Chipgehäuse und Verfahren zum Herstellen eines Chipgehäuses

    公开(公告)号:DE102013105232A1

    公开(公告)日:2013-11-28

    申请号:DE102013105232

    申请日:2013-05-22

    Abstract: Ein Verfahren zum Herstellen eines Chipgehäuses wird bereitgestellt. Das Verfahren aufweisend: Halten eines Trägers (402), aufweisend eine Mehrzahl von Dies (4041, 4042, 4043, ..., 404n-1, 404n); Bilden einer Separation zwischen der Mehrzahl von Dies (4041, 4042, 4043, ..., 404n-1, 404n) mittels Entfernens eines oder mehr Bereiche (422) des Trägers (402) von dem Träger (402) zwischen der Mehrzahl von Dies (4041, 4042, 4043, ..., 404n-1, 404n); Bilden eines Verkapselungsmaterials (434) in dem einen oder den mehreren entfernten Bereichen (428) zwischen der Mehrzahl von Dies (4041, 4042, 4043, ..., 404n-1, 404n Vereinzeln der Dies (4041, 4042, 4043, ..., 404n-1, 404n) durch das Verkapselungsmaterial (434).

    Ein Schaltkreisgehäuse, ein elektronisches Schaltkreisgehäuse und Verfahren zum Verkapseln eines elektronischen Schaltkreises

    公开(公告)号:DE102013102893A1

    公开(公告)日:2013-09-26

    申请号:DE102013102893

    申请日:2013-03-21

    Abstract: Ein Schaltkreisgehäuse wird bereitgestellt, das Schaltkreisgehäuse aufweisend: einen elektronischen Schaltkreis; einen Metallblock neben dem elektronischen Schaltkreis; eine erste Metallschichtstruktur elektrisch kontaktiert mit mindestens einem ersten Kontakt auf einer ersten Seite des elektronischen Schaltkreises; eine zweite Metallschichtstruktur elektrisch kontaktiert mit mindestens einem zweiten Kontakt auf einer zweiten Seite des elektronischen Schaltkreises, wobei die zweite Seite gegenüberliegend der ersten Seite ist; wobei der Metallblock elektrisch kontaktiert ist mit der ersten Metallschichtstruktur und der zweiten Metallschichtstruktur mittels eines elektrisch leitfähigen Mediums; und wobei das elektrisch leitfähige Medium ein Material verschieden von dem Material der ersten und der zweiten Metallschichtstruktur oder eine Materialstruktur verschieden von dem Material der ersten und der zweiten Metallschichtstruktur aufweist.

    Chipgehäuse und Verfahren zum Bilden eines Chipgehäuses

    公开(公告)号:DE102012111520A1

    公开(公告)日:2013-05-29

    申请号:DE102012111520

    申请日:2012-11-28

    Abstract: Ein Chipgehäuse (268) aufweisend einen Chipträger, welcher derart eingerichtet sein kann, einen Chip (202) zu tragen, den Chip (202), angeordnet über einer Chipträgerseite (252), wobei die Chipträgerseite (252) eingerichtet ist, eine elektrische Verbindung mit einer Chiprückseite (206) aufzuweisen; ein Isoliermaterial (224) beinhaltend: einen ersten Isolierbereich (224a), gebildet über einer ersten Chipseitenfläche (226); einen zweiten Isolierbereich (224b), gebildet über einer zweiten Chipseitenfläche (228), wobei die erste Chipseitenfläche (226) und die zweite Chipseitenfläche (228) jeweils an entgegengesetzte Kanten der Chiprückseite (206) angrenzen; und einen dritten Isolierbereich (224c), gebildet über mindestens einem Teil einer Chipvorderseite (204), wobei die Chipvorderseite (204) mindestens einen elektrischen Kontakt (214, 216), gebildet innerhalb der Chipvorderseite (204), aufweist; wobei mindestens ein Teil des ersten Isolierbereichs (224a) über der Chipträgerseite (252) angeordnet ist und wobei der erste Isolierbereich (224a) eingerichtet ist, sich in eine Richtung senkrecht zur ersten Chipseitenfläche (226) weiter als der Chipträger (246) zu erstrecken.

    Die-Anordnung und Verfahren zum Bilden einer Die-Anordnung

    公开(公告)号:DE102011056403A1

    公开(公告)日:2012-06-14

    申请号:DE102011056403

    申请日:2011-12-14

    Abstract: Eine Die-Anordnung (100) weist auf: einen Träger (101) mit einer ersten Seite (101a) und einer der ersten Seite (101a) gegenüberliegenden zweiten Seite (101b), wobei der Träger (101) eine Öffnung (104) aufweist, welche von der ersten Seite (101a) des Trägers (101) zu der zweiten Seite (101b) des Trägers (101) führt; einen ersten Die (102), der über der ersten Seite (101a) des Trägers (101) angeordnet ist und den Träger (101) elektrisch kontaktiert; einen zweiten Die (103), der über der zweiten Seite (101b) des Trägers (101) angeordnet ist und den Träger (101) elektrisch kontaktiert; und eine elektrische Kontaktstruktur (105), die durch die Öffnung (104) in dem Träger (101) führt und den zweiten Die (103) elektrisch kontaktiert.

    Bauteil und Verfahren zu dessen Herstellung

    公开(公告)号:DE102007009521B4

    公开(公告)日:2011-12-15

    申请号:DE102007009521

    申请日:2007-02-27

    Abstract: Ein Bauteil umfassend die folgenden Merkmale: einen Bauelementträger (110), wobei der Bauelementträger (110) mindestens einen ersten Bauelementträgeranschluss (116) und einen zweiten Bauelementträgeranschluss (118) aufweist, die voneinander isoliert sind; ein auf den Bauelementträger (110) aufgebrachtes Bauelement (120), wobei das Bauelement (120) einen ersten (126) und einen zweiten (128) Bauelementkontakt aufweist, die voneinander isoliert sind; eine auf das Bauelement (120) und auf den Bauelementträger (110) aufgewachsene erste Leitschicht (130), wobei die erste Leitschicht (130) den zweiten Bauelementkontakt (128) und den zweiten Bauelementträgeranschluss (118) elektrisch miteinander verbindet; eine planartechnologisch abgeschiedene Isolationsschicht (360), die zumindest teilweise auf den Bauelementträger (110) und das Bauelement (120) aufgebracht ist, wobei die erste Leitschicht (130) auf der Isolationsschicht angeordnet ist; und ein isolierendes Material (140), das derart auf die erste Leitschicht (130) aufgebracht ist, dass nur ein Teil (132) der ersten Leitschicht (130) bedeckt ist.

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