公开(公告)号：KR100177591B1

公开(公告)日：1999-04-15

申请号：KR1019930001597

申请日：1993-02-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  요시오카가즈토시 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67781 ,  H01L21/6838 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/141

Abstract: 웨이퍼에 레지스트를 도포·현상하는 장치는, 웨이퍼를 수용하는 여러 개의 캐리어 및 받아 건네는 대가 배설된 캐리어 스테이숀과, 여러 개의 처리 유니트를 가지는 처리부와, 상기 캐리어 스테이숀과 처리부 사이에서 배설된 반송 로보트를 구비한다. 상기 로보트는 상기 캐리어와 상기 받아 건네는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 1개의 판형상 아암과, 상기 처리 유니트와 상기 받아 건네는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 2개의 말굽형 포크를 구비한다. 상기 로보트는, 아암 및 포크를 상기 캐리어, 처리 유니트, 및 받아 건네는 대와 대향시키도록 반송로를 따라서 이동 가능하게 되어 있다.

公开(公告)号：KR100167481B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019950029398

申请日：1995-09-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  가부시키가이샤 이와키 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 후지모토아키히로 ,  다케쿠마다카시 ,  소노베기요미

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/70691

Abstract: 본 발명은, 제1의 처리부 및 제2의 처리부를 가지는 처리실의 제1의 처리부에 있어서 피처리체에 처리액을 도포하는 도포공정과, 피처리체를 상기 제1의 처리부로부터 상기 제2의 처리부에 반송하는 공정과, 제2의 처리부에 있어서 피처리체의 둘레부에 잔존한 불필요한 처리액을 린스하므로써 제거하는 린스공정과, 린스된 피처리체를 노광장치에 반송하고, 이 피처리체에 노광처리를 시행하는 노광공정을 가지며, 하나의 피처리체에 대한 린스공정 종료로부터 다음의 피처리체에 대한 린스공정 종료까지의 시간이, 하나의 피처리체에 대한 노광공정에 있어서의 시간보다도 짧은 기판처리방법을 제공한다.
또, 본 발명은, 피처리체의 처리액을 공급하는 복수의 처리액 공급노즐과, 각각의 처리액 공급노즐로부터 공급되는 처리액을 수용하는 복수의 처리액 공급원과, 각각의 처리액 공급노즐과 처리액 공급원을 각각 접속하는 공급관과 비압축 유체의 압력에 의해 작동하는 펌프로 구성되어 있고, 상기 공급관에 끼워설치되어 상기 복수의 처리액을 각각 공급하는 복수의 처리액 공급수단과 복수의 처리액 공급수단과 유로전환수단을 통하여 접속되어 있으며, 비압축 유체를 이용한 단일의 압력발생수단을 가지는 기판처리장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1019960012298A

公开(公告)日：1996-04-20

申请号：KR1019950032781

申请日：1995-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 이나다히로이치 ,  쓰네마쓰구니에

IPC: H01L21/027

Abstract: 현상장치는, 레지스트도포면이 위가 되도록 웨이퍼를 실질적으로 수평으로 유지하면서 웨이퍼를 회전시키는 스핀척과, 이 스핀척상의 웨이퍼의 레지스트도포면에 대하여 비스듬한 방향으로 부터 현상액을 공급하는 노즐과, 이 노즐에 현상액을 공급하는 공급원과, 스핀척상의 기판의 둘레부를 둘러싸듯이 설치되어서 웨이퍼에 공급된 현상액을 배출하는 드레인통로를 가지는 컵과, 웨이터의 회전방향으로 추종하는 방향으로 현상액이 토출되도록 수평면내에서 이동시키는 벨트구동기구를 가진다.

公开(公告)号：KR1019950034537A

公开(公告)日：1995-12-28

申请号：KR1019950004757

申请日：1995-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 도모에다다카유키 ,  무라카미마사아키 ,  니시오카겐이치

IPC: H01L21/30

Abstract: 본 발명은, 피처리체에 처리액을 공급하여 피처리체에 처리를 하는 처리공정과, 피처리체에 세정액을 공급하여 피처리체를 세정하는 세정공정을 가지며, 처리공정과 세정공정이 적어도 일부에서 오버랩하는 피처리체의 레지스트 처리방법을 제공한다.
또한, 본 발명은, 대향하는 한 쌍의 끝단테두리를 가지는 사각형상의 피처리체의 윗쪽에 처리액을 공급하는 처리액 공급수단을 위치시키는 공정과, 처리액 공급수단에 의해서 처리액을 피처리체에 공급하면서, 처리액 공급수단을 피처리체의 한 쌍의 끝단테두리의 한 쪽의 끝단테두리를 향하여 피처리체에 대하여 상대적으로 이동시키는 공정과, 처리액 공급 수단에 의해서 처리액을 피처리체에 공급하면서, 처리액 공급수단을 피처리에의 상기 한 쪽의 끝단테두리부터 한 쌍의 끝단테두리의 다른 쪽의 끝단테두리를 향하여 피처리체에 대하여 상대적으로 이동시키는 공정을 가지는 피처리체의 레지스트 처리방법을 제공한다.

公开(公告)号：KR1019950034476A

公开(公告)日：1995-12-28

申请号：KR1019950009914

申请日：1995-04-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 미우라요시카즈 ,  아라이히데오 ,  아키모토마사미 ,  오가와시즈오 ,  나가노도시히코

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은, 로우드ㆍ언로우드부, 처리부, 및 인터페이스로 구성된 피처리체의 처리장치로서, 로우드ㆍ언로우드부로부터 인터페이스부까지 양방향으로 이동가능하며, 처리부에서의 각 처리파트에 피처리체를 이송함과 동시에, 로우드ㆍ언로우드부로부터 인터페이스부까지 피처리체를 양방향으로 반송할 수 있는 반송기구와, 반송기구에 의해 인터페이스부에 피처리체를 옮겨 실을 때에 피처리체를 일시 대기시키기 위한 적어도 두개의 대기부를 구비하는 피처리체의 처리장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1019940020507A

公开(公告)日：1994-09-16

申请号：KR1019940002162

申请日：1994-02-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 기무라요시오

IPC: H01L21/31

Abstract: 반도체 웨이퍼에 포토레지스트를 도포하는 시스템은, 로드/언로드 유니트와, 처리 유니트를 구비한다. 처리유니트에는 반송로가 배치되고, 반송로를 따라서, 애드히젼 처리부, 프리베이크부, 냉각부, 레지스트 도포부, 및 피복층 도포부가 배치된다. 애드히젼 처리부, 프리베이크부, 및 피복층 도포부는, 개개의 처리실내의 배치되는 한편, 냉각부 및 레지스트 도포부는 공통의 주처리실내로 배치된다.
반송로를 따라서 이동이 자유롭게 반송로보트이 배치되고, 그 로보트에 의하여 처리실 사이에서 기판이 반송된다. 주처리실내에는 전용의 반송부재가 배치되고, 그 반송부재에 의하여 냉각부로부터 레지스트 도포부로 기판이 반송된다.
선택도 : 제1도.

公开(公告)号：KR1019940012520A

公开(公告)日：1994-06-23

申请号：KR1019930023798

申请日：1993-11-10

Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  미야자키다카노리 ,  무카이에이이치 ,  가미카와유우지 ,  다나카유지

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판세정장치는 세정처리액이 수용된 처리조와, 반도체 웨이퍼를 유지하기 위한 제1기판유지부를 구비하고, 웨이퍼를 유지하여 처리조로 이송하는 척기구와, 웨이퍼를 유지하기 위한 제2기판유지부를 구비하고, 척기구로부터 기판을 건너받아 기판을 세정처리조에 침적하는 보오트기구와를 가지며, 제2기판유지부는 내식성 및 내열성을 가지는 재료로 만들어진 베이스부재와, 이 베이스부재에 장착되고, 기판유지용 다수의 홈이 형성되고, 기판과 동등하거나 부드럽고, 내식성 및 내열성을 가지는 합성수지로 만들어진 받이부재를 가진다.

公开(公告)号：KR1019940006202A

公开(公告)日：1994-03-23

申请号：KR1019930006453

申请日：1993-04-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 시라이시히로후미 ,  혼다요시유키

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명의 스핀 드라이어는 복수의 웨이퍼를 둘러쌓인 케이싱체와, 케이싱체 중에서 복수의 웨이퍼를 유지하여 모우터에 의하여 회전되는 로터와, 로터의 회전축에 대하여 웨이퍼면이 실질적으로 직교하도록 또한 면 대 면의 자세로 되도록 웨이퍼의 각각을 유지하는 상하클램프바를 가진다. 하클램프바는 회전축부재의 각각에 연결고정 되어있고, 기판세트시에 기판하부를 유지하는 것이며, 상크램프는 한편의 회전축부재에 대하여 기도가능하게 축고정된 그 기초부와, 전도상태인때에 다른쪽의 회전축 부재에 계합로크 되도록한 선단부를 가진다. 상크램프바를 미끄럼운퐁 시키는 미끄럼 운동기구와, 상 크램프바의 선단부를 다른쪽의 회전축 부재에 계합하는 로크기구와, 상클램프바의 선단부를 다른쪽의 회전축 부재로부터 해제하는 언로크기구를 가진다.

公开(公告)号：KR3001304940000S

公开(公告)日：1992-09-21

申请号：KR3019910012123

申请日：1991-08-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Designer： 아키모토마사미

公开(公告)号：KR1019920010782A

公开(公告)日：1992-06-27

申请号：KR1019910020990

申请日：1991-11-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 이노우에마사후미

IPC: H01L21/304

Abstract: 내용 없음