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公开(公告)号：KR101229609B1
公开(公告)日：2013-02-04
申请号：KR1020060017953
申请日：2006-02-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 처리시스템에 관한 것으로서 반입유닛트 (IN 120) 및 세정 프로세스부 (25)에는 봉형상의 회전자 (160)을 소정의 피치로 배치하여 이루어지는 제 1 반송로 (162)가 설치되어 있다. 반입 유닛트 (IN 120)에는 반송유닛트 (20)의 반송기구 (22)로부터 한번에 2매의 기판 (G
i ; G
i
+1 )을 수평 상태에서 동시에 수취하여 일시적으로 지지하는 일시 지지부 (168)와 이 일시 지지부 (168)로부터 기판 (G
i ; G
i+1 )을 차례로 1매씩 반송로 (162)상의 소정위치에 로딩하는 이재기구 (170)가 설치되어 있는 카셋트 스테이션과 프로세스 스테이션의 사이에서 반송기구를 개재하여 기판 취급을 행하는 시스템에 있어서 택트 타임의 대폭개선을 실현하는 기술을 제공한다.-
公开(公告)号：KR101216747B1
公开(公告)日：2012-12-31
申请号：KR1020060074123
申请日：2006-08-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: F26B5/04
Abstract: 본발명은감압건조장치에관한것으로감압건조장치 (23b)는 LCD 기판 (G)가반입되는반입구 (61) 및 LCD 기판 (G)가반출되는반출구 (62)를측벽부에가져반입구 (61)으로부터반입된 LCD 기판 (G)를대략수평상태로수용하는챔버 (6)과반입구 (61) 및반출구 (62)를개폐하는게이트부재 ((63, 64))와게이트부재 ((63, 64))에의해반입구 (61) 및반출구 (62)가폐색된상태로챔버 (6)내를감압하는감압기구와 LCD 기판 (G)를대략수평으로반송해반입구 (61)으로부터챔버 (6)내에반입함과동시에감압기구에의한감압건조처리후에대략수평으로반송해반출구 (62)로부터챔버 (6)외에반출하는반송기구 (7)과챔버 (6)내에서 LCD 기판 (G)를국부적으로지지하는경우없이균등하게지지가능한벨트 (71)을구비한다. 기판이대형이라도안전성이뛰어나는것과동시에진동의발생을억제할수 있고또한기판에도포된도포액에생기는전사를확실히방지하는것이가능한감압건조장치를제공하는기술을제공한다.
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公开(公告)号：KR101000602B1
公开(公告)日：2010-12-10
申请号：KR1020100098880
申请日：2010-10-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13 , H01L21/683
Abstract: 본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로, 본 발명의 기판처리장치는 기판을 재치시켜 열처리하기 위한 재치부와 재치부상에서 기판을 지지하는 복수의 지지부재와, 재치부에 자유롭게 붙였다 떼었다 할 수 있게 설치되고, 복수의 지지부재를 연결하는 연결부재를 갖는다.
본 발명에 따르면, 복수의 지지부재에 의해 기판을 지지할 수 있고, 재치부에 연결부재를 붙였다 떼었다 하는 것으로, 연결된 지지부재를 설치할 수가 있다. 이것에 의해 종래와 같이 예를 들면, 와이어 등으로 직접 기판을 지지하는 일도 없이, 전사의 흔적이 남지 않도록 할 수가 있다. 또, 프록시미티 핀(Proximity Pin)을 하나씩 교환할 필요도 없고 붙였다 떼었다 하는 것이 용이하게 됨으로 유지보수성이 향상한다.Abstract translation: 基板处理装置及基板处理装置技术领域本发明涉及一种基板处理装置及基板处理装置，其包括：安装部，其对基板进行安装及热处理;多个支撑部件，其用于将所述基板支撑在所述安装部上; 并且具有用于连接多个支撑部件的连接部件。
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公开(公告)号：KR1020070058978A
公开(公告)日：2007-06-11
申请号：KR1020060121443
申请日：2006-12-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/13 , H01L21/67739 , H01L21/67742 , H01L21/68742 , Y10S414/14
Abstract: A substrate transferring system, a substrate transferring apparatus, and a substrate processing apparatus are provided to improve the stability and efficiency of a transfer unit for carrying in and out a substrate with respect to a process chamber. A substrate transferring system comprises a transfer body(100) and an elevating unit. The transfer body includes a plurality of rollers(110) for supporting a substrate(G), a support member(111) for supporting the rollers, a moving unit(114) for transferring the rollers to or from a coating process chamber(24) by moving the support member, and a rotation driving unit(113) for rotating the rollers. The plurality of rollers are arranged in a horizontal direction. The elevating unit elevates the substrate disposed within the coating process unit.
Abstract translation: 提供了基板转印系统，基板转印装置和基板处理装置，以提高用于相对于处理室输入和输出基板的转印单元的稳定性和效率。 基板转印系统包括转印体（100）和升降单元。 转印体包括用于支撑基材（G）的多个辊（110），用于支撑辊的支撑构件（111），用于将辊传送到涂布处理室（24）的移动单元（114） 通过移动支撑构件，以及用于旋转辊的旋转驱动单元（113）。 多个辊沿水平方向布置。 升降单元提升设置在涂布处理单元内的基板。
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公开(公告)号：KR1020060051463A
公开(公告)日：2006-05-19
申请号：KR1020050087591
申请日：2005-09-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/6715 , B05B1/005 , B05B1/044 , B05C11/1002 , G03F7/16
Abstract: 본 발명은 기판처리시스템에 관한 것으로서 피처리 기판의 표면에 처리액의 막을 도포 형성하고 노광 장치와 연동하여 기판에 소정의 패턴을 형성하는 기판 처리 시스템((100))에 있어서 피처리 기판을 각각 재치하는 제 1 의 스테이지(50) 및 제 2의 스테이지(59)와 상기 제 1 의 스테이지(50) 및 제 2의 스테이지(59)에 각각 재치된 피처리 기판의 표면에 처리액을 도포해 막형성하는 처리액 도포 수단을 가지는 도포막형성 수단과 복수의 노광 장치(4a ; 4b)에 대하여 상기 도포막형성 수단에 의해 막형성된 피처리 기판의 반송을 실시하는 기판 반송 수단(42a; 42b)을 구비하는 피처리 기판의 표면에 처리액의 막을 도포 형성하고 노광 장치와 연동하여 기판에 소정의 패턴을 형성하는 기판 처리 시스템에 있어서 각 기판에 처리액을 균일하게 도포할 수 있고 노광 � ��치와 연동했을 때의 기판 처리의 수율을 향상할 수 있는 기판 처리 시스템을 제공한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140043863A
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：KR1020130109049
申请日：2013-09-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/208 , H01L21/302
CPC classification number: G03F7/168
Abstract: The objective of the present invention is to conveniently and efficiently suppress the generation of frames at the peripheral part of the coating film (RM) formed at a substrate (G) in a drying process and to improve uniformity in the thickness of the film after drying. In a process for suppressing the generation of a frame, when solvent is drying at each part of the coating film (RM), which is in a liquid state, of the substrate (G) in an infrared radiation chamber in a drying process, the liquid flows from the central part to the peripheral part at the coating film (RM) due to the high drying speed of the solvent at the peripheral part where the surface in contact with the outer part is larger than the central part of the coating film, and also certain temperature difference between the central part and the peripheral part of the coating film (RM) is generated due to the local infrared radiation for the peripheral part of the coating film (RM). Therefore, the generation of a frame is prevented or suppressed, since surface tension between the central part and the peripheral part of the coating film (RM) is balanced.
Abstract translation: 本发明的目的是在干燥过程中方便有效地抑制在形成于基板（G）的涂膜（RM）的周边部分处的框架的产生，并且改善干燥后的膜厚度的均匀性 。 在抑制框的产生的过程中，当在干燥过程中在红外线辐射室中的基板（G）的液膜状态的各部分的溶剂干燥时， 由于在与外部部分接触的表面大于涂膜中心部分的周边部分处的溶剂的高干燥速度，液体在涂膜（RM）从中心部分流向周边部分， 并且由于涂膜（RM）的周边部分的局部红外辐射，也产生涂膜（RM）的中心部分和周边部分之间的某些温度差。 因此，由于涂膜（RM）的中心部分和周边部分之间的表面张力平衡，所以防止或抑制了框架的产生。
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公开(公告)号：KR101300853B1
公开(公告)日：2013-08-27
申请号：KR1020060121443
申请日：2006-12-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 본 발명은 기판반송시스템, 기판반송장치 및 기판처리장치에 관한 것으로서, 유리 기판상의 도포막에 얼룩이 생기지 않도록 기판을 반송하는 것을 목적으로 하고 있다.
레지스트도포처리 유니트의 스테이지의 전후에, 제1의 반송체와 2의 반송체가 설치된다. 제2의 반송체는 Y방향으로 나열된 복수의 롤러와 롤러를 지지하는 핸드, 핸드가 장착된 레일 플레이트를 가진다. 핸드에는 롤러를 회전시키는 회전구동부와 핸드를 Y방향으로 진퇴 시키는 수평 구동부가 설치된다. 스테이지에는 서로 독립하여 승강 자유로운 승강핀군이 설치된다. 유리 기판이 승강핀군에 의해 상승된 상태로 유리 기판의 아래쪽에 롤러가 진입해, 이 롤러에 유리 기판이 수수된다. 롤러는 회전해 유리 기판을 후방으로 저속도로 보내면서 후퇴하는 기술을 제공한다.-
公开(公告)号：KR101069494B1
公开(公告)日：2011-09-30
申请号：KR1020050028560
申请日：2005-04-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본 발명은 도포막 형성장치에 관한 것으로서 피처리 기판(기판, G)의 표면에 처리액(레지스트액 R)을 도포해 막을 형성하는 도포막형성 장치(레지스트 도포 장치, 23a) 에 있어서 나열하여 배치되고 피처리 기판을 각각 재치하는 제 1의 스테이지(스테이지, 50) 및 제 ２의 스테이지(스테이지, 59)와 피처리 기판의 폭방향으로 연장하는 슬릿 형상의 토출구를 가지는 하나의 처리액 공급 노즐(51)과, 상기 처리액 공급 노즐(51)을 이동하는 노즐 이동 수단(86)과, 상기 처리액 공급 노즐(51)에 대해서 처리액을 공급하는 처리액 공급 수단(레지스트액 공급원, 95)과 상기 토출구로부터의 처리액을 회전 자재로 형성된 롤러(52)의 주위면에 토출시켜 상기 롤러(52)를 회전시키는 것에 의해 상기 토출구에 부착하는 처리액을 균일화 처리하는 프라이밍 처리 수단을 구비하고 상기 처리액 공급 노즐(51)에 의해 제 1의 스테이지 및 제 ２의 스테이지에 재치된 피처리 기판의 표면에 처리액을 도포한다. 풋 프린트 및 장치의 비용 증대를 매우 억제하면서 처리액을 피처리 기판에 도포해 막형성할 때에 막형성 처리의 수율을 향상시킴과 동시에 각 피처리 기판에 처리액을 균일하게 도포할 수 있는 도포막형성 장치를 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020070019563A
公开(公告)日：2007-02-15
申请号：KR1020060074123
申请日：2006-08-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: F26B5/04
Abstract: 본 발명은 감압건조장치에 관한 것으로 감압 건조 장치 (23b)는 LCD 기판 (G)가 반입되는 반입구 (61) 및 LCD 기판 (G)가 반출되는 반출구 (62)를 측벽부에 가져 반입구 (61)으로부터 반입된 LCD 기판 (G)를 대략 수평 상태로 수용하는 챔버 (6)과 반입구 (61) 및 반출구 (62)를 개폐하는 게이트 부재 ((63, 64))와 게이트 부재 ((63, 64))에 의해 반입구 (61) 및 반출구 (62)가 폐색된 상태로 챔버 (6)내를 감압하는 감압 기구와 LCD 기판 (G)를 대략 수평으로 반송해 반입구 (61)으로부터 챔버 (6)내에 반입함과 동시에 감압 기구에 의한 감압 건조 처리 후에 대략 수평으로 반송해 반출구 (62)로부터 챔버 (6)외에 반출하는 반송 기구 (7)과 챔버 (6)내에서 LCD 기판 (G)를 국부적으로 지지하는 경우 없이 균등하게 지지 가능한 벨트 (71)을 구비한다. 기판이 대형이라도 안전성이 뛰어나는 것과 동시에 진동의 발생을 억제할 수 있고 또한 기판에 도포된 도포액에 생기는 전사를 확실히 방지하는 것이 가능한 감압 건조 장치를 제공하는 기술을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020060094488A
公开(公告)日：2006-08-29
申请号：KR1020060017953
申请日：2006-02-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 처리시스템에 관한 것으로서 반입유닛트 (IN 120) 및 세정 프로세스부 (25)에는 봉형상의 회전자 (160)을 소정의 피치로 배치하여 이루어지는 제 1 반송로 (162)가 설치되어 있다. 반입 유닛트 (IN 120)에는 반송유닛트 (20)의 반송기구 (22)로부터 한번에 2매의 기판 (G
i ; G
i
+1 )을 수평 상태에서 동시에 수취하여 일시적으로 지지하는 일시 지지부 (168)와 이 일시 지지부 (168)로부터 기판 (G
i ; G
i+1 )을 차례로 1매씩 반송로 (162)상의 소정위치에 로딩하는 이재기구 (170)가 설치되어 있는 카셋트 스테이션과 프로세스 스테이션의 사이에서 반송기구를 개재하여 기판 취급을 행하는 시스템에 있어서 택트 타임의 대폭개선을 실현하는 기술을 제공한다.
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