公开(公告)号：KR100719316B1

公开(公告)日：2007-05-17

申请号：KR1020010014631

申请日：2001-03-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  모토다키미오 ,  시모무라유지

IPC: H01L21/027

Abstract: LCD기판을 회전시키면서 레지스트액 토출노즐의 저면에 형성되어 있는 다수의 미세 토출구멍으로부터 회전하는 기판(G)에 레지스트액을 띠모양으로 토출하여 기판상에 레지스트액을 도포하고, 그 후에 레지스트액의 토출을 정지하고 기판을 회전시키면서 기판상의 도포막의 막두께를 가지런하게 한다. 이에 따라, 장치 코스트의 상승을 초래하는 일이 없고 도포액의 사용량을 감소시킬 수가 있다.

公开(公告)号：KR100562839B1

公开(公告)日：2006-03-23

申请号：KR1019990052754

申请日：1999-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼다요이치 ,  시모무라유지 ,  타나카시노부 ,  아라키신이치로 ,  사카이미쯔히로

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로, 기판(G)에 레지스트를 도포하기 위한 레지스트도포 유니트(22a)와, 레지스트가 도포된 기판을 비가열상태에서 건조하는 건조처리 유니트(22b)와, 도포유니트(2a)로 기판을 반입하기 위한 기판반입포트(81)와, 처리종료 후의 기판을 장치 밖으로 반출하기 위한 기판반출포트(82)와, 기판을 레지스트도포 유니에서 건조처리 유니트로 반송하고, 또한 기판반출포트에서 반출가능한 위치로 반송하는 유니트간 반송기구(41, 42)와 주반송장치(18)가 기판반출위치(85)에 오는 타이밍에 따라서 유니트간 반송기구에 의한 기판반송을 제어하는 콘트롤러(91, 93)를 가짐으로써, 2이상의 일련의 처리를 제어하여 이들 처리를 기판에 악영향을 미치지 않으면서 고 쓰루우풋으로 연속적으로 수행할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 기술이 제시된다.

Abstract translation: 本发明是一种抗蚀剂涂敷单元（22A），以及烘干处理单元（22B），和一个涂层单元通过将抗蚀剂施加到基板（G）的装置，以抵抗干燥的在开放条件下的比对涂覆的基材进行约 用于将基板搬运到基板处理装置2a的基板搬入口81，用于将处理后的基板搬运到装置外部的基板搬出口82， 控制器，其控制由交叉部输送机构根据所述单元之间的定时来输出端口出来的位置传送机构（41，42）和所述主传送装置18中，基板搬出位置（85），所述衬底传送在返回到（ 由此可以控制两个或更多个的一系列过程，并且这些过程可以高通量地连续进行而不会不利地影响基板 这是呈现。

公开(公告)号：KR1020010039620A

公开(公告)日：2001-05-15

申请号：KR1020000028049

申请日：2000-05-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쓰히로 ,  다나카시노부 ,  혼다요이치 ,  시모무라유지

IPC: G02F1/13

Abstract: PURPOSE: A substrate treating device is provided to accurately position a substrate carried in the peripheral section treating unit from a coating unit. CONSTITUTION: A peripheral section treating unit, which removes an applied solution from the peripheral section of a substrate(G) after the solution is applied to the substrate(G) by means of a coating unit is provided with a stage(71), on which the substrate(G) is placed and a positioning mechanism(72), which positions the substrate(G) carried onto the stage(71). The positioning mechanism(72) positions the substrate(G) to a prescribed position by pushing the substrate(G) in both directions along the diagonal line of the substrate(G), by means of a pair of rollers(81) which are attached to the Y-shaped front end section of the arm(82) of the mechanism(72), by nearly horizontally moving the arm(82) through the means of a horizontally moving mechanism(84).

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于从包覆单元精确地定位周边部分处理单元中承载的基板。 构成：在通过涂布单元将溶液施加到基板（G）上之后，从基板（G）的周边部分去除涂布的溶液的周边部分处理单元设置有阶段（71），在 放置基板（G）的定位机构（72）和定位机构（72），将基板（G）定位在载物台（71）上。 定位机构72将基板（G）沿着基板（G）的对角线沿两个方向推压基板（G），通过一对连接的辊（81）将基板（G）定位到规定位置 通过水平移动机构（84）的装置将臂（82）几乎水平地移动到机构（72）的臂（82）的Y形前端部。

公开(公告)号：KR1020000012023A

公开(公告)日：2000-02-25

申请号：KR1019990030744

申请日：1999-07-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타카모리히데유키 ,  타테야마키요히사 ,  미조사키켄고 ,  아나이노리유키 ,  사카이미쯔히로 ,  타나카시노부 ,  혼다요이치 ,  시모무라유지

IPC: G02F1/1333

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/168 ,  H01L21/67034

Abstract: PURPOSE: A method for forming a predetermined layer on a surface of a substrate is provided to prevent layer thickness irregularity of resist solution and formation of a lithography on the substrate by heating the substrate in a substantial unheated state after coating the resist solution. CONSTITUTION: A coating solution is coated on the surface of the substrate and is dried under a first decompression circumstance. A dry processing of the substrate is performed utilizing an unheated method under a second decompression circumstance. In set temperature, the second decompression circumstance is lower than the first decompression circumstance. After the dry processing of the substrate, a heating dry processing thereof is performed.

Abstract translation: 目的：提供一种用于在基板表面上形成预定层的方法，以在涂覆抗蚀剂溶液之后，通过在基本上未加热的状态下加热基板来防止抗蚀剂溶液的层厚度不均匀和在基板上形成光刻。 构成：将涂层溶液涂覆在基材的表面上，并在第一减压环境下干燥。 在第二减压环境下利用未加热方法进行基板的干法处理。 在设定温度下，第二减压环境低于第一减压环境。 在基板的干燥处理之后，进行其加热干燥处理。

公开(公告)号：KR100837849B1

公开(公告)日：2008-06-13

申请号：KR1020010058717

申请日：2001-09-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  모토다키미오 ,  마츠다요시타카 ,  미우라유이치로 ,  시모무라유지

IPC: G02F1/13

Abstract: 도포순서가 토출 시작점(S1)으로부터 토출 종료점(Sn)으로, 기판의 양단부로부터 중심부로 향하도록 도포하고 있기 때문에, 양단부에 있어서 도포열의 건조시간이 대략 동일하게 된다. 따라서 각 도포열의 건조시간이 기판 중심선에 있어서 도포열을 중심으로 하여 대칭으로 되어 있기 때문에, 이 건조상태 그대로 다음 공정의 처리가 진행되어 막두께의 균일성을 확보할 수 있고, 또한 노즐이 기판의 외측을 이동하는 때에는 레지스트액 토출량을 적게 하거나 또는 토출을 정지하고 있기 때문에 레지스트를 절약할 수 있다.

公开(公告)号：KR100609766B1

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：KR1019990030744

申请日：1999-07-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타카모리히데유키 ,  타테야마키요히사 ,  미조사키켄고 ,  아나이노리유키 ,  사카이미쯔히로 ,  타나카시노부 ,  혼다요이치 ,  시모무라유지

IPC: G02F1/1333

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/168 ,  H01L21/67034

Abstract: 레지스트액의 도포 직후, 기판이 실질적으로 비가열방식에 의해 건조된다. 구체적인 예를 들면, 샤워헤드로부터 나오는 불활성가스가 기판에 부딛혀짐으로써, 기판에 도포된 레지스트액이 건조되는 것이다. 이에 의해 레지스트액의 막두께 불균일 및 회로패턴의 선폭(線幅) 변동의 지표라고 할 수 있는 전사(傳寫)를 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020010050940A

公开(公告)日：2001-06-25

申请号：KR1020000059478

申请日：2000-10-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  카와구치요시히로 ,  시모무라유지 ,  사다테츠야

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A coat application processor and a coat application processing method are provided in which the film thickness of he coat film can be made uniform and the spattering of the coating liquid can be surely prevented from the start to the end. CONSTITUTION: A coat application processing unit(22) for applying coating liquid on the surface of a substrate(G) comprises a rotation cup(42) having an opening an its upper portion and for storing therein the substrate G, a driver(40) for rotating the substrate(G) in the rotation cup(42), an annular cap(45) mounted on the rotating cup(42) and having an opening(46), a coating-liquid discharging nozzle(51) for discharging the coating liquid to the substrate(G) via the opening(46) of the annular cap(45), a small cap(53) for choking the opening(46), a carrying arm(55) for carrying the small cap(53) and mounting it on the opening(46), and sucking and sticking means(61a,61b,63,64,66) for sucking the small cap(53) and sticking it on the outer periphery of the opening(46).

Abstract translation: 目的：提供涂布涂布处理剂和涂布涂布处理方法，其中可以使涂膜的膜厚均匀，并且可以可靠地防止涂料液体的飞溅从开始到结束。 构成：用于在基材（G）的表面上涂覆涂布液的涂布涂布处理单元（22）包括：旋转杯（42），其具有开口的上部，并用于在其中存储基板G;驱动器（40）， 用于旋转旋转杯（42）中的基板（G），安装在旋转杯（42）上并具有开口（46）的环形盖（45），用于排出涂层的涂布液排放喷嘴（51） 液体经由环形盖（45）的开口（46）到基板（G），用于阻塞开口（46）的小盖（53），用于承载小盖（53）的承载臂（55）和 将其安装在开口（46）上，以及用于吸入小盖（53）并将其粘在开口（46）的外周上的吸附和粘贴装置（61a，61b，63,66,66）。

公开(公告)号：KR1020010039897A

公开(公告)日：2001-05-15

申请号：KR1020000054678

申请日：2000-09-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모토다키미오 ,  시모무라유지

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: To provide a coater capable of detecting the clogging or the like of an ejection hole of a nozzle for applying a coating liquid. CONSTITUTION: A resist liquid is discharged from a nozzle 40 of each coating head 36, which is disposed above a monitoring part 44 located at a standby position 41, onto each pressure sensor 46. When any one of the pressure sensors 46 detects an abnormal value of pressure, it is judged that abnormality, such as clogging, is generated in any one of the ejection holes of the nozzles 40, and the nozzles 40 are cleaned in a cleaning part 45.

Abstract translation: 目的：提供一种能够检测用于涂布涂液的喷嘴的喷射孔的堵塞等的涂布机。 构成：将抗蚀剂液体从位于待机位置41的监视部44上方的各涂布头36的喷嘴40排出到各压力传感器46上。当压力传感器46中的任一个检测到异常值时 的压力，可以判断在喷嘴40的任何一个喷射孔中产生诸如堵塞的异常，并且喷嘴40在清洁部分45中被清洁。