시하는 액면 검출 장치 및 액면 검출 장치를 구비한 액 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
탱크(5) 내의 액면 위치와 동일한 액면 위치가 되도록, 탱크 내의 액체를 유도하는 도액관(14)과, 이 도액관으로부터 분기되고, 탱크 내의 액면 위치와 동일한 액면 위치를 갖는 액면 검출용 분기 도액관(15)을 설치하며, 분기 도액관에는, 이 분기 도액관 내의 액체의 액면을 검출하는 위치 센서(16)(16a, 16b, 16c, 16d)를 설치한다. 또한, 도액관과 분기 도액관의 접속부에 액체중에 발생하는 기포의 분기 도액관 내로의 침입을 저지하는 다공판형의 기포 방지 부재(17)를 배치한다.

公开(公告)号：KR1020160022336A

公开(公告)日：2016-02-29

申请号：KR1020160016384

申请日：2016-02-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카사토루 ,  오리이다케히코 ,  마루야마히로타카 ,  미나미데루오미 ,  나카모리미츠노리

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은휘발성을갖는건조액을이용하여기판을건조시킬때에, 기판표면에워터마크가발생하여미세한파티클이부착되는것을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판을처리액으로액처리한후에휘발성처리액으로건조처리하는기판처리방법및 기판처리장치에있어서, 상기기판에처리액을공급하여처리하는공정과, 상기처리액의액막이형성된상기기판을가열하는공정과, 상기처리액의액막이형성된기판에휘발성처리액을공급하는공정과, 상기기판에의상기휘발성처리액의공급을정지하는공정과, 상기휘발성처리액을제거하여기판을건조하는공정을가지며, 상기기판을가열하는공정은상기휘발성처리액을공급하는공정보다이전에시작되고, 상기기판의표면이상기휘발성처리액에노출되는것보다이전에, 상기기판의표면온도가노점온도보다높아지도록상기기판이가열되는것으로하였다.

Abstract translation: 本发明是为了防止在使用具有挥发性的干燥液干燥基板时，防止产生水痕而使细颗粒附着于基板的表面。 根据本发明，提供了一种在用处理液处理基板之后用挥发性处理液干燥基板的基板处理方法和基板处理装置。 基板处理方法包括以下处理：通过向其提供处理液来处理基板; 加热形成处理液的液膜的基板; 将挥发性处理液供给到形成处理液的液膜的基板上; 停止向所述基板供应所述挥发性处理液; 并通过除去挥发性处理液来干燥基材。 在提供挥发性处理液的过程之前开始加热基材的过程，并且在基板的表面暴露于挥发性处理液体之前加热基板以使基板的表面温度高于露点温度。

公开(公告)号：KR101275965B1

公开(公告)日：2013-06-17

申请号：KR1020080069152

申请日：2008-07-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미데루오미 ,  이토노리히로 ,  가미카와유지

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034

Abstract: 본 발명은 피처리 기판을 플루오르화수소산계 처리액에 의해 처리한 후, 유기 용매에 의해 건조시키는 방법을 이용한 경우에도, 상기 피처리 기판에 얼룩이 발생하는 것을 방지하는 것을 목적으로 한다.
액처리 장치(1)는, 케이싱(5)과, 웨이퍼(피처리 기판)(W)를 유지하는 기판 유지 기구(20)와, 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구(30)와, 처리액을 받는 배액컵(12)과, 처리액을 바깥쪽으로 배출하는 배액관(13)을 구비하고 있다. 처리액 공급 기구(30)는, 플루오르화수소산계 처리액을 공급하는 제1 약액 공급 기구와, 웨이퍼(W)를 건조시키기 위한 유기 용매를 공급하는 건조액 공급 기구를 가지고 있다. 제어부(50)는, 제1 약액 공급 기구에 의해 플루오르화수소산계 처리액을 공급시킨 후, 건조액 공급 기구에 의해 유기 용매를 공급시키고, 또한, 건조액 공급 기구에 의해 유기 용매를 공급시키기 전에, 세정 기구(10)에 의해 케이싱(5) 내의 알칼리 성분을 제거시킨다.

公开(公告)号：KR1020100050402A

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：KR1020090102797

申请日：2009-10-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미데루오미 ,  야부타다카시 ,  고사이가즈키

IPC: H01L21/302 ,  B08B3/02

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/02057

Abstract: PURPOSE: A liquid processing method, a liquid processing apparatus and a storage medium are provided to reduce the amount of the drug solution in which the drug solution used amount is reduced to the utmost and annulled by supplying a little bit throw in the amount of liquid medicine in the polymer treatment than the amount of supplying liquid medicine in the polymer removal. CONSTITUTION: A chemical supply tool supplies a medicine liquid to the surface of the substrate placed in the holding mechanism(13). A rotation unit rotates the holding mechanism. A culture cup(6) is prepared for accepting the culture fluid of the distributed processing liquid from the substrate(W) in the outside of the rotation plate(11). The culture liquid pipe cultures the medicine liquid after receiving culture liquid. The collection unit collects the medicine liquid after culturing the culture liquid from the culture cup. A controller(40) controls the rotation unit and the chemical supply unit.

Abstract translation: 目的：提供液体处理方法，液体处理装置和存储介质，以通过将液体的量稍微减少来最大限度地减少药物溶液使用量的药物溶液的量减少 药物在聚合物处理中的用量超过供应液体药物在聚合物中的去除。 构成：化学品供给工具将药液供给到放置在保持机构（13）中的基板的表面。 旋转单元旋转保持机构。 准备用于从旋转板（11）的外侧的基板（W）接受分散处理液的培养液的培养杯（6）。 培养液管接受培养液培养药液。 收集单元在从培养杯培养培养液后收集药液。 控制器（40）控制旋转单元和化学品供应单元。

公开(公告)号：KR1020060024823A

公开(公告)日：2006-03-17

申请号：KR1020060008210

申请日：2006-01-26

Applicant: 소니 주식회사 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아사다가즈미 ,  이와모또하야또 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67034 ,  Y10S134/902

Abstract: 건조 능력을 저하시키지 않고, 건조 시간을 단축하며, 건조 처리 능력을 향상시킴과 동시에, 유기물의 사용량을 저감시킴으로써, 자연 환경의 보호에 공헌하고, 잔류 유기물의 저감을 도모한다.
50장 정도의 반도체 웨이퍼(3)를 건조시키는, 제어된 IPA 건조 장치를 이용하여, 기화된 IPA를 노즐(13) 및 노즐 구멍(13a)을 통해 반도체 웨이퍼(3)에 분무함으로써 반도체 웨이퍼(3)를 건조시킬 때에, IPA 증기를 수직 하측 방향으로부터 반도체 웨이퍼(3)측을 향해 20°∼ 50°의 각도 θ로 분무하도록 한다. 이 때, IPA의 초기 토출량을 0.8 ∼ 1.5cc/s로 하고, 사용량을 70 ∼ 200cc/배치가 되도록 한다.
건조 장치, 수세조, 건조조, 반도체 웨이퍼, 오버플로우 수세조, 노즐, 노즐 구멍

公开(公告)号：KR100357316B1

公开(公告)日：2002-10-19

申请号：KR1020010051301

申请日：2001-08-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  모쿠오쇼리 ,  요코미조겐지 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: A substrate drying apparatus is provided to unnecessarily exhaust treatment liquid during a standby time of a dry process such that the treatment liquid is vapor of the treatment liquid coagulated and stored in a container for receiving the water eliminated from an object to be treated. CONSTITUTION: A process bath(14) has the object to be treated. A treatment liquid containing region contains a volatile treatment liquid(16). A heating member evaporates the treatment liquid. A receiving container(10) receives water removed from the object with use of the evaporated treatment liquid, provided below the object containing region. An exhaust pipe(42) exhausts the water from the container to the outside of the process bath, attached to the container. A cooling device condenses the evaporated treatment liquid, provided above the object containing region of the process bath. The exhaust pipe has a valve and a branch pipe branched from the exhaust pipe such that the branch pipe is closer to the container than the valve is.

公开(公告)号：KR101464387B1

公开(公告)日：2014-11-21

申请号：KR1020090101783

申请日：2009-10-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미데루오미 ,  야부타다카시 ,  다나카사토루 ,  마루야마히로타카 ,  에구치고우이치

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 본 발명은 기판을 세정 처리한 후 IPA 등의 건조용 용제를 이용하여 건조한 경우에, 작업 처리량을 저하시키지 않고 약액을 회수할 수 있는 세정 장치 및 세정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
웨이퍼(W)를 회전시키면서, 웨이퍼(W)에 약액 세정을 실시하고, 린스 처리를 실시하며, 그 후 IPA에 의한 건조 처리를 실시하는 세정액 공급 기구(1)는, 배액 컵(6) 및 배액 배관(31)을 세정하기 위한 세정액을, 웨이퍼(W)에 공급하지 않으면서, 배액 컵(6)에 공급하는 세정액 공급 기구(39)를 구비하고, 세정액 공급 기구(1)의 각 구성부를 제어하는 제어부(40)를 더 구비하며, 이 제어부(40)는, 웨이퍼(W)의 세정 처리, 그 후의 린스 처리를 실시하게 한 후, IPA에 의한 건조 처리를 행하게 하는 때에, 건조 처리가 실시되고 있는 타이밍에 세정액을 배액 컵(6)에 공급하도록 제어한다.

公开(公告)号：KR1020120073089A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：KR1020110118816

申请日：2011-11-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카사토루 ,  오리이다케히코 ,  마루야마히로타카 ,  미나미데루오미 ,  나카모리미츠노리

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67051

Abstract: PURPOSE: A method and apparatus for processing a substrate are provided to prevent fine particles from being attached due to a watermark on the surface of a substrate by heating the substrate at higher temperatures than a dew point temperature. CONSTITUTION: A substrate inputting and outputting stand(4) is formed in a front end of a substrate processing apparatus(1). A carrier(3) horizontally receives a plurality of substrates(2). A substrate transferring chamber(5) is formed in the rear of the substrate inputting and outputting stand and transfers the substrate and receives a substrate transferring device(8) and a substrate transfer stand(9). A substrate processing chamber(6) cleans or dries the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理基板的方法和装置，以通过在比露点温度更高的温度下加热基板来防止由于水印而在基板的表面上附着细颗粒。 构成：在基板处理装置（1）的前端形成基板输入输出台（4）。 水平地承载多个基板（2）的载体（3）。 在基板输入输出支架的后部形成有基板搬送室（5），并传送基板并接收基板搬送装置（8）和基板搬运支架（9）。 基板处理室（6）清洗或干燥基板。

公开(公告)号：KR1020110041996A

公开(公告)日：2011-04-22

申请号：KR1020100096443

申请日：2010-10-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  미나미데루오미 ,  가와부치요스케 ,  이토노리히로 ,  가미무라후미히로 ,  야부타다카시 ,  가즈키고사이 ,  다카시우노 ,  세키구치겐지 ,  후지이야스시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67051

Abstract: PURPOSE: A substrate liquid processing apparatus, a substrate liquid processing method, and a storage medium having substrate liquid processing program stored therein are provided to prevent the electrostatic destruction by discharging the electric charges charged on a substrate through a chuck for maintaining the substrate. CONSTITUTION: A first processing liquid discharge unit discharges the processing liquid to the circuit-forming surface of a substrate(2). A second processing solution discharge unit(25) discharges the processing liquid to the opposite side of the circuit-forming surface of the substrate. A control unit(26) controls the substrate maintaining unit and the first and the second processing solution discharge unit.

Abstract translation: 目的：提供基板液体处理装置，基板液体处理方法和存储有基板液体处理程序的存储介质，以通过用于维持基板的卡盘将填充在基板上的电荷放电来防止静电破坏。 构成：第一处理液体排出单元将处理液体排出到基板（2）的电路形成表面。 第二处理液排出单元（25）将处理液体排出到基板的电路形成表面的相对侧。 控制单元（26）控制基板保持单元和第一和第二处理液排出单元。

公开(公告)号：KR1020100050400A

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：KR1020090101783

申请日：2009-10-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미데루오미 ,  야부타다카시 ,  다나카사토루 ,  마루야마히로타카 ,  에구치고우이치

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: PURPOSE: A cleaning apparatus, a cleaning method and a storage medium are provided to prevent a drying solvent from being mixed with a medicine liquid by cleaning a culture cup and a culture pipe after drying and removing the drying solvent. CONSTITUTION: A holding device pivotally holds a substrate(W). A rotating device rotates the holding device. A medicine liquid supply unit(39) supplies a cleaning chemical to the substrate on the holding device. A rinse supply unit supplies rinse solution to the substrate on the holding device. A drying solvent supply unit supplies the drying solvent to the substrate on the holding device. A culture cup(6) is prepared for accepting the culture fluid of the distributed processing liquid from the substrate outside a rotation plate(11).

Abstract translation: 目的：提供清洁装置，清洁方法和存储介质，以在干燥和除去干燥溶剂之后通过清洗培养杯和培养管来防止干燥溶剂与药液混合。 构成：保持装置枢转地保持基板（W）。 旋转装置旋转保持装置。 药液供给单元（39）向保持装置的基板供给清洗剂。 冲洗供应单元向保持装置上的基板供应冲洗溶液。 干燥溶剂供给单元将干燥溶剂供给到保持装置上的基板。 制备文化杯（6），用于从旋转板（11）外的基板接受分散处理液的培养液。