公开(公告)号：KR1020010041553A

公开(公告)日：2001-05-25

申请号：KR1020007009736

申请日：1999-02-16

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  아졸라제임즈에이치. ,  베샤우셀레헤르베에이. ,  다스팔라쉬피. ,  에르소브알렉산더아이. ,  주하스즈티보르 ,  네스리차드엠. ,  오자르스키로버트지. ,  파틀로웰리암엔. ,  로스웨일다니엘에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  유자즈도우스키리차드씨. ,  와트슨톰웨이 ,  포멘코프이고르브이.

IPC: H01S3/225

Abstract: 약 0.6pm이하의 대역폭을 가지고 1000Hz에서 10mJ 레이저 펄스를 생성할 수 있는 신뢰성있고 모듈화되고 생성력이 우수한 협대역 KrF 엑시머 레이저. 본 발명은 특히 집적회로의 리소그래피 제조에서의 장기간의 24 시간 연속동작에 적합하다. 종래 레이저보다 향상된 것은 단일 업스트림 예비전리기 튜브 및 음향 배플을 포함하는 것이다. 바람직한 실시예는 감소된 플루오르 농도, 블로워 베이링 상에 공기역학적 반작용력을 감소시키도록 형상화된 애노드 지지바, 빠른 펄스 상승 시간을 제공하는 변형된 펄스 전력 시스템, 실질적으로 증가된 반사율을 갖는 출력 커플러, CaF 프리즘 빔 익스팬더를 구비한 라인 협소화 모듈, 더욱 정확한 파장계, 새롭고 향상된 펄스 에너지 제어 알고리즘으로 프로그래밍된 레이저 컴퓨터 컨트롤러를 포함한다.

公开(公告)号：KR101038479B1

公开(公告)日：2011-06-02

申请号：KR1020047016139

申请日：2003-04-09

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 멜니츄크스티븐티. ,  파르틀로윌리암엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  올리버아이로저 ,  네스리차드엠. ,  보워링노버트 ,  코디킨올레 ,  레티그커티스엘. ,  브루멘스톡게리엠 ,  다이어티모시에스. ,  시몬스로드니디. ,  호프만저지알. ,  존슨알마크

IPC: H05H1/04 ,  H05H1/34 ,  G01J1/00

CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70916 ,  H01S3/005 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  H05H1/06

Abstract: 신뢰성있고, 고반복율을 갖는, 제조라인에 알맞는 고에너지 포톤 소스로서, 소망하는 극자외선(EUV) 파장 범위내의 방사 라인을 갖는 원자 엘리먼트를 함유하는 핫 플라즈마는 진공 펌프에서 산출된다. EUV 광원은 유닛은 스테퍼 머신과 같은 리소그래피에 직접적으로 통합된다. 통합된 부품들로는 부재 번호 120으로 표기된 것에 모두 나타난, 정류자, 고체-상태 펄스 파워 유닛의 압축 헤드 및 진공 베셀을 포함한다. 지원 장비는 지원 장비 캐비넷(122)에 위치되고, 러프 진공 펌프 및 고압 워터 펌프는 제3 캐비넷(124)에 위치된다. 상기 펄스 파워 유닛은 버스트 기준으로 20 와트를 초과하고 연속 기준으로 5 와트를 초과하는 비율로 EUV 광을 중간 포커스에 산출하기에 충분한 전위 및 충분한 에너지를 갖는 전기 펄스를 제공한다.
극자외선(EUV), 리소그래피, 펄스 파워, 핫 플라즈마, 활성 재료, 스퍼터링

公开(公告)号：KR101019471B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020057001756

申请日：2003-07-30

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 팔론존피. ,  룰존에이. ,  자끄로버트엔. ,  립콘자콥피. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  파르틀로윌리암엔. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  이시하라도시히코 ,  마이스너존 ,  네스리차드엠. ,  멜처폴씨.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/2333 ,  H01S3/036 ,  H01S3/134 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2366

Abstract: 본 발명은 모듈러 고 반복율 2 방전 챔버 자외선을 위한 제어 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예에서, 레이저는 제2 방전 챔버에서 증폭되는(12) 초 협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터(10)를 갖춘 제조 라인 머신이다. 2 챔버 가스 방전 레이저 시스템에 특별히 응용된 신규의 제어 특징은 (1) 나노초 타이밍 정밀도를 갖춘, 펄스 에너지 제어 (2) 고속 및 초고속 파장 튜닝을 갖춘 정밀한 펄스 투 펄스 파장 제어 (3) 고속 응답 가스 온도 제어 및 (4) 신규 인식 알고리즘을 갖춘 F
2 주입 제어를 포함한다.
방전, 챔버, 레이저, 가스, 파장, 빔

公开(公告)号：KR100863976B1

公开(公告)日：2008-10-16

申请号：KR1020037013203

申请日：2002-03-29

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 샌드스트롬리차드엘. ,  네스리차드엠. ,  파틀로윌리엄엔. ,  얼쇼프알렉산더아이. ,  온켈스에케하드디. ,  오중훈

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/105 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/08063 ,  H01S3/08068 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/10092 ,  H01S3/104 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2325 ,  H01S3/2366

Abstract: 본 발명은 2개의 레이저 서브시스템을 가지고 있는 협대역 레이저 시스템을 제공한다. 제1 레이저 서브시스템(시드 레이저)은 협대역 펄싱된 출력 빔을 생성하도록 협대역 펄싱된 시드 빔이 증폭되는 제2 레이저 서브시스템(슬레이브 오실레이터 또는 전력 증폭기)을 주입 시딩하는데 사용되는 초협대역 펄싱된 출력 빔을 제공한다. 펄스 전원(펄스 전력)은 방전이 적합하게 동기화되도록 2개의 레이저 서브시스템내의 방전을 정밀하게 타이밍한다. 레이저 가스는 헬륨, 네온, 또는 이들의 조합으로 구성된 완충 가스를 갖는 약 1% 미만의 부분 압력에서 F
2 를 포함한다. 출력 빔의 센터 파장의 제어는 제1 레이저 서브시스템에서, 전체 레이저 가스 압력, 헬륨 또는 네온의 상대적 농도, F
2 부분 압력, 레이저 가스 온도, 방전 전압 및 펄스 에너지의 파라미터중 하나 이상을 조정함으로써 제공된다.
레이저 시스템, 협대역, 마스터 오실레이터, 레이저 가스 압력, Ｆ₂부분 압력, 레이저 가스 온도, 방전 전압, 펄스 에너지

公开(公告)号：KR1020060025234A

公开(公告)日：2006-03-20

申请号：KR1020067003552

申请日：2002-10-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 어쇼프알렉산더아이. ,  네스리차드엠.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/0385 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2308 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: Feedback timing control equipment and process for an injection seeded modular gas discharge laser (11). A preferred embodiment is a system capable of producing high quality pulsed laser beams at pulse rates of about 4,000 Hz or greater and at pulse energies of about 5 to 10 mJ or greater for integrated outputs of about 20 to 40 Watts or greater. The feedback timing control is programmed to permit in some circumstances discharges timed so that no significant laser energy is output from the system. Use of this technique permits burst mode operation in which the first discharge of a burst is a no- output discharge so that timing parameters for each of the two chambers can be monitored before the first laser output pulse of the burst. Two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very narrow band seed beam which is amplified in the second discharge chamber. The chambers can be controlled separately permitting optimization of wavelength parameters in the master oscillator and optimization of pulse energy parameters in the amplifying chamber.

Abstract translation: 反馈定时控制设备和注射种子模块化气体放电激光器的工艺（11）。 优选的实施方案是能够以大约4,000Hz或更大的脉冲速率产生高质量脉冲激光束并且在约20至40瓦或更大的集成输出的脉冲能量为约5至10mJ或更大的系统。 反馈定时控制被编程为允许在某些情况下放电定时，使得不会从系统输出显着的激光能量。 使用这种技术允许突发模式操作，其中突发的第一次放电是无输出放电，使得可以在突发的第一激光输出脉冲之前监视两个室中的每一个的定时参数。 提供两个单独的放电室，其中之一是主振荡器的一部分，其产生在第二放电室中放大的非常窄的带状晶体束。 可以单独控制室，允许在主振荡器中优化波长参数并优化放大室中的脉冲能量参数。

公开(公告)号：KR1020040058350A

公开(公告)日：2004-07-03

申请号：KR1020047008173

申请日：2002-10-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 어쇼프알렉산더아이. ,  네스리차드엠.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/0385 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2308 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저(11)를 위한 피드백 타이밍 제어 장비 및 그 방법이 개시되었다. 바람직한 실시예는 20 내지 40 와트이상의 집적 출력을 위해 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5 내지 10 mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 시스템이다. 피드백 타이밍 제어는 어떠한 큰레이저 에너지도 시스템으로부터 출력되지 않도록 방전시간이 정해질 수 있도록 시간이 정해진다. 이러한 기술로 두 개의 챔버의 각각에 대한 타이밍 파라미터가 버스트의 제1 레이저 출력 펄스 이전에 모니터링될 수 있도록, 버스트의 제1 방전이 어떠한 출력 방전이 아닌 버스트 모드 동작이 될 수 있게 한다. 두 개의 방전챔버 가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다.

公开(公告)号：KR1020040032988A

公开(公告)日：2004-04-17

申请号：KR1020047003032

申请日：2002-08-19

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  릴로프저먼,이. ,  온켈스에커하드디. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지.

IPC: H01S3/10

CPC classification number: H01S3/2366 ,  G01J9/00 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템(2)이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는(12), 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터(10)의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영여으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬(10A)을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.

公开(公告)号：KR1020040032984A

公开(公告)日：2004-04-17

申请号：KR1020047002982

申请日：2002-08-28

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스플래쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  온켈스에커하드디. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지. ,  오이클레스제프리

IPC: H01S3/10

CPC classification number: G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.

Abstract translation: 一种注入式模块化气体放电激光系统，能够以大约4,000Hz或更高的脉冲速率和大约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量脉冲激光束。 提供了两个独立的放电室，其中一个是主振荡器的一部分，产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。 这些室可以分开控制，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 ArF准分子激光系统中的一个优选实施例被配置为MOPA并且被专门设计用作集成电路光刻的光源。 在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇，该单个切向风扇提供足够的气流以允许通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更少的时间内清除来自放电区域的碎片而以4000Hz或更大的脉冲速率进行操作。 主振荡器配备有线变窄的封装，该封装具有非常快速的调谐反射镜，其能够以4000Hz或更高的重复率以脉冲至脉冲的方式控制中心线波长，精度低于0.2μm。

公开(公告)号：KR1020030088128A

公开(公告)日：2003-11-17

申请号：KR1020037013203

申请日：2002-03-29

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 샌드스트롬리차드엘. ,  네스리차드엠. ,  파틀로윌리엄엔. ,  얼쇼프알렉산더아이. ,  온켈스에케하드디. ,  오중훈

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/105 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/08063 ,  H01S3/08068 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/10092 ,  H01S3/104 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2325 ,  H01S3/2366

Abstract: 본 발명은 2개의 레이저 서브시스템을 가지고 있는 협대역 레이저 시스템을 제공한다. 제1 레이저 서브시스템(시드 레이저)은 협대역 펄싱된 출력 빔을 생성하도록 협대역 펄싱된 시드 빔이 증폭되는 제2 레이저 서브시스템(슬레이브 오실레이터 또는 전력 증폭기)을 주입 시딩하는데 사용되는 초협대역 펄싱된 출력 빔을 제공한다. 펄스 전원(펄스 전력)은 방전이 적합하게 동기화되도록 2개의 레이저 서브시스템내의 방전을 정밀하게 타이밍한다. 레이저 가스는 헬륨, 네온, 또는 이들의 조합으로 구성된 완충 가스를 갖는 약 1% 미만의 부분 압력에서 F
2 를 포함한다. 출력 빔의 센터 파장의 제어는 제1 레이저 서브시스템에서, 전체 레이저 가스 압력, 헬륨 또는 네온의 상대적 농도, F
2 부분 압력, 레이저 가스 온도, 방전 전압 및 펄스 에너지의 파라미터중 하나 이상을 조정함으로써 제공된다.