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    离子源
    2.
    发明公开
    离子源 有权

    公开(公告)号：CN107993909A

    公开(公告)日：2018-05-04

    申请号：CN201711317954.5

    申请日：2017-12-12

    Applicant: 日新离子机器株式会社

    Inventor： 井内裕

    IPC: H01J3/04 ,  H01J3/12

    CPC classification number: H01J3/04 ,  H01J3/12

    Abstract: 本发明提供一种离子源，能够实现位于漂移方向侧的丝极的长寿命化，并且能够从通过由该丝极所放出的电子生成的等离子体高效地引出离子束。该离子源具备：长条状的等离子体生成容器(10)；多个磁铁(30)，在等离子体生成容器(10)的内部形成会切磁场(B)；及多个第一丝极(40A)，沿着等离子体生成容器(10)的长度方向设置成列状，并插入到等离子体生成容器(10)的内部。由第一丝极(40A)放出的电子从长度方向的一侧朝着另一侧进行ExB漂移，从等离子体生成容器(10)的长度方向中央至在长度方向上最靠上述另一侧的第一丝极(40A)的距离(L2b)，比从等离子体生成容器(10)的长度方向中央至在长度方向上最靠上述一侧的第一丝极(40A)的距离(L1a)短。

    荷電粒子線装置
    6.
    发明申请
    荷電粒子線装置 审中-公开
    充电粒子装置

    公开(公告)号：WO2015068717A1

    公开(公告)日：2015-05-14

    申请号：PCT/JP2014/079308

    申请日：2014-11-05

    Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

    Inventor： 池上　明 ,  土肥　英登 ,  数見　秀之 ,  小瀬　洋一 ,  鈴木　直正 ,  圓山　百代

    IPC: H01J37/153 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

    CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J3/12 ,  H01J37/14 ,  H01J37/147 ,  H01J37/153 ,  H01J2237/15 ,  H01J2237/2611 ,  H01J2237/2814

    Abstract: 荷電粒子線のエネルギーと開き角が一定でなく分布していることによって発生する複数の収差を同時に打ち消すことができる荷電粒子線装置を提供する。 荷電粒子線装置は、荷電粒子線が軸外を通過することによって収差を発生させる収差発生レンズ（１３）と、荷電粒子線のエネルギーによらずその軌道を対物レンズ（１２）の主面上に集束させる補正レンズ（１５）とを備え、補正レンズ（１５）の主面は、開き角がそれぞれ異なる複数の荷電粒子線が収差発生レンズ（１３）を通過した後に集束するクロスオーバー位置（Ｐ３）に配置されている。

    Abstract translation: 提供一种带电粒子束装置，其能够同时消除由打开角度的非均匀分布和带电粒子束的能量引起的多个像差。 带电粒子束装置设置有用于产生由于穿过离轴的带电粒子束产生像差的像差产生透镜（13），以及用于使带电粒子束的轨迹收敛的校正透镜（15） 在物镜（12）的主表面上，与带电粒子束的能量无关。 校正透镜（15）的主表面设置在交叉位置（P3），在该交叉位置处，具有不同开口角度的多个带电粒子束在通过像差产生透镜（13）之后会聚。

    Particle-beam column corrected for both chromatic and spherical aberration
    7.
    发明授权
    Particle-beam column corrected for both chromatic and spherical aberration 有权
    对于色差和球面像差校正的粒子束列

    公开(公告)号：US09275817B2

    公开(公告)日：2016-03-01

    申请号：US13849496

    申请日：2013-03-23

    Applicant: Frederick Wight Martin

    Inventor： Frederick Wight Martin

    IPC: H01J37/145 ,  H01J3/22 ,  H01J37/141 ,  H01J37/153 ,  H01J3/12

    CPC classification number: H01J3/22 ,  H01J3/12 ,  H01J37/141 ,  H01J37/145 ,  H01J37/153 ,  H01J2237/04926 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/31749

    Abstract: An objective lens for use in probe-forming particle-optical columns such as focused ion beam equipment, scanning electron microscopes, and helium microscopes is described. It comprises two interleaved (quadrupole/octopole) lenses and two or three ancillary octopole lenses, and is capable of simultaneous compensation of spherical (Cs) and chromatic (Cc) aberrations of the objective lens alone or of the complete particle-optical column. Additional apparatus comprising a gridded aperture and position-sensitive detector is specified, together with a method to measure and minimize all of the five independent third-order aberration coefficients of the objective lens.

    Abstract translation: 描述了用于探针形成颗粒光学柱的物镜，例如聚焦离子束设备，扫描电子显微镜和氦显微镜。 它包括两个交错（四极/八极）透镜和两个或三个辅助八极透镜，并且能够同时补偿单独的物镜或完整的粒子 - 光学柱的球面（Cs）和彩色（Cc）像差。 规定包括网格孔径和位置敏感检测器的附加装置，以及用于测量和最小化物镜的所有五个独立三阶像差系数的方法。

    Method for correcting electronic proximity effects using off-center scattering functions
    8.
    发明授权
    Method for correcting electronic proximity effects using off-center scattering functions 有权
    使用偏心散射函数校正电子邻近效应的方法

    公开(公告)号：US09224577B2

    公开(公告)日：2015-12-29

    申请号：US13587598

    申请日：2012-08-16

    Applicant: Patrick Schiavone ,  Thiago Figueiro

    Inventor： Patrick Schiavone ,  Thiago Figueiro

    IPC: H01J37/31 ,  H01J37/317 ,  H01J3/12 ,  G03F7/20 ,  H01J37/22 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/2061 ,  H01J3/12 ,  H01J37/222 ,  H01J2229/563 ,  H01J2237/226 ,  H01J2237/31769

    Abstract: A method for projecting an electron beam, used notably in direct or indirect writing lithography and in electronic microscopy. Proximity effects created by the forward and backward scattering of the electrons of the beam in interaction with the target must be corrected. For this, the convolution of a point spread function with the geometry of the target is conventionally used. At least one of the components of the point spread function has its maximum value not located on the center of the beam. Preferably, the maximum value is instead located on the backward scattering peak. Advantageously, the point spread function uses gamma distribution laws.

    Abstract translation: 一种用于投射电子束的方法，特别用于直接或间接写入光刻和电子显微镜。 必须校正通过与靶相互作用的光束的电子的向前和向后散射产生的接近效应。 为此，通常使用点扩散函数与目标几何的卷积。 点扩散函数的至少一个分量的最大值不在波束的中心。 优选地，最大值代替地位于后向散射峰上。 有利地，点扩散函数使用伽马分布规律。

    Aberration correction apparatus that corrects spherical aberration of charged particle apparatus
    9.
    发明授权
    Aberration correction apparatus that corrects spherical aberration of charged particle apparatus 有权
    校正带电粒子装置的球面像差的畸变校正装置

    公开(公告)号：US08035086B2

    公开(公告)日：2011-10-11

    申请号：US12379442

    申请日：2009-02-23

    Applicant: Yoichi Hirayama ,  Takaho Yoshida

    Inventor： Yoichi Hirayama ,  Takaho Yoshida

    IPC: H01J3/24

    CPC classification number: H01J3/12 ,  H01J37/153 ,  H01J37/26 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/28

    Abstract: To provide an aberration correction configuration that can realize both an aberration correction function for a long focus and an aberration correction function for a short focus. While having a conventional aberration correction apparatus configuration that has two rotationally symmetric lenses arranged between two multipole lenses, three rotationally symmetric lenses are disposed between an objective lens and a multipole lens instead of the conventional arrangement in which two rotationally symmetric lenses are disposed therebetween. When using the objective lens with a long focal length, aberrations are corrected using two rotationally symmetric lenses among three rotationally symmetric lenses disposed between the objective lens and the multipole lens. When using the objective lens with a short focal length, e.g. for high resolution observation, aberrations are corrected using two rotationally symmetric lenses of a different combination to those used for a long focus, among the three rotationally symmetric lenses disposed between the objective lens and the multipole lens. (See FIG. 3)

    Abstract translation: 提供能够实现长焦点的像差校正功能和短焦点的像差校正功能的像差校正配置。 在具有布置在两个多极透镜之间的两个旋转对称透镜的常规像差校正装置配置的同时，三个旋转对称透镜设置在物镜和多极透镜之间，而不是其中设置两个旋转对称透镜的常规布置。 当使用具有长焦距的物镜时，使用设置在物镜和多极镜头之间的三个旋转对称透镜之中的两个旋转对称透镜校正像差。 当使用具有短焦距的物镜时，例如， 对于高分辨率观察，在物镜和多极透镜之间设置的三个旋转对称透镜中，使用与用于长焦距的不同组合的两个旋转对称透镜来校正像差。 （参照图3）

    X-ray tube providing variable imaging spot size
    10.
    发明授权
    X-ray tube providing variable imaging spot size 失效
    X射线管提供可变成像光斑尺寸

    公开(公告)号：US06236713B1

    公开(公告)日：2001-05-22

    申请号：US09179805

    申请日：1998-10-27

    Applicant: Richard B. True ,  James C. Taylor ,  Christopher P. Ferrari ,  Curtis G. Allen ,  Thomas M. Bemis

    Inventor： Richard B. True ,  James C. Taylor ,  Christopher P. Ferrari ,  Curtis G. Allen ,  Thomas M. Bemis

    IPC: H01J3514

    CPC classification number: H01J35/06 ,  H01J3/12 ,  H01J35/14

    Abstract: A variable spot size x-ray tube comprises a cathode having an electron emitting surface providing an electron beam that travels essentially along the tube axis of symmetry to an anode. The anode, spaced from the cathode, includes a target, the front surface of which is disposed at an oblique angle with respect to the axis of symmetry. The potential of the anode is generally positive with respect to that of the cathode. The cathode is heated to a temperature at which electrons are emitted by the thermionic emission process. Current from the cathode can be controlled by varying the cathode temperature if the cathode is operated in the temperature limited region. The incident electron beam forms a spot on the target surface whereupon x-rays are produced in response to impingement of the electron beam on the target. The x-rays propagate outwardly from the target spot through a vacuum window to form a beam of x-radiation outside the x-ray tube. An aperture grid is disposed between the cathode and the anode, and has a central aperture permitting the electron beam to pass therethrough. The aperture grid further has a variable voltage applied to it which may be positive, negative, or equal to the potential of the cathode. The voltage on the control grid is used to control the diameter of the electron beam which impinges upon the target. Specifically, the electron beam diameter varies in correspondence with the variable aperture grid voltage, and selective variation of the electron beam diameter results in a corresponding variation in size of the x-ray imaging spot.

    Abstract translation: 可变点尺寸x射线管包括具有电子发射表面的阴极，该电子发射表面提供基本上沿着管对称轴线向阳极行进的电子束。 与阴极间隔开的阳极包括靶，其前表面相对于对称轴线倾斜设置。 阳极的电位通常相对于阴极的电位为正。 将阴极加热到通过热离子发射过程发射电子的温度。 如果阴极在温度限制区域中运行，则可以通过改变阴极温度来控制来自阴极的电流。 入射的电子束在目标表面上形成一个点，因此响应于电子束撞击靶而产生X射线。 x射线从靶点向外传播通过真空窗口，以在x射线管外部形成x辐射束。 孔栅格设置在阴极和阳极之间，并且具有允许电子束通过的中心孔。 孔径栅格还具有施加到其上的可变电压，其可以是正的，负的或等于阴极的电位。 控制网格上的电压用于控制撞击目标的电子束的直径。 具体地，电子束直径与可变孔径栅极电压相对应地变化，并且电子束直径的选择性变化导致x射线成像光斑的尺寸的相应变化。

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