公开(公告)号：AU747516B2

公开(公告)日：2002-05-16

申请号：AU9219998

申请日：1998-09-03

Applicant: GOODRICH CO B F ,  IBM

Inventor： GOODALL BRIAN L ,  JAYARAMAN SAIKUMAR ,  SHICK ROBERT A ,  RHODES LARRY F ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  PIETRO RICHARD ANTHONY DI ,  WALLOW THOMAS

IPC: G03F7/004 ,  C08F2/46 ,  C08F32/00 ,  C08G61/08 ,  G03C1/72 ,  G03F7/039

Abstract: The present invention relates to a radiation sensitive photoresist composition comprising a photoacid initiator and a polycyclic polymer comprising repeating units that contain pendant acid labile groups. Upon exposure to an imaging radiation source the photoacid initiator generates an acid which cleaves the pendant acid labile groups effecting a polarity change in the polymer. The polymer is rendered soluble in an aqueous base in the areas exposed to the imaging source.

公开(公告)号：MX2023006495A

公开(公告)日：2023-06-20

申请号：MX2023006495

申请日：2021-12-02

Applicant: IBM

Inventor： BREYTA GREGORY ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  PAREKH NITIN SHASHIKANT

IPC: C08J11/08 ,  B29B17/02 ,  C08J11/04 ,  C08J11/20 ,  C08J11/24

Abstract: Se prepara un material de poliéster residual para reciclaje disolviendo el material en una solución que comprende alcohol hexafluoroisopropílico (HFIPA) y un hidrocarburo clorado, como diclorometano (DCM) y/o un hidrocarburo aromático, como tolueno o xileno, para formar una muestra de poliéster disuelto. El poliéster disuelto puede prepararse para reciclaje por evaporación, secado por rocío y/o precipitación, lo cual produce un producto de poliéster sólido purificado. La solución de disolución, la cual se separa del producto de poliéster sólido purificado, también se recicla a través de destilación con purificación.

公开(公告)号：DE112010003502T5

公开(公告)日：2013-03-14

申请号：DE112010003502

申请日：2010-08-23

Applicant: IBM

Inventor： NELSON ALSHAKIM ,  BROCK PHILLIP JOE ,  SOORIYAKUMARAN RATMAN ,  DAVIS BLAKE ,  MILLER ROBERT DENNIS ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  LIN QINGHUANG

IPC: H01L21/32 ,  C09D183/04 ,  C09D183/14 ,  H01L21/312

Abstract: Silsesquioxan-Polymere, Silsesquioxan-Polymere in negativ photostrukturierbaren dielektrischen Formulierungen, Verfahren zur Bildung von Strukturen unter Verwendung von negativ photostrukturierbaren dielektrischen Formulierungen, welche Silsesquioxan-Polymere enthalten, und Strukturen, die aus Silsesquioxan-Polymeren hergestellt wurden.

公开(公告)号：DE112010003408T5

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：DE112010003408

申请日：2010-08-03

Applicant: IBM

Inventor： DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  BROCK PHILLIP JOE ,  TRUONG HOA ,  ALLEN ROBERT DAVID

IPC: G03F7/039

Abstract: Fotolack-Zusammensetzungen umfassen ein Gemisch eines Phenolpolymers mit einem Copolymer auf (Meth)acrylatbasis, das frei ist von Ether-enthaltenden und/oder Carbonsäure-enthaltenden Einheiten. Das (Meth)acrylat-Copolymer umfasst ein erstes Monomer, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Alkylacrylat, einem substituierten Alkylacrylat, einem Alkyl(meth)acrylat, einem substituierten Alkylmethacrylat und Gemischen davon, und ein zweites Monomer, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Acrylat, einem (Meth)acrylat oder einem Gemisch davon mit einem säurespaltbaren Estersubstituenten; und einen Fotosäuregenerator. Es werden auch Verfahren zum Herstellen eines Fotolack-Bilds auf einem Substrat mit der Fotolack-Zusammensetzung offenbart.

公开(公告)号：DE112020004799T5

公开(公告)日：2022-06-15

申请号：DE112020004799

申请日：2020-10-22

Applicant: IBM

Inventor： NA YOUNG-HYE ,  KIM JANGWOO ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  DE SOUZA JOEL ,  COLLINS JOHN ,  SADANA DEVENDRA

IPC: H01M10/0525 ,  H01M4/134 ,  H01M4/58 ,  H01M10/0568 ,  H01M10/0569

Abstract: Ein Akku enthält eine Katode mit einem Metallhalogenid und einem elektrisch leitenden Material, wobei das Metallhalogenid als aktives Katodenmaterial fungiert; eine poröse Silicium-Anode mit einer Oberfläche, die Poren mit einer Tiefe von ungefähr 0,5 Mikrometer bis ungefähr 500 Mikrometer und einem Metall auf der Oberfläche und in mindestens einigen deren Poren hat; und einen Elektrolyt, der in Kontakt mit der Anode und der Katode steht, wobei der Elektrolyt eine funktionelle Nitrilgruppe enthält.

公开(公告)号：GB2487129B

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：GB201200145

申请日：2010-09-14

Applicant: IBM

Inventor： SOORIYAKUMARAN RATNAM ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  BROCK PHILLIP JOE ,  SWANSON SALLY ANN ,  FRIZ ALEXANDER ,  HUANG WU-SONG ,  CHEN KUANG-JUNG ,  TRUONG HOA

IPC: C09D143/04 ,  G03F7/00 ,  G03F7/075

公开(公告)号：MY123980A

公开(公告)日：2006-06-30

申请号：MYPI9804156

申请日：1998-09-10

Applicant: IBM ,  SUMITOMO BAKELITE CO

Inventor： GOODALL BRIAN L ,  SHICK ROBERT S ,  RHODES LARRY F ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  WALLOW THOMAS ,  SAIKUMAR JAYARAMAN

IPC: G03F7/004 ,  C08F2/46 ,  C08F32/00 ,  C08G61/08 ,  G03C1/72 ,  G03F7/039

Abstract: THE PRESENT INVENTION RELATES TO A RADIATION SENSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING A PHOTOACID INITIATOR AND A POLYCYCLIC POLYMER COMPRISING REPEATING UNITS THAT CONTAIN PENDANT ACID LABILE GROUPS. UPON EXPOSURE TO AN IMAGING RADIATION SOURCE THE PHOTOACID INITIATOR GENERATES AN ACID WHICH CLEAVES THE PENDANT ACID LABILE GROUPS EFFECTING A POLARITY CHANGE IN THE POLYMER. THE POLYMER IS RENDERED SOLUBLE IN AN AQUEOUS BASE IN THE AREAS EXPOSED TO THE IMAGING SOURCE.(FIGURE 1)

公开(公告)号：AU747516C

公开(公告)日：2003-07-24

申请号：AU9219998

申请日：1998-09-03

Applicant: GOODRICH CO B F ,  IBM

Inventor： GOODALL BRIAN L ,  JAYARAMAN SAIKUMAR ,  SHICK ROBERT A ,  RHODES LARRY F ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  PIETRO RICHARD ANTHONY DI ,  WALLOW THOMAS

IPC: G03F7/004 ,  C08F2/46 ,  C08F32/00 ,  C08G61/08 ,  G03C1/72 ,  G03F7/039

Abstract: The present invention relates to a radiation sensitive photoresist composition comprising a photoacid initiator and a polycyclic polymer comprising repeating units that contain pendant acid labile groups. Upon exposure to an imaging radiation source the photoacid initiator generates an acid which cleaves the pendant acid labile groups effecting a polarity change in the polymer. The polymer is rendered soluble in an aqueous base in the areas exposed to the imaging source.

公开(公告)号：HK1030992A1

公开(公告)日：2001-05-25

申请号：HK01101755

申请日：2001-03-12

Applicant: IBM ,  SUMITOMO BAKELITE CO

Inventor： GOODALL BRIAN L ,  JAYARAMAN IKUMAR ,  SHICK ROBERT A ,  RHODES LARRY F ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  PIETRO RICHARD ANTHONY DI ,  WALLOW THOMAS

IPC: G03F20060101 ,  G03F7/004 ,  C08F2/46 ,  C08F32/00 ,  C08G61/08 ,  G03C1/72 ,  G03F7/039

Abstract: The present invention relates to a radiation sensitive photoresist composition comprising a photoacid initiator and a polycyclic polymer comprising repeating units that contain pendant acid labile groups. Upon exposure to an imaging radiation source the photoacid initiator generates an acid which cleaves the pendant acid labile groups effecting a polarity change in the polymer. The polymer is rendered soluble in an aqueous base in the areas exposed to the imaging source.

公开(公告)号：DE69120858D1

公开(公告)日：1996-08-22

申请号：DE69120858

申请日：1991-04-16

Applicant: IBM

Inventor： ALLEN ROBERT DAVID ,  WALLRAFF GREGORY MICHAEL ,  SIMPSON LOGAN LLOYD ,  HINSBERG WILLIAM DINAN III

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  C08L33/06