公开(公告)号：KR1019960015840A

公开(公告)日：1996-05-22

申请号：KR1019950034071

申请日：1995-10-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 우에다잇세이 ,  아키모토마사미 ,  구도히로유키

IPC: H01L21/68

Abstract: 복수의 처리위치에서 피반송기판의 받음 및 받아넘김을 하며, 이들 처리위치 사이에서 피반송기판을 반송하는 반송장치는, 장치본체와; 동일평면 내의 서로 다른 위치에서 기판을 지지하는 복수의 지지부를 가지며, 장치본체에 이동가능하게 설치되어 피반송기판을 지지하고 반송하는 반송부재와; 반송부재에 대한 상기 기판의 받고 받아넘김 동작을 하기 위해 반송부재를 이동하는 이동기구와; 반송부재의 위치를, 상기 각 지지부로 상기 기판의 받음 및 받아넘김을 하기 위한 복수의 위치 사이에서 전환하는 전환기구를 구비한다.

公开(公告)号：KR1019960002497A

公开(公告)日：1996-01-26

申请号：KR1019950018716

申请日：1995-06-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  기무라요시오 ,  하세베게이죠 ,  나가시마신지 ,  셈바노리오 ,  이이다나루아키 ,  하라다고지 ,  우에다잇세이 ,  고니시노부오

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은, 복수매의 피처리체를 수용한 적어도 하나의 카세트를 얹어 놓는 카세트 스테이션과, 피처리체에 처리를 복수의 처리실 및 처리실에 피처리체를 반입하고, 처리실로 부터 피처리체를 반출하는 피처리체 반송수단을 포함하는 처리 스테이션과, 카세트 스테이션과 처리 스테이션과의 사이에서 피처리체를 주고 받는 제1의 피처리체 주고 받기 수단과, 피처리체를 대기시키는 피처리체 대기영역 및 처리 스테이션과의 사이에서 피처리체의 주고 받기를 하는 제2의 피처리체 주고받기 수단을 포함하는 인텨페이스부를 가지며, 처리 스테이션에 있어서의 처리실이 피처리체 반송수단의 둘레에 배치되어 있고, 피처리체 반송수단은 연직방향으로 거의 평행한 회전축을 가지며, 회전축을 따라서 연직방향으로 승강가능하며, 회전축에 대하여 회전가 능한 기판처리 시스템을 제공한다.

公开(公告)号：KR1019930006859A

公开(公告)日：1993-04-22

申请号：KR1019920017074

申请日：1992-09-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  후지모토아키히로 ,  이와쓰하루오

IPC: H01L21/31

Abstract: 피도포체를 유지하여 회전하는 회전유지수단과, 이 회전유지수단을 둘러싸도록 설치되고 상기 피도포체에 공급된 도포액(L2)의 흩날림을 방지하기 위한 용기를 가지는 도포장치에 있어서, 회전유지수단에 설치되고, 또 상기 용기에 부착한 도포액을 세정하기 위한 세정액이 공급되는 세정용 치구를 구비하며, 이 세정용 치구는 상기 세정액을 저유할 수 있는 저유부를 가짐과 동시에, 상기 회전유지수단의 회전에 의하여 상기 저유부에 저유한 세정액을 상기 용기를 향하여 토출하는 토출구멍(36)을 가지는 것을 특징으로 하는 도포장치에 관한 것이다. 이것에 의하여 소량의 세정액으로 균일하고 단시간에 효율좋게 용기의 내부에 부착한 도포액의 세정을 행할 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR100300614B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019950009914

申请日：1995-04-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 미우라요시카즈 ,  아라이히데오 ,  아키모토마사미 ,  오가와시즈오 ,  나가노도시히코

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은, 로우드ㆍ언로우드부, 처리부, 및 인터페이스부로 구성된 피처리체의 처리장치로서, 로우드ㆍ언로우드부로부터 인터페이스부까지 양방향으로 이동가능하며, 처리부에서의 각 처리파트에 피처리체를 이송함과 동시에, 로우드ㆍ언로우드부로부터 인터페이스부까지 피처리체를 양방향으로 반송할 수 있는 반송기구와, 반송기구에 의해 인터페이스부에 피처리체를 옮겨 실을 때에 피처리체를 일시 대기시키기 위한 적어도 두개의 대기부를 구비하는 피처리체의 처리장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1019950015707A

公开(公告)日：1995-06-17

申请号：KR1019940030418

申请日：1994-11-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 사카모토야스히로 ,  아키모토마사미 ,  다데야마기요히사 ,  기다무라신지

IPC: H01L21/68

Abstract: 피처리체를 반송가능하게 구성된 기판 반송기구의 아암에 피처리체의 가장자리부를 복수개소로 지지하는 복수의 네일을 설치함과 동시에 이들 각 네일의 바깥쪽 윗쪽에 피처리체 가장자리 근처의 아래면에 맞닿고, 이들을 지지하는 적어도 한개 이상의 돌기형상의 흡착부를 설치하고 있다, 따라서, 피처리체는 처리공정마다 주변부 지지수단인가 또는 진공흡착수단인가의 어느쪽인가 선택되어 소망의 반송을 할 수 있다, 더구나, 아암의 동작범위를 제어변경함으로써, 아암을 교환하는 일 없이 대응할 수 있다, 따라서, 각 처리기구에서의 피처리체의 주고받기를 원활하게 하고 효율좋게 일련에 처리를 할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019940010225A

公开(公告)日：1994-05-24

申请号：KR1019930020311

申请日：1993-10-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미

IPC: H01L21/304

Abstract: 반도체 웨이퍼의 이면을 세정하는 장치는, 주면이 상향이면서 또한 실질적으로 수평으로 되도록 웨이퍼를 끼워 지지하여 유지하기 위한 1쌍의 홀더를 구비한다. 홀더는 수평방향에 있어서 상대적으로 접근, 이반이동가능함과 함께, 승강가능하도록 되어 있다. 홀더에 유지된 상태의 웨이퍼의 이면에는 회전브러쉬가 접촉한다. 회전브러쉬는. 그 자신의 축주위에서 자전구동함과 함께, 웨이퍼의 실질적인 중심을 축으로 공전구동된다. 회전브러쉬의 샤프트에는 플렉시블관이 접속되고, 플렉시블관을 통하여 세정수인 순수한 물과, 200℃정도로 가열된 건조용의 질소가스가 선택적으로 웨이퍼의 이면에 공급된다. 또한, 웨이퍼의 주면에는, 웨이퍼의 이면으로부터의 비상물이, 주면에 이르는 것을 방지하는 배리어 가스로서 청정한 질소가스가 공급된다.

公开(公告)号：KR1019930018700A

公开(公告)日：1993-09-22

申请号：KR1019930001597

申请日：1993-02-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  요시오카가즈토시 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/68

Abstract: 웨이퍼에 레지스트를 도포·현상하는 장치는, 웨이퍼를 수용하는 여러개의 캐리어 및 받아 건내는 대가 배설된 캐리어 스테이숀과, 여러 개의 처리 유니트를 가지는 처리부와, 상기 캐리어 스테이숀과 처리부 사이에서 배설된 반송 로보트를 구비한다. 상기 로보트는 상기 캐리어와 상기 받아 건내는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 1개의 판형상 아암과, 상기 처리 유니트와 상기 받아 건내는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 2개의 말굽형 포크를 구비한다. 상기 로보트는, 아암 및 포크를 상기 캐리어, 처리 유니트, 및 받아 건내는 대와 대향시키도록 반송로를 따라서 이동가능하게 되어 있다.

公开(公告)号：KR100315137B1

公开(公告)日：2002-02-28

申请号：KR1019950029396

申请日：1995-09-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 히로세오사무 ,  아키모토마사미 ,  사카모토야스히로 ,  하라다고오지

IPC: H01L21/02

Abstract: 기판처리장치는, 적어도 기판을 가열하는 가열 유니트와, 기판을 냉각하는 냉각 유니트를 포함하는 여러개의 처리 유니트와, 처리 유니트를 출입시키기 위한 개구를 가지는 상하 여러단으로 배치되어 있는 여러개의 컴파트먼트를 가지는 외장 프레임을 구비하면, 또 컴파트먼트는, 처리 유니트의 조작에 필요로 하는 전기계, 제어계 및 유체계를 포함하는 유틸리티 라인에 연결되는 여러개의 제 1 이음부재를 가지며, 처리 유니트는, 상기 제 1 이음부재에 접속되는 여러개의 제 2 이음부재를 가진다.

公开(公告)号：KR100299114B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019950034071

申请日：1995-10-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 우에다잇세이 ,  아키모토마사미 ,  구도히로유키

IPC: H01L21/68

Abstract: 복수의 처리위치에서 피반송기판의 받음 및 받아넘김을 하고, 상기 처리위치 사이에서 피 반송기판을 반송하는 기판반송장치는, 장치본체와; 기판을 지지하여 반송하며, 상기 장치본체에 지지된 제 1 끝단부 및 장치본체에 구속되지 않은 제 2 끝단부를 가지고, 동일평면 내에서 복수의 다른 지지위치에서 기판을 지지하는 복수의 지지수단을 구비하며, 이 지지수단은 기판이 그에 대응하는 지지위치 이외의 지지위치에 있는 경우에는 상기 기판에 접촉하지 않고, 인접하는 지지위치에서의 상기 기판의 존재영역은 서로 일부 오버랩하고 있으며, 기판의 외주 끝단부의 서로 마주보는 위치에서 기판을 지지하는 제 1 및 제 2 지지부를 가지는 반송아암부재와; 상기 반송아암부재에 대한 상기 기판의 받고 받아넘김 동작을 하기 위해 반송아암부재를 이동하는 이동수단과; 상기 반송아암부재를 상기 동일평면 내에서 평행이동 시프트시키는 것에 의해 상기 복수의 다른 지지위치 사이에서 상기 제 1지지부재와 제 2지지부재를 전환하는 전환수단을 구비한다.

公开(公告)号：KR100241291B1

公开(公告)日：2000-02-01

申请号：KR1019930020311

申请日：1993-10-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02043 ,  B08B1/04 ,  B08B3/02 ,  B08B5/02 ,  B08B11/00 ,  H01L21/67046

Abstract: 반도체 웨이퍼의 이면을 세정하는 장치는, 주면이 상향이면서 또한 실질적으로 수평으로 되도록 웨이퍼를 끼워지지하여 유지하기 위한 1쌍의 홀더를 구비한다. 홀더는 수평방향에 있어서 상대적으로 접근, 이반이동가능함과 함께, 승강가능하도록 되어 있다. 홀더에 유지된 상태의 웨이퍼의 이면에는 회전브러쉬가 접촉한다. 회전브러쉬는, 그 자신의 축 주위에서 자전구동함과 함께, 웨이퍼의 실질적인 중심을 축으로 공전 구동된다. 회전브러쉬의 샤프트에는 플렉시블관이 접속되고, 플렉시블관을 통하여 세정수인 순수한 물과, 200℃ 정도로 가열된 건조용의 질소가스가 선택적으로 웨이퍼의 이면에 공급된다. 또한, 웨이퍼의 주면에는, 웨이퍼의 이면으로부터의 비상물이, 주면에 이르는 것을 방지하는 배리어 가스로서 청정한 질소가스가 공급된다.