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公开(公告)号：KR1020110067237A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：KR1020090123745
申请日：2009-12-14
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H02K21/12 , G03F7/18 , H02K7/09 , H02K16/00 , H02K41/031 , H02K2201/15 , H02K2201/18 , B05D7/00 , H01L21/67709
Abstract: PURPOSE: A coating apparatus for a cylindrical substrate using magnetic levitation is provided to perform thin coating with high accuracy over the area of the cylindrical structure by rotating a substrate fixing unit in contactless through magnetic levitation. CONSTITUTION: A base unit(20) comprises a coil assembly. The base unit supports a substrate fixing unit from a lower part without contacting it and is rotatable. A magnetic levitating type substrate fixing unit comprises a magnetism assembly(12) which is arranged on the coil assembly. A cylindrical substrate(1) is mounted in the magnetic levitating type substrate fixture A nozzle unit(30) ejects a coating solution through a nozzle on the surface of the cylindrical substrate which is magnetically levitated and rotated.
Abstract translation: 目的：提供一种使用磁悬浮的圆柱形基板的涂覆装置，通过磁悬浮将基板固定单元非接触地旋转而在圆柱形结构的区域上以高精度执行薄涂层。 构成：基座单元（20）包括线圈组件。 基座单元从下部支撑基板固定单元，而不与其接触并且是可旋转的。 磁悬浮型基板固定单元包括布置在线圈组件上的磁组件（12）。 圆筒状基板（1）安装在磁悬浮式基板固定装置（A）中。喷嘴单元（30）通过喷嘴喷射在圆柱形基板的磁悬浮和旋转的表面上。
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公开(公告)号：KR1020110061012A
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：KR1020090117520
申请日：2009-12-01
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H02K7/09 , G03F7/70716 , H02K21/12 , H02K41/031 , H02K2201/15 , H02K2201/18 , G03F7/707 , G03F7/70758
Abstract: PURPOSE: An electromagnetic holder device for an exposing device is provided to improve processing performance by decreasing the length of a mover by removing the chuck part of a magnetic levitation stage mover. CONSTITUTION: A rotating side electromagnet holder(16) is arranged on the upper side of a rotating side mover(11). A rotating side mover includes a rotating side permanent magnet(10). The rotating side electromagnet holder is comprised of a core(14a) and a coil(15a). The rotating side electromagnet holder controls the current to lift the rotating side mover and the transferring side mover up and down. The rotating side electromagnet holder includes a bracket(18a) which connects a core to a transfer stage.
Abstract translation: 目的：提供一种用于曝光装置的电磁保持器装置，通过移除磁悬浮载物台移动器的卡盘部分来减小移动器的长度来提高加工性能。 构成：旋转侧电磁铁支架（16）配置在旋转侧动子（11）的上侧。 旋转侧动子包括旋转侧永磁体（10）。 旋转侧电磁铁保持器由铁心（14a）和线圈（15a）构成。 旋转侧电磁铁支架控制电流，使旋转侧移动器和输送侧移动器上下移动。 旋转侧电磁铁保持器包括将铁心连接到转移台的托架（18a）。
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公开(公告)号：KR1020100007322A
公开(公告)日：2010-01-22
申请号：KR1020080067915
申请日：2008-07-14
Applicant: 한국전기연구원
CPC classification number: H01J37/3266 , H01J37/321 , H01J37/32706 , H01J37/32761 , H01J37/34
Abstract: PURPOSE: A method and chamber for inductively coupled plasma processing for cylindrical material with three-dimensional surface is provided to apply easily the cleaning, the etching, and the depositing and ion injection process. CONSTITUTION: The outer wall(102) of the vacuum chamber(100) is grounded. The outer wall is included of the electric conductor. The artifact support unit(104) is insulated from the outer wall of the vacuum chamber. One or more cylindrical artifacts(106) installs to the processed product supporting unit. The other end of the cylindrical processed product is connected through the terminal capacitor(110) to the outer RF power source. The gas jet electrode is located in the inner side of the outer wall. The gas jet electrode surrounds the processed product.
Abstract translation: 目的：提供用于具有三维表面的圆柱形材料的感应耦合等离子体处理的方法和室，以容易地进行清洁，蚀刻和沉积和离子注入过程。 构成：真空室（100）的外壁（102）接地。 外壁包括电导体。 伪像支撑单元（104）与真空室的外壁绝缘。 将一个或多个圆柱形伪像（106）安装到经处理的产品支撑单元。 圆柱形加工产品的另一端通过端子电容器（110）连接到外部RF电源。 气体喷射电极位于外壁的内侧。 气体喷射电极围绕加工的产品。
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公开(公告)号：KR1020100004756A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：KR1020080065102
申请日：2008-07-04
Applicant: 한국전기연구원
CPC classification number: G03F7/70825 , G03F7/24 , G03F7/703 , G03F7/707 , G03F7/70725 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , G03F7/70841 , G03F7/70858 , H02K7/09 , H02K16/00 , H02K21/12 , H02K41/031 , H02K2201/15 , H02K2201/18 , H02N15/00
Abstract: PURPOSE: A cylindrical magnetic levitation stage is provided to implement the integration of an apparatus through a high precision control by using magnetic levitation principle and controlling the rotation of the cylindrical substrate. CONSTITUTION: A first cylindrical substrate holder(11) and a second cylindrical substrate holder(12) are connected to both ends of a cylindrical substrate. A first permanent magnet is arranged on a first movable element(23), and a second permanent magnet is arranged on a second movable element(33). A first connector(13) interlinks the first movable element and the first cylindrical substrate holder. A second connector(14) interlinks the second movable element and the second cylindrical substrate holder.
Abstract translation: 目的：提供圆柱形磁悬浮台，通过使用磁悬浮原理和控制圆柱形基板的旋转，通过高精度控制实现设备的集成。 构成：第一圆柱形衬底保持器（11）和第二圆柱形衬底保持器（12）连接到圆柱形衬底的两端。 第一永久磁铁布置在第一可移动元件（23）上，第二永久磁铁布置在第二可移动元件（33）上。 第一连接器（13）将第一可移动元件和第一圆柱形基板支架互连。 第二连接器（14）将第二可移动元件和第二圆柱形基板支架互连。
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公开(公告)号：KR100861001B1
公开(公告)日：2008-09-30
申请号：KR1020060119873
申请日：2006-11-30
Applicant: 한국전기연구원
IPC: G03F7/20
Abstract: 본 발명은 대면적 초정밀 롤 노광 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 레이저빔 또는 전자빔을 이용하여 롤 표면에 직접 노광을 할 수 있고, 롤 회전축을 중심으로 정속 회전운동은 물론 회전축 방향으로 정속 직선운동을 할 수 있도록 한 대면적 초정밀 롤 노광 장치에 관한 것이다.
이를 위해, 본 발명은 수평방향으로 배치된 회전롤과; 상기 회전롤을 사이에 두고 상기 회전롤의 양단부를 지지하는 제1 및 제2고정척과; 상기 고정척 및 회전롤을 떠받쳐주는 롤지지체와; 상기 회전롤에 수직방향으로 빔을 조사하는 빔소스와; 상기 제1 및 제2고정척 중 어느 하나 또는 둘 다에 설치되어 상기 회전롤을 회전시켜주는 롤회전수단과; 상기 롤지지체의 하단부를 지지하고, 상기 롤지지체를 좌우로 직선이동시켜주는 리니어 이송부;를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 대면적 초정밀 롤 노광 장치를 제공한다.
회전롤, 고정척, 자기부상, 미케니컬 베어링, 스러스트 마그네틱 베어링, 레이저 간섭계, 리니어모터, 전자석, 영구자석, 로크 앤 롤 장치-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160056534A
公开(公告)日：2016-05-20
申请号：KR1020140156853
申请日：2014-11-12
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/68 , H01L21/027 , H01L21/02
Abstract: 본발명은원통형초정밀자기부상스테이지에관한것으로, 더욱상세하게는 가동자를중심으로복수개의자기부상모듈이원형으로배치되고가동자의일측에자성체가설치되며자성체의상측에보조자기부상모듈이설치되어가동자의가동시자기부상모듈의배치형태에의해흡인력과반발력이일정하게발생하여가동자의외란을방지할수 있고가동자의자중에의한흡인력부족을자성체와보조자기부상모듈간의흡인력을통해극복할수 있는원통형초정밀자기부상스테이지에관한것이다. 이러한본 발명은원통체에각각영구자석의배열로이루어진회전운동형의제1가동자와직선운동형의제2가동자가설치되는가동부; 상기제1가동자와상기제2가동자를각각중심으로하여복수개의제1자기부상모듈과제2자기부상모듈이원형으로설치되어상기가동부를자력으로부상시킨상태에서회전운동및 직선운동시키는자기부상부; 및상기제1가동자와상기원통체의사이와상기제2가동자와원통체의사이에각각제1자성체와제2자성체가설치되고상기제1자성체와상기제2자성체를상방으로당기는흡인력을각각발생시키는제1보조자기부상모듈과제2보조자기부상모듈이각각구비되는보조자기부상부;를포함하여구성되는것을특징으로하는원통형초정밀자기부상스테이지를기술적요지로한다. 그리고본 발명은원통체에영구자석의배열로이루어진가동자가설치되는가동부; 상기가동자의중심으로복수개의자기부상모듈이원형으로설치되어상기가동자를자력으로부상시키면서가동시키는자기부상부; 및상기가동자와원통체의사이에자성체가설치되고상기자성체의상측에상기자성체를상방으로당기는흡인력을발생시키는보조자기부상모듈이구비되는보조자기부상부;를포함하여구성되는것을특징으로하는원통형초정밀자기부상스테이지도기술적요지로한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种圆柱形超精密磁悬浮台，更具体地涉及一种圆柱形超精密磁悬浮台，其可以防止作为吸引力的车辆的扰动，并且通过布置类型不断地产生排斥力 当由操作员操作磁悬浮模块时。 本发明提供了一种圆柱形超精密磁悬浮台，其包括：操作单元，其中第一操作元件和第二操作元件安装在圆柱体中; 磁悬浮单元悬浮操作单元，用磁力进行旋转和直线运动; 以及辅助磁悬浮单元，其中分别设置有第一辅助磁悬浮模块和第二辅助磁悬浮模块。
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公开(公告)号：KR1020150017093A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：KR1020130092939
申请日：2013-08-06
Applicant: 한국전기연구원
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3058 , B32B17/10862 , G02F2001/133548
Abstract: 본 발명은 고분자 성형, 증착 및 식각 공정으로 이루어진 연속 공정을 적용하여, 나노 패턴을 갖는 필름 형태의 와이어 그리드 편광자를 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명은 고분자 성형, 증착 및 식각 공정으로 이루어진 롤투롤(Roll to Roll) 연속 공정을 적용하여, 나노 패턴을 갖는 필름 형태의 와이어 그리드 편광자를 제조하는 한편, 특히 금속 재질의 나노 패턴 형성시 증착 공정과 식각 공정(또는 이온 밀링 공정)를 교대로 진행하면서 금속 패턴을 형성하는 새로운 형태의 필름형 와이어 그리드 편광자 제조방식을 구현함으로써, 연속 공정의 적용이 가능하고 균일한 나노 패턴을 형성시킬 수 있는 와이어 그리드 편광자의 제조방법을 제공한다.Abstract translation: 本发明涉及通过应用由高分子成型，蒸发和蚀刻工艺形成的连续工艺制造具有纳米图案的膜型线栅偏振器的方法。 本发明通过应用由高分子成型，蒸发和蚀刻工艺形成的辊对辊连续工艺，制造具有纳米图案的膜型线状偏振器，并形成新型薄膜型线型偏振器的制造方法 当金属材料的纳米图案特别形成时，通过执行蒸发处理和蚀刻工艺（或离子研磨处理）来轮流形成金属图案。 因此，提供了能够应用连续工艺并形成均匀的纳米图案的线束偏振片的制造方法。
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公开(公告)号：KR101172743B1
公开(公告)日：2012-08-14
申请号：KR1020090115109
申请日：2009-11-26
Applicant: 한국전기연구원
Abstract: 본 발명은, 새로운 비접촉식 임프린트 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 롤투롤 임프린트 공정에서 기존의 롤러에서의 분진 발생, 임프린트된 제품의 품질 저하, 롤의 신뢰성 등의 문제를 비접촉 방식인 자기베어링을 사용함으로써 해결할 수 있는 비접촉식 임프린트 장치에 관한 것이다.
이를 위하여 본 발명에서는 롤투롤 임프린트 장치에 있어서, 연성기판에 패턴을 형성하도록 회전운동하는 원통 금형과; 전자기력에 의해 반경방향의 운동을 제어하는 레이디얼 베어링과; 축방향의 운동을 제어하도록 상기 원통 금형의 회전축 방향으로 좌우 양단에 구비되는 한 쌍의 스러스트 베어링과; 상기 레이디얼 베어링 및 상기 스러스트 베어링의 회전자와 상기 원통 금형을 포함하는 롤과; 상기 원통 금형과 상기 연성 기판 사이에 장력을 형성하는 한 쌍의 반송 롤러를 포함하며, 상기 레이디얼 베어링 각각의 고정자는 상측의 제1고정자부와 상기 제1고정자부에 분리된 하측의 제2고정자부로 구성되는 것을 특징으로 하는 비접촉식 임프린트 장치를 제공한다.
이러한 구성을 포함하는 본 발명의 비접촉식 임프린트 장치는 기존의 롤 임프린트 공정보다 분진이 적고, 임프린트된 제품의 품질이 양호하며, 상기 롤의 신뢰성이 향상되며, 유지보수성 및 양산성이 매우 뛰어난 효과가 있다.
자기부상, 자기베어링, 비접촉식, 임프린트-
公开(公告)号：KR1020110057295A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：KR1020090113633
申请日：2009-11-24
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/3065 , H01L21/302 , H01L21/02
CPC classification number: H01J37/08 , C23C14/48 , H01J37/305 , H01J37/32009
Abstract: PURPOSE: A device and method for processing various kinds of spices using plasma immersion ions are provided to efficiently polish a surface of large cylindrical processing materials by colliding ions accelerated to a sheath with rotary processing materials. CONSTITUTION: Plasma is filled in a vacuum chamber. A support(12) and a rotation device(13) are installed in a vacuum chamber. A cover(15) includes a slot(14) arranged along the surface of the processing materials. The cover is electrically connected to the processing materials. A power source(16) supplies power to the processing materials and the cover.
Abstract translation: 目的：提供使用等离子体浸渍离子处理各种香料的装置和方法，以通过与旋转处理材料碰撞加速到护套的离子来有效地抛光大圆柱形处理材料的表面。 构成：将等离子体填充在真空室中。 支撑件（12）和旋转装置（13）安装在真空室中。 盖（15）包括沿着处理材料的表面布置的槽（14）。 盖子与处理材料电连接。 电源（16）向处理材料和盖子供电。
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公开(公告)号：KR100929883B1
公开(公告)日：2009-12-04
申请号：KR1020070117535
申请日：2007-11-16
Applicant: 한국전기연구원
Abstract: 본 발명은 고진공의 진공챔버 내의 원통금형 스테이지에 장착된 원통금형 기판을 회전시키면서 전자빔(E_beam)을 조사하여 원통금형 기판에 나노급 고분해능으로 단시간 내에 많은 양의 연속 패턴을 형성할 수 있게 하고, 원통금형 스테이지(진공챔버)의 나노급 정밀도의 수평 이송과 Z축, θx, θy 능동 자세 제어를 통하여 노광기 자체의 기계적 위치 제어 오차를 최소화시킬 수 있는 노광기 및 노광 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 노광기는, 진공 챔버의 내부에 원통금형 스테이지를 장착하고, 상기 원통금형 스테이지에 결합된 원통금형을 움직이면서 상기 원통금형에 빔을 조사하여 패턴을 형성함으로써 일정 면적에 나노급 연속 패턴을 형성할 수 있다.
원통금형 기판, 전자빔(E-beam), 나노 노광기, 상대 이송, 능동 자세 제어Abstract translation: 本发明和所述圆筒形金属模具的基板照射电子束（E_beam）在旋转的同时安装在高真空的真空室纳米分辨率圆网阶段圆筒形模具基板可以形成在短时间内大量的连续图案，圆柱形 它涉及的纳米精密（真空室）和Z轴，θx，曝光系统和能够经由θY活性姿态控制最小化曝光系统本身的机械定位误差的曝光方法的水平传送的模具阶段。 根据本发明的曝光装置中，安装在圆筒模具阶段到真空室的内部，通过在圆筒形模制图案照射的波束形成图案移动联接到圆筒形金属模具台纳米连续在规定的区域中的筒状的金属模具 它可以形成。
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