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公开(公告)号：DE112010004848T5
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：DE112010004848
申请日：2010-11-26
Applicant: IBM
Inventor： CHENG JOY , HINSBERG WILLIAM , WALLRAFF GREGORY MICHAEL , SUNDBERG LINDA KARIN , SANDERS DANIEL PAUL , KIM HO-CHEOL , NA YOUNG-HYE , TRUONG HOA , ITO HIROSHI
Abstract: Ein Verfahren zum Bilden einer Schichtstruktur, die eine Struktur von Bereichen eines selbstorganisierten Materials umfasst, umfasst folgende Schritte: Aufbringen einer Fotolackschicht, die einen nicht vernetzenden Fotolack umfasst, auf ein Substrat; wahlweise Aushärten der Fotolackschicht; Belichten einzelner Strukturbereiche der Fotolackschicht mit einer ersten Strahlung; wahlweise Aushärten der belichteten Fotolackschicht; und Entwickeln der belichteten Fotolackschicht mit einem nicht alkalischen Entwickler, um eine strukturierte Negativ-Fotolackschicht zu bilden, die unvernetzten entwickelten Fotolack umfasst; wobei der entwickelte Fotolack in einem bestimmten organischen Lösemittel unlöslich ist, das zum Gießen eines bestimmten Materials geeignet ist, welches zur Selbstorganisation in der Lage ist, und wobei der entwickelte Fotolack in einem wässrigen alkalischen Entwickler und/oder in einem zweiten organischen Lösemittel löslich ist. Eine Lösung, die das bestimmte Material umfasst, welches zur Selbstorganisation in der Lage und in dem bestimmten organischen Lösemittel gelöst ist, wird auf die strukturierte Fotolackschicht gegossen und das bestimmte organische Lösemittel wird entfernt. Dem gegossenen bestimmten Material wird die Möglichkeit zur Selbstorganisation gegeben, während das gegossene bestimmte Material wahlweise erwärmt und/oder getempert wird, wodurch die Schichereichen des selbstorganisierten bestimmten Materials umfasst.
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公开(公告)号：DE112015003339B4
公开(公告)日：2022-08-04
申请号：DE112015003339
申请日：2015-07-24
Applicant: IBM , SHINETSU CHEMICAL CO
Inventor： SOORIYAKUMARAN RATNAM , SUNDBERG LINDA KARIN , SANCHEZ MARTHA INEZ , BOZANO LUISA DOMINICA , SANDERS DANIEL PAUL , WATANABE SATOSHI , MASUNAGA KEIICHI , DOMON DAISUKE , KAWAI YOSHIO
IPC: G03F7/004 , C08F212/14 , G03F7/038
Abstract: Mit wässriger Base entwickelbare Negativresistzusammensetzung, frei von Vernetzungsmitteln und aufweisend:ein multifunktionelles Polymer, bestehend aus ersten Wiederholungseinheiten, welche Löslichkeit in wässrigem basischem Entwickler verleihen, zweiten Wiederholungseinheiten, welche eine Polaritätswechseleinheit enthalten, und dritten Wiederholungseinheiten, welche eine kovalent gebundene Photosäuregenerator-Gruppe enthalten,wobei die ersten Wiederholungseinheiten etwa 50 Mol-% bis etwa 80 Mol-% des multifunktionellen Polymers ausmachen, die zweiten Wiederholungseinheiten etwa 10 Mol-% bis etwa 40 Mol-% des multifunktionellen Polymers ausmachen und die dritten Wiederholungseinheiten etwa 1 Mol-% bis etwa 10 Mol-% des multifunktionellen Polymers ausmachen, undferner aufweisend freien Photosäuregenerator, wobei der freie Photosäuregenerator etwa 1 Gew.-% bis etwa 12,5 Gew.-% der Zusammensetzung ausmacht.
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公开(公告)号：DE112011100591B4
公开(公告)日：2021-10-21
申请号：DE112011100591
申请日：2011-02-03
Applicant: CENTRAL GLASS CO LTD , IBM
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
Abstract: Zusammensetzung, umfassend ein Polymer mit Wiederholungseinheiten, umfassend eine Sulfonamidgruppe und eine verzweigte Verknüpfungsgruppe, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus den Formeln (III), (IV), (V), (VII), (VIII) und (IX):wobei:R10, R12, R14, R18, R20und R22unabhängig ausgewählt sind aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, Fluor, Methyl und Trifluormethyl; undR11, R13, R15, R19, R21und R23unabhängig fluoriertes C1-C12-Alkyl sind.
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公开(公告)号：DE112016000431B4
公开(公告)日：2021-01-21
申请号：DE112016000431
申请日：2016-02-08
Applicant: IBM
Inventor： CHENG JOY , CHUNDER ANINDARUPA , VORA ANKIT , TJIO MELIA , SANDERS DANIEL PAUL
IPC: C09D153/00 , C08L27/00 , C08L53/00 , C08L69/00 , H01L21/00
Abstract: Zusammensetzung, umfassend:i) ein Lösungsmittel;ii) ein Block-Copolymer, das umfasst:a) einen ersten Block, der eine Wiederholungseinheit der Formel (B-1) umfasst:worin I) Rwein einwertiger Rest ist, der ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus H, Methyl, Ethyl und Trifluormethyl (*-CF3), und II) Rdein einwertiger Rest ist, der einen aromatischen Ring umfasst, der an Kohlenstoff 1 gebunden ist, undb) einen zweiten Block aus aliphatischem Polycarbonat (einen Polycarbonatblock), der an den ersten Block gebunden ist; undiii) ein oberflächenaktives Polymer (SAP), das eine Fluoralkohol-Wiederholungseinheit (HFA-Wiederholungseinheit) umfasst, die mindestens eine Hexafluorisopropylalkoholgruppe (HFA-Gruppe) umfasst, wobei die HFA-Gruppe eine Strukturaufweist;wobei das Block-Copolymer und das SAP in dem Lösungsmittel gelöst sind.
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公开(公告)号：AU2011247542A8
公开(公告)日：2014-08-28
申请号：AU2011247542
申请日：2011-04-28
Applicant: CENTRAL GLASS CO LTD , IBM
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , HEDRICK JAMES LUPTON , MANABU YASUMOTO , FUJIWARA MASAKI
IPC: C07D317/36 , C07D319/04 , C08G64/30
Abstract: A one pot method of preparing cyclic carbonyl compounds comprising an active pendant pentafluorophenyl carbonate group is disclosed. The cyclic carbonyl compounds can be polymerized by ring opening methods to form ROP polymers comprising repeat units comprising a side chain pentafluorophenyl carbonate group. Using a suitable nucleophile, the pendant pentafluorophenyl carbonate group can be selectively transformed into a variety of other functional groups before or after the ring opening polymerization.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：GB2493877A8
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：GB201221302
申请日：2011-04-28
Applicant: IBM , CENTRAL GLASS CO LTD
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , HEDRICK JAMES LUPTON , YASUMOTO MANABU , FUJIWARA MASAKI
IPC: C07D319/04 , C07D317/36 , C08G64/02 , C08G64/30
Abstract: A one pot method of preparing cyclic carbonyl compounds comprising an active pendant pentafluorophenyl carbonate group is disclosed. The cyclic carbonyl compounds can be polymerized by ring opening methods to form ROP polymers comprising repeat units comprising a side chain pentafluorophenyl carbonate group. Using a suitable nucleophile, the pendant pentafluorophenyl carbonate group can be selectively transformed into a variety of other functional groups before or after the ring opening polymerization.
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公开(公告)号：DE112011100578T5
公开(公告)日：2013-01-31
申请号：DE112011100578
申请日：2011-04-28
Applicant: CENTRAL GLASS CO LTD , IBM
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , HEDRICK JAMES LUPTON , YASUMOTO MANABU , FUJIWARA MASAKI
IPC: C07D317/36 , C07D319/04 , C08G64/30
Abstract: Es wird ein Eintopf-Verfahren zum Herstellen cyclischer Carbonylverbindungen, die eine aktive anhängende Pentafluorphenylcarbonatgruppe umfassen, offenbart. Die cyclischen Carbonylverbindungen können durch Ringöffnungsverfahren polymerisiert werden, um ROP-Polymere zu bilden, die Wiederholungseinheiten umfassen, die eine Pentafluorphenylcarbonat-Seitenkettengruppe umfassen. Unter Verwendung eines geeigneten Nucleophils kann die anhängende Pentafluorphenylcarbonatgruppe vor oder nach der Ringöffnungspolymerisation selektiv in vielfältige andere funktionelle Gruppen umgewandelt werden.
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公开(公告)号：GB2490195A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：GB201203582
申请日：2011-02-03
Applicant: IBM
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
Abstract: Provided are sulfonamide-containing photoresist compositions for use in lithographic processes that have improved properties for high resolution, low blur imaging. Also provided are alcohol- soluble photoresists for resist-on-resist applications. The sulfonamide- containing photoresist compositions of the present invention include positive-tone photoresist compositions that have sulfonamide-substituted repeat units with branched linking group as shown in Formula (I).
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公开(公告)号：GB2489612A8
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：GB201207369
申请日：2011-02-03
Applicant: IBM
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , FUJIWARA MASAKI , TERUI YOSHIHARU
IPC: C08L33/14 , C08L33/04 , C08L33/08 , C08L33/10 , C09D133/04 , C09D133/08 , C09D133/10 , C09D133/14 , G03F7/11
Abstract: Provided are sulfonamide-containing compositions, topcoat polymers, and additive polymers for use in lithographic processes that have improved static receding water contact angles over those known in the art. The sulfonamide-containing topcoat polymers and additive polymers of the present invention include sulfonamide-substituted repeat units with branched linking group as shown in Formula (I):
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公开(公告)号：AU2011247542A1
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：AU2011247542
申请日：2011-04-28
Applicant: CENTRAL GLASS CO LTD , IBM
Inventor： SANDERS DANIEL PAUL , HEDRICK JAMES LUPTON , YASUMOTO MANABU , FUJIWARA MASAKI
IPC: C07D317/36 , C07D319/04 , C08G64/30
Abstract: A one pot method of preparing cyclic carbonyl compounds comprising an active pendant pentafluorophenyl carbonate group is disclosed. The cyclic carbonyl compounds can be polymerized by ring opening methods to form ROP polymers comprising repeat units comprising a side chain pentafluorophenyl carbonate group. Using a suitable nucleophile, the pendant pentafluorophenyl carbonate group can be selectively transformed into a variety of other functional groups before or after the ring opening polymerization.
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