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公开(公告)号：KR1020170122199A
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：KR1020177024151
申请日：2016-02-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G03F7/00 , H01L21/027 , C08F297/00 , B82Y40/00
CPC classification number: B81C1/00031 , B81C1/00428 , B81C2201/0149 , B82Y40/00 , C08F297/00 , H01L21/0271 , H01L21/0337 , H01L21/67178 , H01L21/67742
Abstract: 친수성폴리머(411)와소수성폴리머(412)를포함하는블록공중합체를이용한기판처리방법은폴리머분리공정을포함하고, 블록공중합체에서의친수성폴리머의분자량의비율은, 폴리머분리공정후에친수성폴리머(411)가평면에서보아육방최밀구조에대응하는위치에배열되도록 20%∼40%로조정되고, 폴리머분리공정에서는, 소수성의도포막에의한원형상의각 패턴(404) 상에원기둥형의제1 친수성폴리머(411a)를각각상분리시키며, 각제1 친수성폴리머(411a) 사이에, 원기둥형의제2 친수성폴리머(411b)를상분리시키고, 제1 친수성폴리머(411a)와제2 친수성폴리머(411b)가평면에서보아육방최밀구조에대응하는위치에배열되도록, 원형상의패턴(404)의직경이정해져있다.
Abstract translation: 亲水性聚合物411和使用包括疏水性聚合物（412）的嵌段共聚物的基板处理方法的分子量的比包含聚合物分离步骤，该亲水聚合物eseoui嵌段共聚物中，亲水性聚合物（411，聚合物分离过程之后 ）被调整为20-40％，以便被布置在对应于所述六角形的最高密度结构的位置，如从侧面Gapyung，聚合物分离步骤，在圆上的各个图案404中的第一亲水圆柱形观察由于疏水图覆盖膜 聚合物（411A），分别的sikimyeo相分离，gakje一种亲水性聚合物（411A），所述圆筒形的第二亲水性聚合物的相分离（411B）和所述第一亲水性聚合物之间（411A）沃赫在Gapyung表面第二亲水性聚合物（411B） 圆形图案404的直径被确定为布置在对应于六边形最近结构的位置处。
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公开(公告)号：KR1020150058209A
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：KR1020157006644
申请日：2013-09-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , G03F7/16 , G03F7/40
CPC classification number: H01L21/0274 , G03F7/0002 , G03F7/16 , G03F7/405 , H01J37/32889 , H01L21/0271 , H01L21/0273 , H01L21/31133 , H01L21/31138 , H01L21/6715 , H01L21/67253
Abstract: 본발명은, 친수성폴리머와소수성폴리머에대하여중간의친화성을갖는중성층을기판상에형성하고, 중성층상에형성된레지스트막을노광처리하며, 이어서노광처리후의레지스트막을현상하여레지스트패턴을형성하고, 레지스트패턴에극성을갖는유기용제를공급하여레지스트패턴을표면처리하며, 블록공중합체를중성층상에도포하여, 중성층상의블록공중합체를친수성폴리머와소수성폴리머로상분리시킨다.
Abstract translation: 本发明构造成：在基材上形成与亲水性聚合物和疏水性聚合物具有中等亲和力的中性层; 通过对形成在中性层上的抗蚀剂膜进行曝光处理，然后在曝光处理之后使抗蚀剂膜显影来形成抗蚀剂图案; 通过向抗蚀剂图案供给具有极性的有机溶剂，对抗蚀剂图案进行表面处理; 将嵌段共聚物施加到中性层上; 并将中性层上的嵌段共聚物相分离成亲水性聚合物和疏水性聚合物。
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公开(公告)号：KR101215705B1
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：KR1020090021168
申请日：2009-03-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/027 , H01L21/67051 , H01L21/6838
Abstract: 액막형성기구는, 기판이면의주연부에대향한대향면부(51)와대향면부에처리액을공급하는처리액공급부(52A)를갖는다. 또한, 도포장치는회전하는기판의주연부의상하흔들림을억제하기위해, 기판유지부(21)의주위에배치된자세제어기구(6)를구비한다. 자세제어기구는, 주연부보다도내측의영역에가스를토출하는토출구멍(62A)을기판의회전방향을따라갖는다.
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公开(公告)号：KR1020090118825A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：KR1020090019842
申请日：2009-03-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: B05C11/08 , H01L21/68 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/162 , H01L21/6715 , H01L21/68742 , H01L21/68785 , G03F7/70716 , G03F7/709
Abstract: PURPOSE: A coating apparatus and a coating method therefore are provided to ensure stability of thickness profile of a coating film when a coating film is formed on the substrate through a spin coating method. CONSTITUTION: A coating apparatus includes a driving unit(12) configured to rotate a substrate holding member(11) about a vertical axis to spread a coating liquid supplied on a front side central portion of a substrate(W) toward a front side peripheral portion of the substrate by a centrifugal force. The apparatus is provided with a wobble damping mechanism(50) including a gas delivery port and a suction port both disposed to face a back side of the substrate and configured to damp a wobble of the substrate being rotated by delivering a gas from the delivery port and sucking the gas into the suction port.
Abstract translation: 目的：提供涂布装置和涂布方法，以通过旋涂法在基材上形成涂膜时确保涂膜的厚度分布的稳定性。 构成：涂布装置包括驱动单元（12），其构造成使基板保持构件（11）绕垂直轴线旋转，以将供给到基板（W）的前侧中央部的涂布液朝向前侧周边部 的离心力。 该装置设置有摆动阻尼机构（50），该摆动阻尼机构（50）包括气体输送口和吸入口，两者设置成面对基板的背面，并且构造成通过从输送口输送气体来抑制正在旋转的基板的摆动 并将气体吸入吸入口。
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公开(公告)号：KR100892008B1
公开(公告)日：2009-04-07
申请号：KR1020020053729
申请日：2002-09-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715
Abstract: 기판에 대하여 약액을 공급하고, 해당 약액의 액막을 형성하는 장치에 있어서, 기판표면으로의 파티클 부착을 억제함과 동시에 기판표면에 형성되는 도포막의 제품수율을 향상시키는 것.
좌우방향으로 이동 가능한 노즐부와, 전후방향으로 이동 가능한 기판유지부에 의해 유지되는 기판과의 사이에 슬릿을 가지는 플레이트를 설치하고, 슬릿의 좌우끝단에는 슬릿바깥쪽으로 공급되는 도포액으로부터 미스트가 발생하는 것을 억제하는 충격완화부를 구비함과 동시에, 그 표면에서 받아낸 도포액을 씻어 버리는 것이 가능한 한 쌍의 셔터를 설치한다. 또한 슬릿근방위치에는 상기 노즐부의 이동영역에 대응하는 범위에 걸쳐 흡인구가 설치되어 있고, 노즐부의 스캔도포시에 생기는 미스트를 흡인하도록 구성된다. 또한 플레이트에는 하강류를 슬릿바깥쪽으로 분산시키기 위한 슬릿이 형성된다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100697939B1
公开(公告)日：2007-03-20
申请号：KR1020010024843
申请日：2001-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 기판에 대하여 도포현상처리하는 방법으로서, 기판에 도포액을 공급하여 도포막을 형성하는 공정과, 도포막이 형성된 기판을 가열처리하는 공정과, 상기 가열처리후에 기판을 냉각하는 공정과, 기판에 형성된 도포막에 노광처리하는 공정과, 노광처리후에 기판을 현상하는 공정을 가지며, 더욱 도포막을 형성하는 공정후에, 기판을 노광처리하는 공정전에, 처리가스를 공급하여 도포막의 표면에 처리막을 형성하는 공정을 가진다.
본 발명에 의하면, 도포막을 형성하는 공정후에, 기판을 노광하는 공정전에, 처리가스를 공급하여 도포막의 표면에 처리막을 형성하기 때문에, 이 처리막에 의해, 분위기중의 산소나 수증기 등의 불순물로부터 기판을 보호할 수 있다.Abstract translation: 一种涂布和显影基材的方法，包括以下步骤：通过将涂布液供给至基材，对其上形成有涂布膜的基材进行热处理，在加热处理之后冷却基材来形成涂布膜， 具有显影在涂膜和曝光过程中的曝光处理后的基片的步骤中形成，所述膜还形成膜，并且，曝光处理的基板处理的涂层膜表面上的步骤之前的处理气体供应的步骤之后施加 的步骤。
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公开(公告)号：KR100680439B1
公开(公告)日：2007-02-08
申请号：KR1020000076972
申请日：2000-12-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715
Abstract: 본 발명의 막형성 장치에 있어서 토출노즐은 대략 통형상의 지지부재와, 지지부재의 기판측의 면에 지지되고, 또한, 기판측의 면을 폐쇄하는 박판 또는 박판부를 갖고, 이들의 박판 혹은 박판부에, 도포액을 토출하기 위한 토출구가 설치되어 있다. 레이저 가공, 펀치 등에 의해, 종래의 사출성형 가공에 의해서도 미소한 토출구를 박판 또는 박판부에 형성하는 것이 가능하다. 도포액의 토출량이나 기판상의 토출 영역을 보다 세밀하게 제어할 수 있다.
본 발명의 막 형성 장치는 토출노즐을 세정하는 세정장치를 갖고, 토출노즐의 토출구에 대하여 세정용의 세정액을 분출시키는 세정액 분출기구와, 토출구 부근의 분위기를 흡인하는 흡인기구를 갖는다. 토출구에 부착된 오염물은 종래에 비해 보다 완전하게 제거된다. 따라서, 토출구의 직경이 미소일지라도, 효과적으로 세정할 수 있다. 토출구로 분출된 세정액을 흡인기구에 의해 흡인하여 이것을 적절하게 배출할 수 있고, 세정액의 비산 또는 토출구 주변의 오염이 방지된다.Abstract translation: 在本发明的膜形成装置中的排放喷嘴被支撑在筒状的左右的支撑构件，并且所述构件的支撑基板侧，并且还的表面上，具有金属片或金属片的部分用于封闭所述基板的表面上，那些薄板或薄板的 设置用于排出涂布液的排出口。 激光加工，冲孔等，可以通过传统的注射成型工艺在薄板或薄板部分上形成微小的排出口。 可以精细地控制涂布液的排放量和衬底上的排放区域。
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公开(公告)号：KR1020040045839A
公开(公告)日：2004-06-02
申请号：KR1020047005593
申请日：2002-10-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/324
CPC classification number: H01L21/67109
Abstract: 열처리장치는, 표면에 도포막이 형성된 기판(W)을 열처리하기 위해서 사용되고, 기판을 대략 수평으로 유지하는 유지부재(34)와, 이 유지부재에 유지된 기판을 수용하는 챔버(3O)와, 가스투과성을 가지며, 기판에 형성된 도포막을 직접 가열할 수 있도록 챔버내에서 상기 유지부재에 유지된 기판의 위쪽에 배치되는 핫 플레이트(31)와, 챔버의 윗면에 설치되어 상기 챔버의 내부의 배기를 행하는 배기구(33)를 구비하여, 도포막이 핫 플레이트에 의해서 가열되었을 때에 상기 도포막으로부터 발생하는 가스는 핫 플레이트를 투과한 후에 상기 챔버외부로 배출된다. 이 열처리장치에 의하면, 도포막의 균일성이 향상하여, 그 결과, CD 균일성을 향상시킴과 동시에, LER 특성을 개선하여 매끄러운 측면을 가진 패턴측면을 얻는 것이 가능하다.
Abstract translation: 1。一种热处理装置，对具有形成有涂膜的表面的晶片进行热处理，其特征在于，具备：保持部件，其将晶片保持为大致水平状态; 容纳由保持部件保持的晶片的腔室; 一个具有气体渗透性的热板，该热板设置在腔室中由保持部件保持的晶片的上方，从而可以直接加热形成在晶片上的涂层膜; 以及设置在腔室的顶面上并排出腔室中的气体的排气口。 从涂膜产生的气体通过热板并从腔室排出。 因此，涂膜的均匀性得到改善。 结果，可以改善CD的均匀性，可以改善LER特性，并且可以获得平滑的图案侧面。
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公开(公告)号：KR1020010104650A
公开(公告)日：2001-11-26
申请号：KR1020010024605
申请日：2001-05-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 기판에 도포막을 형성하는 도포처리장치와, 기판의 현상을 행하는 현상처리장치와, 기판의 열처리를 행하는 열처리장치와, 이들 도포처리장치, 현상처리장치 및 열처리장치에 대하여 기판의 반입출을 행하는 제 1 반송장치를 갖는 처리부와, 적어도 처리부와 기판에 대하여 노광처리를 하는 시스템외의 노광처리장치와의 사이의 경로로 기판의 반송이 행하여지는 인터페이스부와, 처리부와 인터페이스부를 거두는 케이싱과, 인터페이스부내에 불활성기체를 공급하는 기체공급장치와, 인터페이스부의 분위기를 배기하는 배기부를 갖고, 인터페이스부에 열처리장치와, 이 열처리장치와 노광처리장치의 사이의 경로로 기판의 주고받음을 하는 제 2 반송장치가 배치되어 있다.
본 발명에 의하면, 산소, 염기성물질, 오존, 유기물등의 분자레벨의 불순물이 기판에 부착하는 것이 방지할 수 있기 때문에, 기판의 처리가 적합하게 행하여진다.-
公开(公告)号：KR1020010103662A
公开(公告)日：2001-11-23
申请号：KR1020010024831
申请日：2001-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 기판에 대하여 도포 현상 처리를 실시하기 위한 도포 현상 처리 시스템으로서, 기판에 도포막을 형성하는 도포 처리 장치와, 기판을 현상하는 현상 처리 장치와, 기판을 열처리하는 열처리 장치와, 이들 도포 처리 장치, 현상 처리 장치 및 열처리 장치에 대하여 기판의 반입반출을 하는 제 1 반송 장치를 갖는 처리부를 갖고 있다.
본 발명은 더욱 처리부와 기판에 대하여 노광 처리를 하는 시스템 외부의 노광 처리 장치 사이의 경로로 기판의 반송을 하는 제 2 반송 장치를 갖는 인터페이스부를 갖고 있다. 본 발명은 기판이 노광 처리되기 전에, 기판의 도포막에 부착한 불순물을 챔버내에서 흡인하여 제거하는 감압 제거 장치를 더욱 갖는다.
본 발명에 의하면, 노광 처리전에, 기판의 도포막에 부착한 산소, 오존, 유기물 등의 분자 레벨의 불순물이나 미립자 등의 불순물을 제거할 수 있으므로, 적합하게 노광 처리가 행하여져, 생산 수율의 향상이 기도된다.
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