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公开(公告)号：KR1020100005668A
公开(公告)日：2010-01-15
申请号：KR1020090059236
申请日：2009-06-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/687 , H01L21/302
CPC classification number: G03F7/162 , H01L21/6704 , H01L21/687
Abstract: PURPOSE: A cleaning jig and a cleaning solution for a spin coater are provided to clean the case of the spin coater from above even while rotating the cleaning jig at relatively low speed. CONSTITUTION: A cleaning jig(50) is used for cleaning a case of a spin coater, the spin coater which drops treating liquid onto a substrate rotating in the case and coats a film of treating liquid on the substrate by rotating the substrate. The cleaning jig has a rim(500) to retain solvent which is supplied and spread by rotation. The rim includes an outer wall surface of a protrusion formed along the perimeter of the cleaning jig.
Abstract translation: 目的：提供用于旋转涂布机的清洁夹具和清洁溶液，即使在以相对低的速度旋转清洁夹具的情况下也可以从上方清洁旋涂机的外壳。 构成：清洗夹具（50）用于清洗旋转涂布机的情况，该旋涂机将处理液体滴落到在壳体上旋转的基板上，并通过旋转基板涂覆在基板上的处理液体膜。 清洁夹具具有边缘（500），以保持通过旋转而供应和扩散的溶剂。 边缘包括沿着清洁夹具的周边形成的突起的外壁表面。
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公开(公告)号：KR1020090118820A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：KR1020090010195
申请日：2009-02-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/162 , G03F7/70916 , G03F7/70933 , H01L21/67017 , H01L21/6715
Abstract: PURPOSE: A coating apparatus, a coating method, and a memory medium are provided to reduce use amount of solvent by reducing attachment of particles in a rear surface of a substrate. CONSTITUTION: A coating apparatus includes a preventing part, a partition part, an opening part, an opening amount control unit, an exhaust amount control unit, and a control part. The preventing part is formed in a circumference direction of a substrate with a ring shape. The partition part(22) is extended from the preventing part to the center of the substrate. The opening part(25) is formed in the partition part. The opening amount control unit controls an opening amount of the opening part. The exhaust amount control unit is installed in an exhaust duct, and controls an exhaust amount of the exhaust duct. The control part controls the opening amount control unit and the exhaust amount control unit according to the number of rotations of the substrate.
Abstract translation: 目的：提供一种涂布装置，涂布方法和记录介质，以通过减少基板后表面中的颗粒的附着来减少溶剂的使用量。 构成：涂覆装置包括防止部分，分隔部分，开口部分，开口量控制单元，排气量控制单元和控制部分。 防止部在环状的基板的圆周方向上形成。 分隔部（22）从防止部延伸到基板的中心。 开口部25形成在分隔部中。 打开量控制单元控制开口部的开口量。 排气量控制单元安装在排气管道中，并且控制排气管道的排气量。 控制部根据基板的转数来控制开度量控制部和排气量控制部。
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公开(公告)号：KR101932775B1
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：KR1020130080224
申请日：2013-07-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
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公开(公告)号：KR101899167B1
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：KR1020130083959
申请日：2013-07-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B3/04 , H01L21/67051
Abstract: 배기경로에있어서의드레인부주변이외의부분의세정을행할수 있는액 처리장치및 세정방법을제공한다. 액처리장치(10)는, 드레인부(71 내지 74)의근방에마련되고, 기판유지부(52)에의해유지된기판(W)의주위의분위기를배기하기위한배기부(76)와, 배기부(76)에연결되는배기경로(77)를형성하는배기경로형성부재(66)와, 배기경로(77)측의배기경로형성부재(66)에세정액을공급하는제1 세정부(90)를구비하고있다.
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公开(公告)号：KR1020170143455A
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：KR1020170078122
申请日：2017-06-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/683
CPC classification number: B08B13/00 , B08B3/041 , B08B3/08 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/67173
Abstract: 본발명은액 받이컵의컵체의돌출부를얼룩없이세정하는것을과제로한다. 제1 컵체(51)와제2 컵체(52) 중어느한쪽을승강시켜양자를근접상태로한다. 이때, 제1 돌출부(5102)의하면에형성된간극형성부(5106)와제2 돌출부(5202)의상면사이의제1 간극(G1)이, 제1 돌출부의간극형성부가없는부분과제2 돌출부의상면사이의제2 간극(G2)보다작다. 이상태로, 제2 간극에세정액을공급한다. 반경방향외향으로흐르고자하는세정액의움직임이좁은제1 간극에의해제한되기때문에, 제1 돌출부와제2 돌출부사이의공간의전역을세정액으로채울수 있어, 세정대상면을얼룩없이세정할수 있다.
Abstract translation: 本发明克服了清洗杯架的杯体的突出部分没有斑点的问题。 第一杯体51和第二杯体52中的一个升高和降低以使它们靠得很近。 此时，形成在根据第一突起5102间隙形成部（5106）沃赫第二突起5202是衣服侧之间的第一间隙（G1），任务的第一部分的顶表面2周之间的突起，而不形成在突起部的间隙 Ag 2比间隙G2小。 结果，清洁液体被供应到第二间隙。 由于清洗液的运动，以通过一个窄的第一间隙中，第一突出部和它的两个凸起之间chaeulsu用洗涤液的空间的整个区域流动径向向外椅子是有限的，它可以均匀地清洁清洁目标表面上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101791269B1
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：KR1020120040281
申请日：2012-04-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: B08B3/10 , B08B3/02 , B08B3/022 , B08B3/024 , B08B3/04 , B08B3/041 , B08B3/048 , H01L21/67017 , H01L21/67034 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , Y10S134/902
Abstract: 본발명은간소한방법으로 2개의컵을일체로상승시킬수 있는액처리장치를제공하는것을과제로한다. 액처리장치(1)에있어서, 피처리기판의회전유지부(21)를둘러싸도록설치된제1, 제2 컵(51, 52)은회전하는피처리기판(W)으로부터비산된처리액을하방측으로안내하고, 제1 구동부(610) 및제2 구동부(620)는처리액을받아내는위치와그 하방측위치사이에서제1 컵(51) 및제2 컵(52)을승강시킨다. 제어부(7)는제1, 제2 컵(51, 52)의동시상승시에, 제1 컵(51)의상승속도를제2 컵(52)의상승속도보다높게하여, 제1 컵(51) 또는그 제1 승강부재가상기제2 컵(52) 또는그 제2 승강부재와하방측으로부터서로겹쳐져, 제1 구동부의구동력을전달시킴으로써, 이들제1 컵(51)과제2 컵(52)을동시에상승시킨다.
Abstract translation: 本发明克服了提供能够以简单的方式一体地提升两个杯子的液体处理设备的问题。 在溶液中处理单元（1），设置成在第一和第二杯（51，52）以包围所述基板朝向下侧将被处理国会拨款部21具有从旋转的基板的处理液飞散到被处理（W） 导，并且所述第一驱动部610，第二驱动部620 mitje从而提升第一杯子之间51 mitje第二杯（52）接收到的处理液位置和其下侧的位置。 控制单元7控制第一杯子51和第二杯子51，使得当第一和第二杯子51和52上升时第一杯子51的提升速度高于第二杯子52的提升速度， 第一提升构件虚拟基2杯52或第二，通过从提升构件和下侧彼此重叠，用于从第一驱动部驱动力的传递，这些第一杯（51）的任务2提高了杯52在同一时间 从而。
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公开(公告)号：KR1020170015415A
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：KR1020170011934
申请日：2017-01-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67017 , B05B14/00 , B05C11/08 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B15/02 , G03F7/40 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/6715 , H01L21/02052
Abstract: 본발명은기판을처리액으로처리하는기판액처리장치에관한것이다. 본발명의기판액처리장치는, 기판을보지하고, 또한보지한기판을회전시키기위한기판회전기구와, 기판으로복수종류의처리액을선택적으로공급하는처리액공급기구와, 기판으로공급한후의처리액을회수하기위한회수컵과, 처리액을회수하기위하여회수컵에형성한복수의액 회수부와, 액회수부로부터회수한처리액을배출하기위하여회수컵의저부에형성한배액구와, 회수컵의배액구보다상방측에형성한배기구와, 배기구의상방을소정의간격을두고덮기위하여회수컵에고정한고정커버와, 기판으로공급한후의처리액을액 회수부로안내하기위하여고정커버의상방에서승강가능하게설치된승강컵과, 처리액의종류에따라승강컵을고정커버에대하여승강시키기위한컵 승강기구를가지고, 승강컵에는구획벽에승강가능하게삽입관통된승강로드가접속되어있고, 승강로드는컵 승강기구와접속되어있으며, 승강컵이승강할때, 배기구와고정커버와의사이의상기소정의간격은일정하게유지되어, 배기압력의변동을방지한다.
Abstract translation: 提供了一种基板液体处理装置，其中处理溶液和气氛可以在收集杯内彼此分离。 基板液体处理装置包括：基板旋转单元; 处理液供应单元; 收集杯，其被配置为收集处理溶液; 在收集杯处形成的液体收集区域; 形成在收集杯的底部的液体排出口; 形成在排液口上方的排气口; 固定盖，其被构造成在其间具有空间覆盖所述排气口的上部; 提升杯，其设置在所述固定盖的上方并且被构造成将所述处理溶液引导到所述液体收集区域中; 以及杯升降单元，其配置为根据处理溶液的种类上下移动升降杯。
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公开(公告)号：KR101521302B1
公开(公告)日：2015-05-18
申请号：KR1020090059236
申请日：2009-06-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/687 , H01L21/302
Abstract: 본발명은회전도포장치의세정에이용하는세정용지그로서, 세정용지그를비교적낮은회전속도로회전시키는경우에도, 용기를상측부에서세정하는것이가능한세정용지그및 이세정용지그를이용한세정방법을제공하는것을목적으로한다. 본발명의일 실시형태에따른세정용지그(50)는, 용기내에회전가능하게유지된기판상에처리액을적하하고, 이기판의회전에의해이 기판상에처리액의막을도포하는회전도포장치에서용기를세정하는데 사용할수 있는세정용지그로서, 회전도포장치에서회전되었을때에, 이면에공급되어회전에의해안내되는용제를유지하여용기내로비산시킬수 있도록형성된외주면(500)을구비한다.
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公开(公告)号：KR1020140013937A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：KR1020130083959
申请日：2013-07-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B3/04 , H01L21/67051
Abstract: Provided are a liquid processing apparatus capable of performing a cleaning process on a region except the peripheral region of a drain part in a purge line and a cleaning method. A liquid processing apparatus (10) includes a purge part (76) prepared near a drain part (71 to 74) and discharging the atmosphere of a substrate (W) hold by a substrate holding part (52), a purge path forming member (66) forming a purge path (77) connected to the purge part (76), a first cleaning part (90) supplying a cleaning solution to the purge path formation member (66) in the purge path (77).
Abstract translation: 提供一种液体处理装置，其能够对清除管线中的排出部分的周边区域以外的区域进行清洁处理和清洁方法。 液体处理装置（10）包括在排出部分（71至74）附近准备的排出部分（76），并且通过基板保持部分（52）将基板（W）的气氛排出，并将净化通路形成部件 66），形成连接到所述吹扫部分（76）的吹扫路径（77）;第一清洁部分（90），其将净化溶液供应到所述吹扫路径（77）中的所述吹扫路径形成部件（66）。
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公开(公告)号：KR1020140008254A
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：KR1020130080224
申请日：2013-07-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/04 , B08B13/00 , H01L21/68735
Abstract: The present invention is to provide a cleaning method for cleansing a cup and a member around the cup. In the cleaning method, a cleaning solution is supplied from the upper part of a cleaning jig to a cleansing jig by holding the cleaning jig (80) in a substrate holding part (52) and rotating it. The cleansing solution supplied to the cleaning jig is spread along the surface of an inclined part formed around the total cleaning jig near the outer edge of the cleaning jig. Therefore, the cup is cleaned.
Abstract translation: 本发明提供一种清洁杯子和杯子周围的部件的清洁方法。 在清洁方法中，通过将清洁夹具（80）保持在基板保持部（52）中并使其旋转，将清洁溶液从清洁夹具的上部供给到清洁夹具。 提供给清洁夹具的清洁溶液沿着靠近清洁夹具的外边缘的整个清洁夹具形成的倾斜部分的表面扩展。 因此，杯子被清洁。
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