公开(公告)号：KR1020090033079A

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：KR1020080094497

申请日：2008-09-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스께 ,  이세끼도모히로 ,  다까야나기고오지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162

Abstract: A coating treatment method, a coating treatment apparatus, and the computer-readable storage medium are provided to reduce the usage of the resist film by coating the resister layer thin. A coating treatment method includes the first step of coating the coating solutions on a substrate(W); the second step of rotating the substrate; the third step of drying the coating solutions. A coating processing device(30) comprises a rotating holders(130), a nozzle(143), and a controller(160). The substrate is settled by the rotating holders. The coating solution is sprayed on the top of the substrate by the nozzle. The controller performs the first or third steps through the rotating holders.

Abstract translation: 提供涂布处理方法，涂布处理装置和计算机可读存储介质，以通过涂覆薄层来减少抗蚀剂膜的使用。 涂布处理方法包括将涂布溶液涂布在基材（W）上的第一步骤。 旋转基板的第二步骤; 干燥涂层溶液的第三步。 涂料处理装置（30）包括旋转保持器（130），喷嘴（143）和控制器（160）。 基板由旋转支架固定。 通过喷嘴将涂布溶液喷涂在基材的顶部。 控制器通过旋转支架执行第一或第三步。

公开(公告)号：KR101704843B1

公开(公告)日：2017-02-08

申请号：KR1020120041386

申请日：2012-04-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노히사시 ,  요시하라고오스께 ,  우에무라료오이찌

IPC: H01L21/027

Abstract: 기판에도포액을도포해서도포막을형성하고, 또한상기도포막을가열하는처리에필요로하는시간을짧게할 수있는기술을제공하는것. 기판의보유지지부와, 기판에도포액을공급하는노즐과, 기판전체에도포막을형성하기위해, 상기노즐에대하여보유지지부를상대적으로이동시키는이동기구와, 상기보유지지부에보유지지된기판을향해서전자파를조사하고, 당해도포막에포함되는분자가서로결합하는온도로상기도포막전체를가열하기위한전자파조사부를구비하도록도포장치를구성한다. 도포막의형성후, 가열처리를행하기위해서기판을이동시킬필요가없으므로, 처리에필요로하는시간을짧게해, 처리량의향상을도모할수 있다.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种通过向基板施加涂布溶液来形成涂布膜的技术，并且可以减少涂布膜的热处理所需的时间。解决方案：一种涂布装置，包括：保持部件， 基质; 喷嘴，用于向所述基板供应涂布溶液; 移动机构，其使保持部相对于喷嘴移动，以在整个基板上形成涂布膜; 以及电磁波照射部，其向保持部保持的基板照射电磁波，并将整个涂布膜加热至涂布膜中所含的分子的温度彼此接合。 在形成涂布膜之后，为了进行热处理，不需要移动基板。 这减少了处理所需的时间，从而提高了产量。

公开(公告)号：KR101455411B1

公开(公告)日：2014-10-27

申请号：KR1020090053141

申请日：2009-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다께구찌히로후미 ,  야마모또다로오 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/3021

Abstract: 본 발명은 소수화된 기판 상의 레지스트막 표면의 습윤성을 개선하여 효율적인 현상액막의 형성을 가능하게 하는 동시에 현상 처리의 안정화를 도모할 수 있도록 한 현상 처리 방법 및 현상 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
이를 해결하기 위해, 스핀 척(40)에 의해 수평 유지된 웨이퍼(W)를 회전시켜, 상기 웨이퍼 표면에 현상액을 공급하여 현상 처리를 실시하는 현상 처리 방법에 있어서, 현상 처리 공정 전에 회전하는 기판 표면의 중심 근방에 위치하는 현상 노즐(52)로부터 현상액(100)을 공급하는 동시에, 현상 노즐보다도 웨이퍼 외주측에 위치하는 순수(純水) 노즐(53)로부터 제2 액인 순수(200)를 공급하여 웨이퍼의 회전에 수반하여 웨이퍼의 외주측으로 흐르는 순수에 의해 형성되는 벽(300)에 의해 현상액을 웨이퍼의 회전 방향으로 확산시키는 프리웨트 처리를 행한다. 이에 의해, 소수화된 웨이퍼 상의 레지스트막 표면의 습윤성을 개선할 수 있어 효율적인 현상액막의 형성을 가능하게 하는 동시에 현상 처리의 안정화를 도모할 수 있다.
현상액, 현상 노즐, 벽, 순수, 스핀 척

公开(公告)号：KR1020120120485A

公开(公告)日：2012-11-01

申请号：KR1020120041386

申请日：2012-04-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노히사시 ,  요시하라고오스께 ,  우에무라료오이찌

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  B05C5/02 ,  B05D1/26 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67706

Abstract: PURPOSE: A coating apparatus, a coating method, and a storage medium are provided to reduce processing time and quantity by not moving a substrate for a heating process after a coating layer is formed. CONSTITUTION: A spin chuck(21) horizontally holds a wafer(W) by vacuum absorption. A guide ring(23) is installed outside the spin chuck to guide a liquid discharge. An air supply port(14) and a fan filter unit(15) are installed on the upper side of a housing(11). A first exhaust port(16) is installed in the housing. A second exhaust port(26) is installed in the inner region of the lower side of a cup(24). [Reference numerals] (30) Lighting controller; (6) Control unit; (AA) Water supply; (BB) Drainage; (CC) Water supply; (DD) Drainage

Abstract translation: 目的：提供涂布装置，涂布方法和存储介质，以在形成涂层之后通过不移动用于加热工艺的基板来减少加工时间和量。 构成：旋转卡盘（21）通过真空吸附水平地保持晶片（W）。 引导环（23）安装在旋转卡盘外部以引导液体排出。 空气供给口（14）和风扇过滤器单元（15）安装在壳体（11）的上侧。 第一排气口（16）安装在壳体中。 第二排气口（26）安装在杯（24）的下侧的内部区域中。 （附图标记）（30）照明控制器; （6）控制单元; （AA）供水; （BB）排水; （CC）供水; （DD）排水

公开(公告)号：KR101152035B1

公开(公告)日：2012-06-11

申请号：KR1020070010441

申请日：2007-02-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 교오다히데하루 ,  요시하라고오스께 ,  야마모또다로오

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/11 ,  G03F7/38

Abstract: 본 발명의 과제는 레지스트막이 형성된 기판 상에 발수성의 보호막을 형성하고, 그 표면에 액층을 형성하여 액침 노광한 후의 기판에 현상 처리를 행하는 데 있어서, 현상 결함을 저감시키는 동시에 패턴의 선폭의 제어성을 향상시키는 것이다.
우선 레지스트막의 표면에 액층을 형성한 상태에서 노광한 후의 기판으로부터 보호막을 제거한다. 다음에 기판을 가열 처리한 후 기판의 현상 처리를 행한다. 이 태양에 있어서, 상기 보호막을 제거하기 전에 노광 후의 기판의 표면을 세정액에 의해 세정하거나, 혹은 상기 보호막을 제거한 후, 기판을 가열 처리하기 전에 기판의 표면을 세정액에 의해 세정한다.
반도체 웨이퍼, 인터페이스부, 노광 장치, 보호막 형성 유닛, 제어부

公开(公告)号：KR1020120047825A

公开(公告)日：2012-05-14

申请号：KR1020110113921

申请日：2011-11-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아리마히로시 ,  요시다유우이찌 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/302

CPC classification number: G03F7/422 ,  H01L21/67051

Abstract: PURPOSE: A substrate cleaning apparatus and method, and a storage media for substrate cleaning are provided to efficiently clean a substrate by transferring a supply place of washing solution and a discharge place of gas to a peripheral part of the substrate and promoting the drying of a dry region. CONSTITUTION: A carrier station(1) comprises a load unit(11) loading a carrier(10), an opening and closing unit(12), and a transmitting means(A1). The transmitting means takes out a wafer(W) from the carrier through the opening and closing unit. A processing unit(2) comprises a shelf units(U1, U2, U3) and liquid processing units(U4, U5). An interface unit(3) is composed of a first transfer room(3A) and a second transfer room(3B) installed between the processing unit and a light exposed unit(4). A temperature-humidity control unit(22) controls temperature and humidity of processing liquid.

Abstract translation: 目的：提供一种基板清洗装置和方法以及用于基板清洗的存储介质，以通过将洗涤溶液的供应位置和气体排放位置转移到基板的周边部分来有效地清洁基板，并促进干燥 干燥区域。 构成：载体站（1）包括装载载体（10）的装载单元（11），打开和关闭单元（12）以及传送装置（A1）。 发送装置通过打开和关闭单元从载体中取出晶片（W）。 处理单元（2）包括搁板单元（U1，U2，U3）和液体处理单元（U4，U5）。 接口单元（3）由安装在处理单元和曝光单元（4）之间的第一传送室（3A）和第二传送室（3B）组成。 温度调节单元（22）控制处理液的温度和湿度。

公开(公告)号：KR1020120010121A

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：KR1020110058788

申请日：2011-06-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스께 ,  하따께야마신이찌

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/16

Abstract: PURPOSE: A painting processing method and apparatus, and a computer storage device are provided to uniformly spread painting liquid in the face of a substrate by controlling supply quantity of the painting liquid with small amount. CONSTITUTION: A substrate is rotated as the number of first revolutions. The substrate is rotated as the number of second revolutions by decelerating the revolution of the substrate. The number of second revolutions is less than the number of first revolutions. The substrate is rotated as the number of third revolutions by accelerating the substrate. The number of third revolutions is more than the number of second revolutions and less than the number of first revolutions. The substrate is rotated as the number of fourth revolutions by decelerating the revolution of the substrate. The number of fourth revolutions is less than the number of third revolutions. The substrate is rotated as the number of fifth revolutions by accelerating the substrate. The number of fifth revolutions is more than the number of fourth revolutions.

Abstract translation: 目的：通过控制少量涂布液的供给量，提供涂装处理方法和装置以及计算机存储装置，以均匀地涂布在基材表面上的涂布液。 构成：将基板旋转为第一转数。 通过使基板的旋转减速来使基板旋转为第二转数。 第二转的次数小于第一次转数。 基板通过加速基板而旋转为第三转数。 第三次革命的次数超过第二次转数，而不是第一次转数。 通过使基板的旋转减速来使基板旋转为第四转数。 第四次转数小于第三次转数。 基板通过加速基板而旋转为第五圈的数量。 第五次革命的次数超过第四次革命。

公开(公告)号：KR1020110138180A

公开(公告)日：2011-12-26

申请号：KR1020110058782

申请日：2011-06-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이찌노가쯔노리 ,  요시하라겐따로오 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B05D1/005 ,  B05D3/104 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A coating method and a coating device are provided to adjust the surface tension of pre-wet liquid which is supplied to a substrate before coating liquid, thereby enhancing the coating feature of coating liquid. CONSTITUTION: A first supply pipe(147A) is connected to a first resist nozzle(143A) wherein the first supply pipe is connected to a first resist liquid supply source(146A). A second supply pipe(147B) is connected to a second resist nozzle(143B) wherein the second supply pipe is connected to a second resist liquid supply source(146B). Valves(148A,148B) are installed in the first and second supply pipes respectively. A first pre-wet nozzle(150A) and a second pre-wet nozzle(150B) are placed in a second arm. A supply controller(156) controls the state of supplying pre-wet liquid from the first and second pre-wet nozzles.

Abstract translation: 目的：提供涂布方法和涂布装置，以调节在涂布液体之前供给到基材的预湿液体的表面张力，从而增强涂布液的涂布特性。 构成：第一供应管（147A）连接到第一抗蚀剂喷嘴（143A），其中第一供应管连接到第一抗蚀剂液体供应源（146A）。 第二供给管（147B）连接到第二抗蚀剂喷嘴（143B），其中第二供应管连接到第二抗蚀剂液体供应源（146B）。 阀（148A，148B）分别安装在第一和第二供给管中。 将第一预湿喷嘴（150A）和第二预湿喷嘴（150B）放置在第二臂中。 供应控制器（156）控制从第一和第二预湿喷嘴供应预湿液体的状态。

公开(公告)号：KR1020100092906A

公开(公告)日：2010-08-23

申请号：KR1020100013300

申请日：2010-02-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다까야나기고오지 ,  이세끼도모히로 ,  이찌노가쯔노리 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027 ,  B05C5/00

CPC classification number: B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67017

Abstract: PURPOSE: A coating processing method is provided to efficiently coat coating solutions on a wafer by supplying coating solutions by differently setting a coating solution supply process. CONSTITUTION: In a first process(S1), coating solutions are supplied to the center of a substrate which is rotated with a first rotation number. In a second process(S2), the substrate is rotated with a second rotation number lower than the first rotation number. In a third process(S3), the substrate is rotated with a third rotation number higher than the second rotation number. In a fourth process(S4), the substrate is rotated with a fourth rotation number lower between the second rotation number and the third rotation number. The fourth rotation number is lower than the first rotation number.

Abstract translation: 目的：提供涂布处理方法，通过不同地设置涂布溶液供应过程，通过提供涂布溶液来有效地涂覆在晶片上的涂布溶液。 构成：在第一工序（S1）中，将涂布液供给到以第一转数旋转的基板的中心。 在第二工序（S2）中，基板以比第一转数低的第二转数旋转。 在第三处理（S3）中，基板以比第二转数高的第三转数旋转。 在第四处理（S4）中，基板以第二转数和第三转数之间的第四转数下降。 第四转数低于第一转数。

公开(公告)号：KR1020100012835A

公开(公告)日：2010-02-08

申请号：KR1020090068611

申请日：2009-07-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  요시다유우이찌 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: G03F7/3057 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: A developing processing method and developing a processing apparatus are provided to allow a substrate to be cleaned and dried without scattering of a cleansing solution by moving a nozzle and diffuser from the center of the substrate the outer circumference of the substrate. CONSTITUTION: A substrate holding unit(40) horizontally keeps a substrate(W). A revolving mechanism(42) rotates the substrate holding unit around a vertical axis. A supply nozzle is installed upper part of the substrate and supplies the cleansing solution on the surface of the substrate. A diffuser(53) induces the flow of current dud to substrate rotation to the liquid film. A transfer apparatus maintains the nozzle and diffuser parallel with each other at the same time and move them from the center of the substrate to the outer circumference of the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种显影处理方法和显影处理装置，以便通过从衬底的中心移动喷嘴和扩散器，使衬底被清洗和干燥，而不会使清洁溶液散开。 构成：基板保持单元（40）水平地保持基板（W）。 旋转机构（42）使基板保持单元绕垂直轴旋转。 供应喷嘴安装在基板的上部，并将清洁溶液供应到基板的表面上。 漫射器（53）引起电流流向衬底旋转到液膜的流动。 传送装置将喷嘴和扩散器同时保持彼此平行并将其从基板的中心移动到基板的外周。