Abstract:
본 발명은 결정화도가 향상된 박막의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 박막에 관한 것이다. 보다 상세하게는 결정화 촉매 금속 원소와 자기장을 동시에 적용함으로써 결정화도가 향상된 박막을 제조하는 방법 및 이에 의하여 제조된 박막에 관한 것이다. 본 발명은 결정화 촉매 금속을 이용하여 비정질 박막을 결정화하는 방법에 있어서 비정질 박막의 열처리시 자기장을 동시에 인가하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 본 발명에 의하면, 열처리시 자기장을 인가함으로써 열처리시 자기장을 인가하지 않은 경우와 비교하여 결정화도가 높은 박막을 제조할 수 있다. 또한 결정화 촉매 금속 원소의 잔류량을 현저히 줄일 수 있다. 또한, 결정화 촉매 금속 원소의 이온 주입 조건을 조절함으로써 박막의 결정 사이즈를 조절할 수 있다. 또한 열처리 온도를 낮출 수 있으므로 플렉서블 기판(Flexible substrate)을 사용하는 경우에도 적용이 가능하다. 또한 열처리 온도가 낮고 열처리 시간도 단축할 수 있으므로 생산 비용을 줄일 수 있다.
Abstract:
The present invention relates to an amorphous silicon solar cell that includes an upper/lower electrode and an interfacial electrode applying an electric field between light absorption layers without a doping process. Because a doping process is not carried out, a harmful doping gas is not used. Also, because a window layer for receiving light is used as a metallic oxide which has high light transmission and a function of transferring holes, the loss of light reaching a light absorption layer can be minimized and the photocurrent density improved.
Abstract:
The present invention relates to a tandem solar cell combined with an amorphous silicon solar cell and an organic solar cell. A transparent conducting intermediate layer is formed at an interface between the amorphous silicon solar cell and the organic solar cell. The loss of light absorption due to the introduction of the transparent conducting intermediate layer is minimized and the interface resistance of the inner part of the tandem solar cell is greatly reduced. Thereby, a solar cell of high efficiency can be manufactured. [Reference numerals] (10) Conductive substrate; (20) P-type amorphous silicon; (30) I-type amorphous silicon; (40) N-type amorphous silicon; (50) Transparent conducting intermediate layer; (60) Hole transport layer; (70) Organic photoactive layer; (80) Electron transport layer; (90) Electrode
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of nanoparticle complex catalyst by plasma ion implantation and a manufacturing method of the same are provided to increase the surface area of an catalyst due to the small size of catalytic components. CONSTITUTION: A manufacturing method of nanoparticle complex catalyst by plasma ion implantation includes the following steps: plasma ions of solid elements functioning as catalytic components are generated in a vacuum bath; and ionized catalytic components are injected into the surface of a porous carrier. When pulse is applied to a deposition source under low average power, pulse direct current power is applied to the deposition source to generate the plasma ions of the solid elements.
Abstract:
본 발명은 플라즈마 전해양극 산화방법에 관한 것이다. 플라즈마 전해양극 산화방법은 i) 피처리 부재를 전처리하는 단계, ii) 피처리 부재를 전해액에 담지하고, 피처리 부재를 플라즈마전해 양극산화장치에 연결하는 단계, 및 iii) 플라즈마전해 양극산화장치가 양전류 및 음전류를 교대로 제공하여 피처리 부재에 산화막을 형성하는 단계를 포함한다.