Schattenmasken-Seitenwand-Tunnelkontakt für die Quantendatenverarbeitung und Verfahren zum Bilden eines solchen Kontakts

    公开(公告)号:DE112017007386B4

    公开(公告)日:2020-07-30

    申请号:DE112017007386

    申请日:2017-12-19

    Applicant: IBM

    Abstract: Verfahren zum Bilden eines Seitenwand-Tunnelkontakts, das aufweist:Bilden einer ersten leitenden Schicht durch eine erste Schattenmaskenbedampfung;Bilden einer zweiten leitenden Schicht auf einem Teil der ersten leitenden Schicht, wobei die zweite leitende Schicht durch eine zweite Schattenmaskenbedampfung gebildet wird;Bilden einer Oxidschicht auf der ersten leitenden Schicht und der zweiten leitenden Schicht, wobei ein Teil der Oxidschicht auf einer Seitenwand der ersten leitenden Schicht gebildet wird; undBilden einer dritten leitenden Schicht unmittelbar auf einer gegenüberliegenden Seite des Teils der Oxidschicht, der sich auf der Seitenwand der ersten leitenden Schicht befindet, sodass sich der Seitenwand-Tunnelkontakt zwischen der ersten leitenden Schicht und der dritten leitenden Schicht befindet,wobei sich ein Segment des Seitenwand-Tunnelkontakts zwischen einem dreieckigen Abschnitt der zweiten leitenden Schicht und einem dreieckigen Abschnitt der dritten leitenden Schicht befindet.

    Sichere Kennungen in QUBIT-Netzwerken

    公开(公告)号:DE112017006931T5

    公开(公告)日:2019-10-10

    申请号:DE112017006931

    申请日:2017-11-28

    Applicant: IBM

    Abstract: Eine Technik bezieht sich auf einen supraleitenden Chip. Resonanzeinheiten enthalten jeweils einen Josephson-Übergang. Die Resonanzeinheiten haben Resonanzfrequenzen, deren Unterschiede auf einer Variation des Josephson-Übergangs beruhen. Ein Übertragungsmedium ist mit den Resonanzeinheiten verbunden, und das Übertragungsmedium ist so konfiguriert, dass es eine Sequenz der Resonanzfrequenzen als eine Kennung des Chips ausgibt.

    Fabricação de via através de silício em dispositivos quânticos planares

    公开(公告)号:BR112021021816A2

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:BR112021021816

    申请日:2020-03-20

    Applicant: IBM

    Abstract: fabricação de via através de silício em dispositivos quânticos planares. em uma primeira camada supercondutora (316) depositada em uma primeira superfície de um substrato (312), um primeiro componente de um ressonador é padronizado. em uma segunda camada supercondutora (326) depositada em uma segunda superfície do substrato (312), um segundo componente do ressonador é padronizado. a primeira superfície e a segunda superfície são dispostas em relação uma à outra em uma disposição não coplanar. no substrato, um recesso é criado, o recesso se estendendo da primeira camada supercondutora para a segunda camada supercondutora. em uma superfície interna do recesso, uma terceira camada supercondutora (322) é depositada, a terceira camada supercondutora formando um caminho supercondutor entre a primeira camada supercondutora e a segunda camada supercondutora. o excesso de material da terceira camada supercondutora é removido da primeira superfície e da segunda superfície, formando um uma via através de silício (tsv) completa(320).

    Nicht-flüchtige Identifikation in QUBIT-Netzwerken

    公开(公告)号:DE112017007142B4

    公开(公告)日:2021-07-29

    申请号:DE112017007142

    申请日:2017-12-06

    Applicant: IBM

    Abstract: Supraleitender Chip, aufweisend:Schwingeinheiten mit Resonanzfrequenzen, wobei die Schwingeinheiten als supraleitende Schwingkreise konfiguriert sind, undJosephson-Übergänge in den Schwingeinheiten, wobei einer oder mehrere der Josephson-Übergänge eine kurzgeschlossene Tunnelbarriere besitzen, wobei die Schwingeinheiten kollektiv oder individuell adressierbar sind, wobei die kollektiv adressierbaren Schwingeinheiten durch die Auswertung deren individuellen Resonanzfrequenzen auslesbar sind und die individuell adressierbaren Schwingeinheiten individuell auslesbar sind.

Patent Agency Ranking