公开(公告)号：KR100814576B1

公开(公告)日：2008-03-17

申请号：KR1020020025467

申请日：2002-05-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오

IPC: G02F1/13

Abstract: 반송장치로 기판(G)을 반송시킬 때, 반송롤러 상의 기판 양단을 가압롤러에 의해 가압시키면서 반송하고 있기 때문에, 기판 양단과 반송롤러의 사이에서의 미끄러짐을 방지할 수 있어 반송시간의 지연이나 파티클의 발생을 방지할 수 있다. 또한 반송롤러의 재치부(載置部)의 지름보다도 큰 지름을 구비하는 지지롤러를 설치하여 기판을 산 모양 형태로 반송시킴으로써 기판의 휘어짐을 방지할 수 있다. 특히, 반송 도중에 있어서 현상액(現像液)이나 린스액 등의 처리액이 기판의 중앙부근에 잔류하는 문제를 해소할 수 있어 건조처리를 확실하게 할 수 있다.

公开(公告)号：KR100693563B1

公开(公告)日：2007-03-14

申请号：KR1020010013342

申请日：2001-03-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: H01L21/027

Abstract: 기판을 재치면에 근접시키거나 재치하여 기판을 가열하여 처리하는 가열 플레이트를 구비하는 가열처리장치에 있어서, 가열 플레이트의 재치면상에서 기판을 승강시키는 승강핀이 가열 플레이트를 관통하도록 설치되어 있다. 승강핀은 그 선단부분의 외경이 몸체부분의 외경보다 작은 구조로 한다. 이에 따라 이들 각종 기판으로의 전사의 발생을 방지할 수 있다.

Abstract translation: 在具有加热板由衬底载置面接近加热到或放置在基板上以处理热处理装置，用于加热板的安装表面上提起衬底升降销被安装成穿过所述加热板。 升降销具有前端部的外径小于主体部的外径的结构。 因此，可以防止发生向这些各种基板的转印。

公开(公告)号：KR100508575B1

公开(公告)日：2005-10-21

申请号：KR1019970048207

申请日：1997-09-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쯔히로 ,  쯔가모또다게시 ,  혼다요이찌 ,  야마구찌기요미쯔 ,  모또다기미오 ,  마쯔다요시다가 ,  사다데쯔야 ,  다테야마기요히사 ,  사또후미오

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 물체가 처리되는 경우 외부로 유동하거나 외부로 비산하는 처리액을 회수하기 위한 용기와, 세정액을 상기 용기내로 공급함으로써 용기의 내부 벽 표면을 세정하기 위한 세정 수단과, 용기의 내부 벽 표면이 세정 수단에 의해 세정되는 경우 용기로부터 배출된 액체를 회수하고, 회수된 액체를 세정 수단으로 공급하기 위한 순환 시스템을 포함하는 처리 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1020040036610A

公开(公告)日：2004-04-30

申请号：KR1020030074140

申请日：2003-10-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  이와사키다쓰야

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A substrate alignment apparatus, a substrate treatment apparatus and a substrate transfer apparatus are provided to align safely and exactly a substrate to be treated without damage of the substrate by floating substantially the substrate from a support pin using a horn-like gas discharge part. CONSTITUTION: A substrate alignment apparatus includes a plurality of supporters, a horn-like gas discharge part, a position determining part and a support pin. The plurality of supporters(114) are discretely arranged to support a substrate to be treated(G) in a nearly horizontal state. The horn-like gas discharge part(110) is installed on each supporter to float substantially the substrate. The position determining part is used for aligning exactly the substrate. The support pin(108) is surrounded by the gas discharge part on the supporter to load finally the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种基板对准装置，基板处理装置和基板转印装置，用于使基板处理不会损坏基板，使基板从支撑销上大致漂浮，使用喇叭状气体放电部 。 构成：衬底对准装置包括多个支撑器，喇叭状气体放电部，位置确定部和支撑销。 多个支撑体（114）被离散地布置成在几乎水平的状态下支撑待处理基板（G）。 角状气体排出部（110）安装在每个支撑件上以基本上浮动地衬底。 位置确定部分用于精确对准衬底。 支撑销（108）被支撑件上的气体排出部分包围以最终加载基板。

公开(公告)号：KR100355180B1

公开(公告)日：2003-04-11

申请号：KR1019980003542

申请日：1998-02-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/26

CPC classification number: B01D53/22

Abstract: A deaerating apparatus is disclosed. The deaerating apparatus can sufficiently remove gases contained in resist solution, developing solution, solvent, and so forth. The deaerating apparatus comprises at least one liquid flow path for allowing the liquid to flow, at least one gas flow path, disposed adjacent to the liquid flow path, for allowing the gas to flow, at least one film member, disposed between the liquid flow path and the gas flow path, for allowing the gas contained in the liquid to permeate, and an exhausting apparatus for exhausting the gas from the gas flow path. While a liquid is being flowed in the liquid flow path, when the exhausting unit is operated, the gas contained in the liquid that flows in the liquid flow path permeates to the film member. The gas is exhausted through the gas flow path.

Abstract translation: 公开了一种脱气装置。 脱气装置可以充分去除抗蚀剂溶液，显影液，溶剂等中含有的气体。 该脱气设备包括至少一个液体流动路径，用于允许液体流动，至少一个气体流动路径，设置在液体流动路径附近，用于允许气体流动;至少一个薄膜构件，设置在液体流动 用于使液体中含有的气体透过的气体流路和气体流路，以及用于从气体流路排出气体的排气装置。 当液体在液体流路中流动时，当排气单元运行时，液体流动路径中流动的液体中所含的气体渗透到膜元件中。 气体通过气体流路排出。

公开(公告)号：KR1020020082761A

公开(公告)日：2002-10-31

申请号：KR1020020021907

申请日：2002-04-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1303 ,  B05C9/10 ,  B05C9/14 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

Abstract: PURPOSE: To provide treatment equipment having a plurality of treatment units wherein both high throughput and small foot print can be obtained without causing a problem on equipment constitution, and the length of the equipment can be reduced comparatively. CONSTITUTION: This treatment equipment is provided with liquid treatment units 21, 23, 24 wherein a prescribed liquid treatment is performed while a substrate G is transferred in almost horizontally, thermal treatment unit sections 26, 27, 28 wherein a plurality of thermal treatment units are collectively installed which units are arranged corresponding to the respective liquid treatment units 21, 23, 24 and perform a prescribed thermal treatment after each liquid treatment, and a plurality of transferring apparatuses 33, 37, 40 which transfer the substrate G carried out from the liquid treatment units 21, 23, 24 to the respective thermal treatment unit sections. The liquid treatment units 21, 23, 24 and the thermal treatment unit sections 26, 27, 28 are arranged substantially in the order of treatment and in two substantial rows 2a, 2b at a prescribed interval. At least, a part of the thermal treatment units is arranged between the two rows.

Abstract translation: 目的：提供具有多个治疗单元的治疗设备，其中可以获得高通量和小脚印两者，而不会引起设备构造问题，并且可以相对地减少设备的长度。 构成：该处理设备设有液体处理单元21,23,24，其中在将基板G几乎水平地传送到热处理单元部分26,27,28中进行规定的液体处理，其中多个热处理单元为 集体安装哪些单元对应于各个液体处理单元21,23,24排列并且在每个液体处理之后进行规定的热处理，以及多个转移装置33,37,40，其将从液体中进行的基板G 处理单元21,23,24分配给相应的热处理单元部分。 液体处理单元21,23,24和热处理单元部分26,27,28基本上按照处理的顺序排列，并且以规定的间隔布置在两条实质的行2a，2b中。 至少，热处理单元的一部分布置在两排之间。

公开(公告)号：KR1020010020943A

公开(公告)日：2001-03-15

申请号：KR1020000030315

申请日：2000-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와사키다쓰야 ,  아나이노리유키 ,  다테야마기요히사 ,  오타요시하루 ,  아라키신이치로 ,  이와쓰하루오

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: Provided is a substrate conveyor that can accommodate to both so to say transverse-feed and longitudinal-feel processors. CONSTITUTION: A substrate holding member has a first or wide holding part(55,56) that has opposite side walls(55a,56a) spaced at an interval corresponding to the length of the long sides of substrates and that can hold the substrates when their long sides extend in the direction of opposition of the side walls(55a,56a) and a second holding part(57,58) narrower than the first holding part(55,56), which has opposite side walls or steps(53a,54a) spaced at an interval according to the length of the shorter side of the substrates and that can hold the substrates when their shorter sides extend in the direction of opposition of the steps(53a,54a). For a conveyance-associated processor of a transverse-food type, substrate orientation control means position a glass substrate over the holding member and turn it to set one of its long sides in opposition to the inlet or outlet opening of the processor and lowers it.

Abstract translation: 目的：提供可以适应于横向进给和纵向处理器的基底输送机。 构成：衬底保持构件具有第一或宽保持部分（55,56），其具有以对应于衬底的长边长度的间隔隔开的相对侧壁（55a，56a），并且当它们 长边相对于侧壁（55a，56a）相对的方向延伸，第二保持部（57,58）比第一保持部（55,56）窄，其具有相对的侧壁或台阶（53a，54a） ），其间隔根据基板的短边的长度间隔开，并且当基板的短边在台阶（53a，54a）的相反方向上延伸时可以保持基板。 对于横向食品类型的与输送相关的处理器，基板取向控制装置将玻璃基板定位在保持构件上方并将其设置成与处理器的入口或出口相对设置的一个长边并将其降低。

公开(公告)号：KR1020000047577A

公开(公告)日：2000-07-25

申请号：KR1019990047896

申请日：1999-11-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: An apparatus for removing a thin film is provided to remove useless thin film covering the edge of the surface of the substrate by injecting solution on the edge. CONSTITUTION: An apparatus for removing a thin film includes a solution extractor(63,64), a solution delayer(65), an emission hole(67), and a solution supplier(71,73). The solution extractor(63,64) is aligned with the edge of the surface of the substrate. The solution delayer(65) is implemented in the solution extractor to delay the solution. The emission hole(67) is aligned with the solution delayer by opening toward the edge of the solution extractor. The solution supplier(71,73) according to the present invention supplies the solution in the solution delayer with a predetermined pressure. The solution is extracted from the emission hole to remove the useless thin film which covers the edge of the surface of the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种去除薄膜的设备，通过将溶液注入边缘来除去覆盖基片表面边缘的无用薄膜。 构成：用于除去薄膜的装置包括溶液提取器（63,64），溶液延迟器（65），排放孔（67）和溶液供应器（71,73）。 溶液提取器（63,64）与衬底表面的边缘对齐。 溶液延迟器（65）在解决方案提取器中实现以延迟解决方案。 发射孔（67）通过向溶液提取器的边缘开口而与溶液延迟器对齐。 根据本发明的解决方案供应商（71,73）以预定压力将解决方案提供给解决方案延迟器。 从排放孔抽出溶液以除去覆盖基材表面边缘的无用薄膜。

公开(公告)号：KR100217291B1

公开(公告)日：1999-09-01

申请号：KR1019960011922

申请日：1996-04-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쓰히로 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

CPC classification number: G03F7/40 ,  B05C11/08 ,  G03F7/3021

Abstract: 기판처리방법은, LCD용 기판을 얹어놓는대 위에 얹어놓고, 이 얹어놓는대 위에 얹어놓인 기판의 적어도 한쪽면과의 사이에 클리어런스가 형성되도록 기판에 커버를 씌우고, 클리어런스에 처리액을 도입하여, 기판의 적어도 한쪽면에 처리액을 접촉시켜서, 처리액으로 기판을 처리하고, 커버를 기판으로 부터 떼어내고, 기판을 얹어놓는대로 부터 꺼낸다.

公开(公告)号：KR1019980071335A

公开(公告)日：1998-10-26

申请号：KR1019980004325

申请日：1998-02-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: B01D19/00

Abstract: 액체 중의 기체를 제거하는 탈기장치는, 탈기하여야 할 액체를 저장하는 회전가능한 액체용기와, 용기를 회전시키는 회전장치와, 용기 내로부터 기체를 흡인하는 흡인장치와, 용기 내의 액체를 송출하는 송출장치와, 액체용기에 액체를 도입하는 액체도입관과, 용기 내로부터 기체를 배출하는 기체배출관 및 용기 내의 액체를 송출하는 송출관을 가지고, 용기에 대하여 접근 및 이격이 가능하게 설치된 헤드부재를 구비한다. 액체용기와 헤드부재를 격리시킨 상태로 용기를 회전시켜서 액체 중의 기체를 용기의 중앙부에 모으고, 용기와 헤드부재를 반밀폐 상태로 하여서 용기 내의 기체를 흡인한다. 이에 의하여 레지스트액, 현상액, 용제 등의 액체 중에 존재하는 기체를 충분히 제거할 수 있다.