公开(公告)号：KR1020080073617A

公开(公告)日：2008-08-11

申请号：KR1020070034544

申请日：2007-04-09

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이내응 ,  김주환 ,  설영국

IPC: C23C18/16 ,  C23C18/54

Abstract: A method for forming a fine metal wiring on a flexible substrate by selective electroless plating is provided to form the metal wiring, using a plasma surface process or the electroless plating so as to improve bonding ability between an organic substrate and the metal wiring and to form the metal wiring selectively. A method for forming a fine metal wiring(5) on a flexible organic substrate(1) by selective electroless plating comprises the steps of; providing the flexible organic substrate; forming a photosensitive insulator(3) on the substrate; patterning the photosensitive insulator, using an optical mask having a pattern(13); processing a plasma surface on one surface of the substrate(14); transferring an adsorption preventing film of a catalyst on the photosensitive insulator selectively; and forming the metal wiring, using an electroless plating or electroplating process. An inorganic thin film(12) is formed on the substrate.

Abstract translation: 提供通过选择性化学镀在柔性基板上形成精细金属布线的方法，以使用等离子体表面处理或无电解电镀形成金属布线，从而提高有机基板与金属布线之间的接合能力，形成 选择性地选择金属布线。 通过选择性无电镀在柔性有机基板（1）上形成精细金属布线（5）的方法包括以下步骤： 提供柔性有机基材; 在基板上形成感光绝缘体（3）; 使用具有图案（13）的光学掩模来图案化感光绝缘体; 在衬底（14）的一个表面上处理等离子体表面; 选择性地在感光绝缘体上转移催化剂的吸附防止膜; 并使用化学镀或电镀工艺形成金属布线。 在基板上形成无机薄膜（12）。

公开(公告)号：KR101974579B1

公开(公告)日：2019-08-26

申请号：KR1020120098486

申请日：2012-09-05

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  성균관대학교산학협력단

Inventor： 전상훈 ,  박종진 ,  뉘엔탄티엔 ,  배지현 ,  변경은 ,  이내응 ,  김도일 ,  트란쾅트룽

IPC: G01L9/06 ,  H01L29/84

公开(公告)号：KR101837827B1

公开(公告)日：2018-03-13

申请号：KR1020160028630

申请日：2016-03-10

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이내응 ,  사잘쉬리바스타바 ,  이원일 ,  손영민

IPC: G01N33/58 ,  G01N33/52 ,  G01N33/53 ,  C12N15/115 ,  C30B29/16 ,  C30B19/12

Abstract: 생화학분자검출장치가개시된다. 생화학분자검출장치는기판; 상기기판에고정되고, 상기기판으로부터수직하게성장되어있는하나이상의나노구조물; 및상기나노구조물표면에고정되고, 생화학분자와선택적으로결합할수 있으며, 형광을발생하는형광염색약이인터칼레이팅(intercalating)되어있는하나이상의이중나선 DNA을포함하는압타머복합체를포함하고, 상기압타머복합체와반응하는상기생화학분자의양이증가할수록상기형광은줄어들수 있다.

公开(公告)号：KR101797874B1

公开(公告)日：2017-11-15

申请号：KR1020160128528

申请日：2016-10-05

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이내응 ,  르타이유이 ,  정동준 ,  윤승균 ,  황병웅

IPC: G01N27/407 ,  G01N27/411

CPC classification number: G01N27/4071 ,  G01N27/4075 ,  G01N27/4115

Abstract: 본발명은전기적감지및 광학적감지가동시에가능한유해가스감지센서및 이의제조방법에관한것이다. 본발명은환원된산화그래핀(R-GO)과브로모페놀블루(BPB)를이용하여유해가스의전기적검출과광학적검출이동시에가능한고성능의가스감지센서에관한것이다.

公开(公告)号：KR1020170049073A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：KR1020150149985

申请日：2015-10-28

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이내응 ,  손일융 ,  김보영 ,  손영민 ,  이원일

IPC: G01N27/414 ,  B82B3/00 ,  B82Y15/00 ,  B82Y30/00

Abstract: 전계효과트랜지스터형바이오센서어레이제조방법이개시된다. 전계효과트랜지스터형바이오센서어레이제조방법은기판상에 2차원나노재료로이루어진채널층을배치하는단계; 상기채널층상에희생층을배치하는단계; 상기희생층상에제1 포토레지스트를배치하고상기제1 포토레지스트를노광하여제1 패턴을형성하는단계; 패터닝된상기제1 포토레지스트를마스크로이용하고상기채널층및 상기희생층을식각하여상기기판상에상기제1 패턴에대응하는복수개의나노재료구조체들을형성하는단계; 상기복수개의나노재료구조체들상에제2 포토레지스트를배치하고상기제2 포토레지스트를노광하여제2 패턴을형성하는단계; 패터닝된상기제2 포토레지스트를마스크로이용하고상기복수개의나노재료구조체의희생층을식각하여상기복수개의나노재료구조체의채널층상에소스전극과드레인전극이각각형성될영역을형성하는단계; 상기복수개의나노재료구조체의채널층상에소스전극과드레인전극을각각형성하는단계; 상기기판, 상기소스전극및 상기드레인전극을각각보호하는보호층을배치하는단계; 및상기보호층을마스크로이용하고상기소스전극과상기드레인전극사이의채널층을노출시키는단계를포함한다.

Abstract translation: 公开了一种制造场效应晶体管型生物传感器阵列的方法。 一种制造场效应晶体管生物传感器阵列的方法包括：将由二维纳米材料制成的沟道层设置在衬底上; 在沟道层上设置牺牲层; 在牺牲层上设置第一光致抗蚀剂并暴露第一光致抗蚀剂以形成第一图案; 使用图案化的第一光致抗蚀剂作为掩模蚀刻沟道层和牺牲层，以在衬底上形成对应于第一图案的多个纳米材料结构; 在所述多个纳米材料结构上布置第二光致抗蚀剂并暴露所述第二光致抗蚀剂以形成第二图案; 利用图案化的第二光致抗蚀剂作为掩模，和形成的区域在所述源电极和由牺牲层蚀刻到所述多个所述多个纳米材料结构的纳米材料结构中的沟道层的漏极电极上形成; 在所述多个纳米材料结构的沟道层上分别形成源电极和漏电极; 设置分别用于保护衬底，源电极和漏电极的保护层; 并且使用保护层作为掩模在源电极和漏电极之间暴露沟道层。

公开(公告)号：KR101611133B1

公开(公告)日：2016-04-08

申请号：KR1020150068919

申请日：2015-05-18

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이내응 ,  르타이유이 ,  김덕진 ,  김진수

IPC: G01N27/407 ,  B82B1/00 ,  B82B3/00

Abstract: 3차원구조의가스센서가개시된다. 3차원구조의가스센서는기판; 상기기판으로부터수직한방향을따라상기기판상에형성된복수개의구조물들; 상기복수개의구조물들의표면및 상기복수개의구조물들이형성되어있지않은기판상의일부또는전부에형성된제1 접착층; 상기제1 접착층상에형성된제2 접착층; 상기제2 접착층상에형성된채널층; 상기채널층표면에형성된복수개의금속산화물구조체들; 상기기판상에형성되고상기채널층과전기적으로연결된제1 전극; 및상기기판상에상기제1 전극과이격된상태로상기채널층과전기적으로연결된제2 전극을포함한다.

Abstract translation: 公开了具有三维结构的气体传感器。 具有三维结构的气体传感器可以敏感地感测预定的有毒气体并且可以扩大附着有气体分子的表面积。 具有三维结构的气体传感器包括：基板; 在与衬底垂直的方向上形成在衬底上的多个结构; 形成在其上没有形成结构的基板的一部分或全部的结构的表面上的第一粘附层; 形成在第一粘合层上的第二粘附层; 形成在第二粘合层上的沟道层; 形成在沟道层表面上的多个金属氧化物结构; 形成在所述基板上并电连接到所述沟道层的第一电极; 以及第二电极，与所述沟道层电连接，同时与所述衬底上的所述第一电极分离。

公开(公告)号：KR101359735B1

公开(公告)日：2014-02-11

申请号：KR1020120006934

申请日：2012-01-20

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이내응 ,  응우옌뜨엉투이 ,  김덕진 ,  윤옥자

IPC: G01N27/414 ,  G01N33/48 ,  G01N27/333

CPC classification number: G01N27/414

Abstract: 본 발명은 전해질의 다양한 이온 농도를 선택적으로 측정할 수 있고, 동시에 투명하게 제조됨으로써 광학적 측정이 가능하여 셀의 거동현상도 측정이 가능하며, 용액에 의한 이온 감지부의 열화를 방지하기 위해 이온 감지부가 트랜지스터의 채널부로부터 연장된 게이트 전극 상에 위치하도록 구성되어 내구성이 향상된 전계효과 트랜지스터형 신호변환기를 이용한 투명성 이온 감지 센서칩 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1020120090380A

公开(公告)日：2012-08-17

申请号：KR1020110010760

申请日：2011-02-07

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이내응 ,  설영국 ,  허욱

IPC: H01L51/40 ,  H01L51/30

CPC classification number: H01L51/107 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02178 ,  H01L21/022 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0228

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a multilayer sealing film and a method for manufacturing a flexible organic semiconductor device using the same are provided to improve flexibility by mixing plasma enhanced chemical vapor deposition method and a atomic layer deposition method. CONSTITUTION: An organic layer(60) is evaporated to a thin film with a plasma enhanced chemical vapor deposition method. The material of the organic layer is methyl cyclohexane, hexafluoropropylene, fluorocarbon or poly tetra-fluro ethylene. An inorganic layer(70) is evaporated to a thin film with an atomic layer deposition method. The material of the inorganic layer is selected in a group consisting of Al2O3, SiO2, Si3N4, TiO2, and Ta2O5. The thickness of the inorganic layer is less than or equal to 200nm.

Abstract translation: 目的：提供一种多层密封膜的制造方法和使用其的柔性有机半导体器件的制造方法，其通过混合等离子体增强化学气相沉积法和原子层沉积法来提高柔性。 构成：用等离子体增强化学气相沉积法将有机层（60）蒸发成薄膜。 有机层的材料是甲基环己烷，六氟丙烯，碳氟化合物或聚四氟乙烯。 用原子层沉积法将无机层（70）蒸发成薄膜。 无机层的材料选自由Al2O3，SiO2，Si3N4，TiO2和Ta2O5组成的组。 无机层的厚度小于或等于200nm。

公开(公告)号：KR101127075B1

公开(公告)日：2012-03-23

申请号：KR1020080051011

申请日：2008-05-30

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이내응 ,  김덕진

IPC: G01N33/48

Abstract: 본 발명은 바이오물질 패턴 형성방법에 관한 것으로, 본 발명에 의한 바이오물질 패턴 형성방법은, 기재 표면에 잉크젯 프린팅 방법을 이용하여 자기조립 단분자층 패턴을 형성하는 단계; 상기 기재 표면에 형성된 자기조립 단분자층 패턴에 바이오물질 고정화 링커를 형성하는 단계; 및 상기 바이오물질 고정화 링커에 바이오물질을 고정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 잉크젯 프린팅 방법으로 자기조립 단분자층 패턴을 형성함으로써 간단한 공정으로 자기조립 단분자층 패턴을 형성할 수 있어 바이오물질 패턴의 형성 공정이나 바이오센서의 제조 공정이 매우 간단하고 빠르게 이루어지는 효과가 있다.
자기조립 단분자층, 바이오센서, 바이오물질 패턴, 잉크젯 프린팅

公开(公告)号：KR1020110123631A

公开(公告)日：2011-11-15

申请号：KR1020100043224

申请日：2010-05-07

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이내응 ,  문학기

IPC: C23C16/06 ,  C23C16/513 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/452 ,  C23C16/06

Abstract: PURPOSE: A method of formation to copper alloys using plasma-enhanced chemical vapor deposition is provided to simultaneously evaporate copper and alloying elements by restricting abnormal reaction between the alloying elements and copper. CONSTITUTION: A method of formation to copper alloys using plasma-enhanced chemical vapor deposition comprises next steps. An evaporation object is included in a chamber(100). Each one end of first and second nozzles(310,320) is connected with first and second precursor supplying devices. The copper precursor and alloying element precursor are supplied into the chamber. Plasma is generated outside of the chamber. The alloying element precursor comprises aluminum precursor. Carrying gas, transporting the precursor, comprises hydrogen.

Abstract translation: 目的：提供使用等离子体增强化学气相沉积法形成铜合金的方法，通过限制合金元素和铜之间的异常反应来同时蒸发铜和合金元素。 构成：使用等离子体增强化学气相沉积法形成铜合金的方法包括以下步骤。 蒸发对象包括在腔室（100）中。 第一和第二喷嘴（310,320）的每一端与第一和第二前体供应装置连接。 将铜前体和合金元素前体供应到室中。 在室外产生等离子体。 合金元素前体包括铝前体。 运送前体的携带气体包括氢气。