公开(公告)号：KR1020090131641A

公开(公告)日：2009-12-29

申请号：KR1020090049421

申请日：2009-06-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모우리노부히코 ,  다나카사토루

IPC: B08B7/04 ,  B08B1/04 ,  B08B3/04 ,  H01L21/304

CPC classification number: B08B3/04 ,  A46B9/005 ,  A46B13/02 ,  B08B1/04

Abstract: PURPOSE: Substrate cleaning apparatus and method and a storage medium are provided, which make a substrate washed effectively by changing the shape of a brush according to the sticking state of material. CONSTITUTION: A substrate cleaning apparatus(1) comprises a spin chuck(3), a motor(4), a cleaning solution feeding unit(10), and a cleaning unit(20). The spin chuck keeps the substrate to be possible to rotate. The motor rotates the substrate maintained by the spin chuck. The brush comes into contact with at least end face of the substrate in washing, is made of sponge type resin, and washes the end face of the substrate while being compacted by a brush compression device.

Abstract translation: 目的：提供基板清洁装置和方法以及存储介质，其通过根据材料的粘附状态改变刷子的形状来有效地洗涤基板。 构成：基材清洗装置（1）包括旋转卡盘（3），马达（4），清洗液供给单元（10）和清洁单元（20）。 旋转卡盘保持基板可以旋转。 电机旋转由旋转卡盘保持的基板。 刷子在洗涤时与基板的至少端面接触，由海绵型树脂制成，并且在用刷压装置压实的同时洗涤基板的端面。

公开(公告)号：KR100766844B1

公开(公告)日：2007-10-17

申请号：KR1020067012237

申请日：2005-10-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오리이다케히코 ,  세키구치겐지 ,  우치다노리타카 ,  다나카사토루 ,  오노히로키

IPC: H01L21/304

CPC classification number: F26B5/005 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708

Abstract: 본 발명에 의한 기판 처리 장치는 기판(W)을 유지하여 이를 회전시키는 스핀척(3)을 구비한다. 스핀척에 의해 회전되는 기판에 대하여 처리액을 공급하는 처리액 공급 시스템(11,…)이 마련된다. 또한, 기판에 대하여, 처리액보다도 휘발성이 높은 건조용 유체를 공급하는 유체 노즐(12)과, 기판에 대하여 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 노즐(13)이 마련된다. 불활성 가스 노즐이 유체 노즐보다도 기판의 회전 중심(P
o )에 가까워지도록 유지하면서, 이들의 노즐(12, 13)을 기판의 회전 중심에 대하여 반경 방향 외측으로 향해 이동시키는 노즐 이동 기구(15, 52,…)가 마련된다.

Abstract translation: 根据本发明的基板处理装置包括一个旋转卡盘（3），用于旋转它用于保持衬底（W）。 设置处理液供给系统，用于供给处理溶液由旋转卡盘（11，...）旋转的基板。 另外，相对于该衬底，流体喷嘴12，用于供给惰性气体到衬底比所述高挥发性为它提供液体供给干燥流体来处理惰性气体喷嘴13。 基板除了惰性气体喷嘴的旋转中心是流体喷嘴（P

公开(公告)号：KR102012355B1

公开(公告)日：2019-08-20

申请号：KR1020190007532

申请日：2019-01-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미테루오미 ,  다나카사토루 ,  나가마츠타츠야 ,  스즈키히로유키 ,  가와부치요스케 ,  히라야마츠카사 ,  마츠키카츠후미

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687

公开(公告)号：KR101942447B1

公开(公告)日：2019-01-25

申请号：KR1020120137045

申请日：2012-11-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미테루오미 ,  다나카사토루 ,  나가마츠타츠야 ,  스즈키히로유키 ,  가와부치요스케 ,  히라야마츠카사 ,  마츠키카츠후미

IPC: H01L21/302

公开(公告)号：KR101864001B1

公开(公告)日：2018-06-01

申请号：KR1020160016384

申请日：2016-02-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카사토루 ,  오리이다케히코 ,  마루야마히로타카 ,  미나미데루오미 ,  나카모리미츠노리

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은휘발성을갖는건조액을이용하여기판을건조시킬때에, 기판표면에워터마크가발생하여미세한파티클이부착되는것을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판을처리액으로액처리한후에휘발성처리액으로건조처리하는기판처리방법및 기판처리장치에있어서, 상기기판에처리액을공급하여처리하는공정과, 상기처리액의액막이형성된상기기판을가열하는공정과, 상기처리액의액막이형성된기판에휘발성처리액을공급하는공정과, 상기기판에의상기휘발성처리액의공급을정지하는공정과, 상기휘발성처리액을제거하여기판을건조하는공정을가지며, 상기기판을가열하는공정은상기휘발성처리액을공급하는공정보다이전에시작되고, 상기기판의표면이상기휘발성처리액에노출되는것보다이전에, 상기기판의표면온도가노점온도보다높아지도록상기기판이가열되는것으로하였다.

公开(公告)号：KR1020140065343A

公开(公告)日：2014-05-29

申请号：KR1020130140482

申请日：2013-11-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아이우라카즈히로 ,  이토노리히로 ,  나카오히데토시 ,  시노하라카즈요시 ,  다나카사토루 ,  요시다유우키 ,  아이바라메이토쿠

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/68735

Abstract: A substrate processing device prevents mist of a processing solution scattered from a wafer from returning to the wafer. The substrate processing device includes a rotary cup (20) surrounding a substrate (W) held in a substrate holding part (10), rotating with the substrate holding part, and guiding the processing solution scattered from the rotating substrate and a spinless outer cup (31) installed having a gap around the rotary cup and an inner space receiving the processing solution guided by the rotary cup. The height of the top of the rotary cup is higher than the height of the top of the outer cup. An outer protrusion (20c), extended in a circumferential direction and protruding toward an outer side of a radius direction of the rotary cup, is installed on an upper part of an outer surface of the rotary cup. The outer protrusion blocks the mist of the processing solution spattered from the gap of the outer cup to an upper part of the substrate.

Abstract translation: 基板处理装置防止从晶片散射的处理溶液的雾返回到晶片。 基板处理装置包括旋转杯（20），其包围保持在基板保持部（10）中的基板（W），与基板保持部旋转，并且引导从旋转基板散射的处理液和无旋转外杯 31），其具有围绕旋转杯的间隙和容纳由旋转杯引导的处理溶液的内部空间。 旋转杯顶部的高度高于外杯顶部的高度。 在旋转杯的外表面的上部安装有沿圆周方向延伸并朝向旋转杯的半径方向的外侧突出的外突出部（20c）。 外部突起阻挡从外杯的间隙溅射到基底的上部的处理溶液的雾。

公开(公告)号：KR1020120088639A

公开(公告)日：2012-08-08

申请号：KR1020120077737

申请日：2012-07-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모우리노부히코 ,  다나카사토루

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/04 ,  B08B1/02

CPC classification number: B08B3/04 ,  A46B9/005 ,  A46B13/02 ,  B08B1/04

Abstract: PURPOSE: A substrate cleaning apparatus, a substrate cleaning method and a storage medium are provided to improve detergency by varying a compressive force of a brush during cleaning. CONSTITUTION: A substrate rotation apparatus rotates a substrate supported by a substrate supporting apparatus. A cleaning-liquid supply apparatus(10) supplies a cleaning liquid to the substrate. A cleaning apparatus(20) includes a brush(21) comprising a sponge-like resin. A brush compressing apparatus compresses the brush. A control part(30) controls the cleaning by varying a compressive force applied to the brush.

Abstract translation: 目的：提供基板清洗装置，基板清洗方法和存储介质，以通过改变清洁期间刷子的压缩力来改善洗涤力。 构成：基板旋转装置旋转由基板支撑装置支撑的基板。 清洗液供给装置（10）向基板供给清洗液。 清洁装置（20）包括包括海绵状树脂的刷子（21）。 刷压缩装置压缩刷子。 控制部件（30）通过改变施加到刷子的压缩力来控制清洁。