公开(公告)号：KR1020150079208A

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：KR1020130169274

申请日：2013-12-31

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 남연희 ,  김혜정 ,  김상균 ,  김성환 ,  김윤준 ,  문준영 ,  송현지

IPC: C09D4/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/11 ,  C08G69/32 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1046 ,  C08G73/105 ,  C08G73/1071 ,  C09D177/10 ,  C09D179/08 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/0214 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086 ,  C09D4/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

Abstract: 하기화학식 1로표현되는부분을가지는중합체, 그리고용매를포함하는하드마스크조성물을제공한다. [화학식 1]상기화학식 1에서, A 및 B는명세서내에서정의한바와같다.

Abstract translation: 提供一种聚合物，其包含由下式1表示的部分; 和包含溶剂的硬盘组合物。 [式1]在式1中，A和B如说明书中所定义。

公开(公告)号：KR1020150019949A

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：KR1020130097456

申请日：2013-08-16

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 서진우 ,  김고은 ,  황병규 ,  임완희 ,  김상균 ,  송현지 ,  임상학

IPC: H01L21/311 ,  H01L21/8247 ,  H01L27/115

CPC classification number: H01L21/3122

Abstract: 수소화 폴리실록사잔 또는 수소화 폴리실라잔; 및 용매를 포함하는 조성물을 기판에 도포하고, 상기 조성물을 UV 조사한 후 얻어진 막을 항온항습 조건에서 처리하고, 상기 결과물을 200℃ 내지 700℃의 온도에서 열처리하는 공정을 포함하는 절연막의 제조방법을 제공한다.

Abstract translation: 提供一种制造绝缘层的方法，其包括以下步骤：将包含聚硅氧氮硅烷氢氧化物或聚硅氮烷氢氧化物和溶剂的组合物喷涂在基材上; 在恒温恒湿条件下处理在组合物上发射紫外线后获得的层; 并将结果热处理在200至700摄氏度。

公开(公告)号：KR101387740B1

公开(公告)日：2014-04-21

申请号：KR1020110001802

申请日：2011-01-07

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 임상학 ,  김봉환 ,  오정강 ,  곽택수 ,  배진희 ,  윤희찬 ,  한동일 ,  김상균 ,  이진욱

IPC: H01B3/46 ,  H01B17/62 ,  C08L83/04

CPC classification number: C08G77/54 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L28/40

Abstract: 하기 화학식 1로 표현되는 부분 및 하기 화학식 2로 표현되는 부분을 갖는 수소화 폴리실록사잔을 포함하고, 염소 농도 1ppm 이하인 실리카계 절연층 형성용 조성물이 제공된다.




상기 화학식 1 및 2에서, R
1 내지 R
7 은 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C30의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30의 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 카르보닐기, 히드록시기 또는 이들의 조합이고, R
1 내지 R
7 중 적어도 하나는 수소이다.

公开(公告)号：KR101354640B1

公开(公告)日：2014-01-27

申请号：KR1020110147877

申请日：2011-12-30

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 권지윤 ,  이종화 ,  조현용 ,  김대윤 ,  김상권 ,  김상균 ,  김상수 ,  윤은경 ,  이준호 ,  이진영 ,  전환승 ,  홍충범 ,  황은하

IPC: G03F7/022 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03C1/61 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/105

Abstract: (A) 폴리벤조옥사졸 전구체, 폴리이미드 전구체 및 이들의 조합에서 선택되는 알칼리 가용성 수지, (B) 감광성 디아조퀴아논 화합물, (C) 페놀화합물, (D) 유기 염료 및 (E) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물을 제공하며, 상기 유기 염료(D)는 흡광 파장이 590 내지 700 nm인 적어도 하나의 적색 염료, 흡광 파장이 550 내지 590 nm인 적어도 하나의 황색 염료 및 흡광 파장이 450 내지 500 nm인 적어도 하나의 청색 염료이다.

Abstract translation: （A）包括聚苯并恶唑前体，所述聚酰亚胺前体和碱溶性树脂被从组合中选择，（B）感光性直径jokwi匿名化合物，（C）的酚化合物，（d）的有机染料和（E）溶剂 正提供了一种光敏树脂组合物，其中所述有机染料（d），其是590至700nm的至少一种红色染料，至少一种黄色染料和550〜590nm的450到吸收波长的吸收波长的吸收波长 500nm。

公开(公告)号：KR101288574B1

公开(公告)日：2013-07-22

申请号：KR1020090118751

申请日：2009-12-02

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 임상학 ,  윤희찬 ,  한동일 ,  곽택수 ,  배진희 ,  오정강 ,  김상균 ,  김종섭

IPC: H01L21/8242 ,  H01L27/108

CPC classification number: H01L28/40 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/32115 ,  H01L21/3212 ,  Y10S525/94

Abstract: 구조 중에 하기 화학식 1로 표현되는 부분 및 하기 화학식 2로 표현되는 부분을 가지고 말단부에 하기 화학식 3으로 표현되는 부분을 가지는 수소화폴리실록사잔을 포함하고, 상기 수소화폴리실록사잔은 산소함유량이 0.2 내지 3 중량%이며, 하기 화학식 3으로 표현되는 부분은 구조 중의 Si-H 결합의 총 함량에 대하여 15 내지 35%로 포함되어 있는 갭필용 충전제 및 이를 사용한 반도체 캐패시터의 제조 방법에 관한 것이다.
충전제, 수소화폴리실록사잔, 산소, 충전성, 평탄성

公开(公告)号：KR1020130078760A

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：KR1020110147877

申请日：2011-12-30

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 권지윤 ,  이종화 ,  조현용 ,  김대윤 ,  김상권 ,  김상균 ,  김상수 ,  윤은경 ,  이준호 ,  이진영 ,  전환승 ,  홍충범 ,  황은하

IPC: G03F7/022 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03C1/61 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/105

Abstract: PURPOSE: A positive photosensitive resin composition is provided to have an excellent light shielding without inhibiting the intrinsic physical property of an insulating layer by preventing the degradation of the insulation property, pattern development and residual removal rate. CONSTITUTION: A positive photosensitive resin composition comprises (A) alkali soluble resin selected from a polybenzoxazole precursor, a polyimide precursor and their combination; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a phenol compound; (D) organic dye; and (E) a solvent. The organic dye (D) includes at least one red dye with light absorption wavelengths of 590-700 nm, at least one yellow dye with light absorption wavelengths of 550-590 nm, and at least blue dye with light absorption wavelengths of 450-500 nm.

Abstract translation: 目的：提供正型感光性树脂组合物，通过防止绝缘性，图案形成和残留除去率的劣化，具有优异的遮光性而不会妨碍绝缘层的固有物性。 构成：正型感光性树脂组合物包含（A）选自聚苯并恶唑前体，聚酰亚胺前体及其组合的碱溶性树脂; （B）光敏重氮醌化合物; （C）酚化合物; （D）有机染料; 和（E）溶剂。 有机染料（D）包括至少一种具有590-700nm光吸收波长的红色染料，至少一种具有550-590nm光吸收波长的黄色染料，至少蓝色染料的光吸收波长为450-500 纳米。

公开(公告)号：KR1020130051759A

公开(公告)日：2013-05-21

申请号：KR1020110117090

申请日：2011-11-10

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 김봉환 ,  곽택수 ,  배진희 ,  윤희찬 ,  임상학 ,  김상균 ,  이진욱

IPC: C11D7/50 ,  C11D7/00 ,  H01L21/306

CPC classification number: C09K13/00 ,  C08G77/62 ,  C09D183/16 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/31111

Abstract: PURPOSE: A rinse solution for a polyhydrosiloxazane is provided to sharply peel the interference of the polyhydrosiloxazane thin film. CONSTITUTION: A rinse solution for a polyhydrosiloxazane comprises an alcohol-based solvent, an ester-based solvent, a silanol-based solvent, an alkoxysilane-based solvent, an alkylsilazane-based solvent, and a combination thereof. The additives are selected from n-butanol, octanol, trimethylsilanol, triethylsilanol, hexamethyldisilazane, hexaethyldisilazane, tetraethoxysilane, tetraethoxysilane, tetramthoxysilane, and a combination thereof. [Reference numerals] (AA) Residual film observation; (BB) Film thickness: 500nm; (CC) About 3mm; (DD) About 10mm

Abstract translation: 目的：提供多羟基硅氮烷的漂洗溶液，以便清除多羟基硅氮烷薄膜的干扰。 构成：多羟基硅氮烷的漂洗溶液包括醇系溶剂，酯系溶剂，硅烷醇系溶剂，烷氧基硅烷系溶剂，烷基硅烷系溶剂及其组合。 添加剂选自正丁醇，辛醇，三甲基硅烷醇，三乙基硅烷醇，六甲基二硅氮烷，六乙基二硅氮烷，四乙氧基硅烷，四乙氧基硅烷，四甲氧基硅烷及其组合。 （附图标记）（AA）残留膜观察; （BB）膜厚：500nm; （CC）约3mm; （DD）约10mm

公开(公告)号：KR1020130028587A

公开(公告)日：2013-03-19

申请号：KR1020110092241

申请日：2011-09-09

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 배진희 ,  곽택수 ,  김봉환 ,  윤희찬 ,  임상학 ,  김상균 ,  이진욱

IPC: C11D7/50 ,  C11D11/00

CPC classification number: C11D7/5022 ,  C11D7/5009 ,  C11D11/0047

Abstract: PURPOSE: A rinse solution for a hydrogenated polysiloxazane thin film is provided to sharply separate the edge cutting portion of a hydrogenated polysiloxazane thin film. CONSTITUTION: A rinse solution for hydrogenated polysiloxazane thin film comprises a first solvent which is selected from a ketone-based solvent, ether-based solvent, ester-based solvent, and combination thereof; and a second solvent which is selected from a terpene-based solvent and combination thereof, and does not have an alcohol group. The first solvent is selected from propylene glycol monomethyl ether acetate, di-n-butylether, cyclohexanone, n-butyl acetate, methyl-i-butyl ketone, anisole, and a combination thereof. [Reference numerals] (AA) Residual film observation; (BB) Film thickness: 500nm; (CC) About 3mm; (DD) About 10mm

Abstract translation: 目的：提供氢化聚硅氧烷氮化物薄膜的冲洗溶液，以锐化分离氢化聚硅氧氮烷薄膜的边缘切割部分。 构成：氢化聚硅氧烷氮化物薄膜的冲洗溶液包括选自酮系溶剂，醚系溶剂，酯系溶剂及其组合的第一溶剂; 和选自萜烯系溶剂及其组合的第二溶剂，不具有醇基。 第一溶剂选自丙二醇单甲醚乙酸酯，二正丁基醚，环己酮，乙酸正丁酯，甲基异丁基酮，苯甲醚及其组合。 （附图标记）（AA）残留膜观察; （BB）膜厚：500nm; （CC）约3mm; （DD）约10mm

公开(公告)号：KR101107004B1

公开(公告)日：2012-01-25

申请号：KR1020090100776

申请日：2009-10-22

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 우창수 ,  김상균 ,  조현모 ,  고상란 ,  김미영 ,  윤희찬 ,  이우진 ,  김종섭

IPC: H01L21/108 ,  H01L21/8242

Abstract: 말단에 3차 알킬옥시카르보닐기(tertiary alkyloxycarbonyl)를 가지는 실리콘계 중합체를 포함하는 반도체 캐패시터용 충전제를 제공한다. 또한 반도체 기판 위에 갭(gap)을 가지는 몰드를 형성하는 단계, 상기 반도체 기판 및 상기 몰드 위에 도전층을 형성하는 단계, 상기 갭 및 상기 도전층 위에 충전제를 도포하여 충전층을 형성하는 단계, 상기 충전층을 열처리하는 단계, 상기 충전층의 일부를 현상하여 상기 갭에 채워진 충전 패턴을 형성하는 단계, 상기 도전층의 일부를 제거하여 복수의 제1 전극으로 분리하는 단계, 상기 몰드 및 상기 충전 패턴을 제거하는 단계, 상기 제1 전극 위에 유전체층을 형성하는 단계, 그리고 상기 유전체층 위에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 반도체 캐패시터의 제조 방법을 제공한다. 여기서, 상기 충전제는 말단에 화학식 1로 표현되는 3차 알킬옥시카르보닐기(tertiary alkyloxycarbonyl)를 가지는 실리콘계 중합체를 포함한다.
반도체 캐패시터, 충전제, 현상성, 충전성, 보관 안정성

公开(公告)号：KR1020110075694A

公开(公告)日：2011-07-06

申请号：KR1020090132215

申请日：2009-12-28

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 최세영 ,  김재현 ,  김남광 ,  정의준 ,  김상균 ,  한권우 ,  성현후

IPC: G02B1/14 ,  C09D5/02 ,  C09D7/12 ,  C09D133/06 ,  C09D133/08 ,  C09D179/04 ,  C08L33/08 ,  G02B1/04 ,  C08K5/06 ,  C08L79/04 ,  G02B5/20

CPC classification number: G02B1/14 ,  C08K5/06 ,  C08L33/08 ,  C08L79/04 ,  C09D5/024 ,  C09D7/63 ,  C09D133/06 ,  C09D133/08 ,  C09D179/04 ,  G02B1/041 ,  G02B1/105 ,  G02B5/201 ,  Y10T428/10 ,  Y10T428/1005 ,  Y10T428/1036 ,  Y10T428/105 ,  C08L33/10 ,  C08L61/28

Abstract: PURPOSE: A resin composition for a protection layer of a color filter is provided to ensure high stability to the curing within molecules in the formation of a color filter protective film, excellent chemical resistance, and flatness. CONSTITUTION: A resin composition for a protection layer of a color filter comprises (A) 40-90 weight% of an acrylate-based resin including a repeating unit represented by chemical formulas 1-3, (B) 1-10 weight% of a melamine-based resin represented by chemical formula 4, (C) 0.1-0.5 weight% of a thermal acid generator, and (D) the balance of a solvent. The acrylate-based resin comprises 5-80 mole% of a repeating unit represented by chemical formula 1, 1-70 mole% of a repeating unit represented by chemical formula 2, and 10-45 mole% of a repeating unit represented by chemical formula 3.

Abstract translation: 目的：提供一种用于滤色器保护层的树脂组合物，以确保在形成滤色器保护膜期间分子内的固化的高稳定性，优异的耐化学性和平坦度。 构成：用于滤色器保护层的树脂组合物包括（A）40-90重量％的丙烯酸酯类树脂，其包含由化学式1-3，（B）表示的重复单元，1-10重量％的 由化学式4表示的三聚氰胺类树脂，（C）热酸产生剂的0.1-0.5重量％，（D）余量的溶剂。 丙烯酸酯类树脂包含5-80摩尔％的由化学式1表示的重复单元，1-70摩尔％的由化学式2表示的重复单元，10-45摩尔％的由化学式表示的重复单元 3。