公开(公告)号：DE112018000173B4

公开(公告)日：2022-12-15

申请号：DE112018000173

申请日：2018-05-23

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： HARUTYUNYAN DAVIT ,  JIA FEI ,  STAALS FRANK ,  WANG FUMING ,  LOOIJESTIJN HUGO THOMAS ,  RIJNIERSE CORNELIS JOHANNES ,  PISARENCO MAXIM ,  WERKMAN ROY ,  THEEUWES THOMAS ,  HEMERT TOM VAN ,  BASTANI VAHID ,  WILDENBERG JOCHEM SEBASTIAAN ,  MOS EVERHARDUS CORNELIS ,  WALLERBOS ERIK JOHANNES MARIA

IPC: G03F7/20 ,  G05B13/04 ,  G05B19/418 ,  H01L21/66

Abstract: Ein Verfahren zum Bestimmen eines charakteristischen Beitrags einer Vorrichtung aus einer Vielzahl von Vorrichtungen zu einem Fingerabdruck eines Parameters, wobei der Parameter mit der Verarbeitung eines Substrats assoziiert ist, wobei das Verfahren Folgendes beinhaltet:Erhalten von Parameterdaten und Verwendungsdaten, wobei die Parameterdaten auf Messungen für mehrere Substrate, die von der Vielzahl von Vorrichtungen verarbeitet worden sind, basieren und die Verwendungsdaten angeben, welche der Vorrichtungen aus der Vielzahl von Vorrichtungen bei der Verarbeitung jedes Substrats verwendet wurden;Bestimmen des Beitrags unter Verwendung der Verwendungsdaten und Parameterdaten; undAnalysieren der Variation der Parameterdaten unter Verwendung der Verwendungsdaten, wobei das Bestimmen des Beitrags zu dem Parameter für eine Vorrichtung das Gruppieren der Daten unter Verwendung der analysierten Variation beinhaltet.

公开(公告)号：NL1036647A1

公开(公告)日：2009-10-19

申请号：NL1036647

申请日：2009-03-02

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： STAALS FRANK ,  HOFMANS GEERT ,  LAAN HANS VAN DER ,  MAGNUSSON SVEN GUNNAR KRISTER

IPC: H01L23/544 ,  G03F7/20

公开(公告)号：NL1036668A1

公开(公告)日：2009-09-22

申请号：NL1036668

申请日：2009-03-05

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： KUIT JAN-JAAP ,  STAALS FRANK ,  HOFF ALEX VAN DER

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：NL1036525A1

公开(公告)日：2009-08-10

申请号：NL1036525

申请日：2009-02-06

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BURRY DAVID WARREN ,  BRINKHOF RALPH ,  STAALS FRANK ,  FRANKEN ROBERT ,  KOOP ERIK JOHAN

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：NL2009850A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：NL2009850

申请日：2012-11-21

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： ENGBLOM PETER ,  KOHLER CARSTEN ,  STAALS FRANK ,  WINTER LAURENTIUS

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：NL2006073A

公开(公告)日：2011-08-15

申请号：NL2006073

申请日：2011-01-26

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： KOHLER CARSTEN ,  LAAN HANS ,  STAALS FRANK ,  WINTER LAURENTIUS ,  GODFRIED HERMAN

IPC: G03F7/20

Abstract: Embodiments of the invention related to lithographic apparatus and methods. A lithographic method comprises calculating a laser metric based on a spectrum of laser radiation emitted from a laser to a lithographic apparatus together with a representation of an aerial image of a pattern to be projected onto the substrate by the lithographic apparatus, and using the laser metric to modify operation of the laser or adjust the lithographic apparatus, and projecting the pattern onto the substrate.

公开(公告)号：NL1036557A1

公开(公告)日：2009-09-14

申请号：NL1036557

申请日：2009-02-11

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： STAALS FRANK ,  TEUNISSEN PAULUS ANTONIUS ANDREAS ,  DOORN RONALD ALBERT JOHN VAN

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/68

公开(公告)号：NL1036232A1

公开(公告)日：2009-06-18

申请号：NL1036232

申请日：2008-11-24

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： MAGNUSSON SVEN GUNNAR KRISTER ,  NIVELLE MARTIN JULES MARIE-EMILE ,  STAALS FRANK ,  TEL WIM TJIBBO

IPC: G03F7/207 ,  G03B27/52