Halbleiter-Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines Halbleiter-Bauelements und damit hergestelltes Halbleiter-Bauelement

    公开(公告)号:DE102009040632B4

    公开(公告)日:2017-11-16

    申请号:DE102009040632

    申请日:2009-09-08

    Abstract: Verfahren zum Herstellen eines Halbleiter-Bauelements, umfassend: Bereitstellen eines Metallträgers (1); Bereitstellen eines Halbleiterchips (2); Aussetzen mindestens eines des Metallträgers (1) und des Halbleiterchips (2) einer metallionenhaltigen Flüssigkeit und somit Herstellen einer porösen Schicht (3) an einer Oberfläche mindestens eines des Metallträgers (1) und des Halbleiterchips (2); Anlegen einer Spannung zwischen der metallionenhaltigen Flüssigkeit und mindestens eines des Metallträgers (1) und Halbleiterchips (2); Platzieren des Halbleiterchips (2) auf dem Metallträger (1), so dass die poröse Schicht (3) eine Zwischenschicht zwischen dem Metallträger (1) und dem Halbleiterchip (2) bildet und mit beiden direkt verbunden ist; und Erhitzen des Metallträgers (1) und des Halbleiterchips (2), bis der Halbleiterchip (2) an dem Metallträger (1) angebracht ist.

    17.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE10124141A1

    公开(公告)日:2002-04-11

    申请号:DE10124141

    申请日:2001-05-17

    Abstract: The aim of the invention is to take up the smallest amount of space possible while effecting the thermomechanical release in tension at the junction between a circuit unit (2) and contact device (4) of a circuit (1), said junction being provided by means of the connecting device (10). To this end, the connecting device (10) is essentially provided as a prefabricated metallic or alloy region in the area of the circuit unit (2) and in the area of the contact device (4) while avoiding, to the greatest possible extent, the use of adhesive elements and solder elements.

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