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公开(公告)号：CN104272426B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201380021994.9
申请日：2013-03-25
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/28 , H01J37/04 , H01J37/244 , H01J37/295
CPC classification number: H01J37/222 , H01J37/21 , H01J37/263 , H01J37/28 , H01J2237/10 , H01J2237/24475 , H01J2237/24507 , H01J2237/2802 , H01J2237/2804 , H01J2237/2805 , H01J2237/2826
Abstract: 在现有技术中，通用的扫描电子显微镜中，可设定的最大加速电压低，因此在通常的高分辨率观察条件下可观察的晶体薄膜样本仅限于晶格面间隔大的样本。因此，没有高精度地进行倍率校正的手段。作为解决手段，本发明的特征在于，具备：电子源，其产生电子束；偏转器，其执行偏转，以便利用所述电子束在所述样本上进行扫描；物镜，其使所述电子束会聚在所述样本上；检测器，其检测透过了所述样本的散射电子以及非散射电子；和光圈，其配置在所述样本与所述检测器之间，对所述散射电子以及所述非散射电子的检测角进行控制；所述电子束以规定的开角入射至样本，以比在所述样本上电子束直径成为最小的第一开角大的第二开角来获取晶格像。
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公开(公告)号：CN102376517B
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201110251918.X
申请日：2011-08-24
Applicant: FEI公司
Inventor： U.吕肯 , R.肖恩马克斯 , F.J.P.舒尔曼斯
IPC: H01J37/244 , H04N5/335 , H01J37/26
CPC classification number: H01J37/222 , H01J37/26 , H01J37/265 , H01J2237/2446
Abstract: 本发明涉及用于透射电子显微镜的检测器系统。在一种透射电子显微镜检测器系统中，在图像采集时间段期间从像素读出图像数据并且对其进行分析。根据所述分析的结果，修改图像采集过程。例如，所述分析可以指示在数据中包含比如充电或起泡之类的图像伪像，并且可以从最终图像中去除包含伪像的数据。CMOS检测器提供在高数据速率下选择性地读出像素，从而允许实时地自适应成像。
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公开(公告)号：CN105280463A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201510384825.2
申请日：2015-06-30
Applicant: FEI公司
CPC classification number: H01J37/244 , G02B21/002 , G02B21/008 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J37/285 , H01J2237/226
Abstract: 一种使用扫描类型显微镜积累标本的图像的方法，其中考虑在标本内的给定点pi，所述方法包括下面的步骤：-在第一探查期中，采用第一射束配置B1以关联的第一点扩散函数F1照射点pi，由此所述射束配置不同于所述测量参数；-在至少第二探查期中，采用第二射束配置B2以关联的第二点扩散函数F2照射点pi，由此：？ F2在点pi所在的公共交叠区Oi中部分地与F1交叠；？ F1和F2具有在Oi之外的各自的非交叠区F1’和F2’，-在所述计算机处理设备中使用源分离算法在与所述非交叠区F1’和F2’分开地考虑的所述交叠区Oi中执行图像重构。
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公开(公告)号：CN102246258B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN200980149693.8
申请日：2009-10-11
Applicant: FEI公司
CPC classification number: H01L22/12 , G06T7/73 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J37/3045 , H01J2237/31749 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 一种在半导体芯片制造领域中用于局部区域导航的高精确度射束放置的改进方法。本发明举例说明一种其中甚至在工作台/导航系统不能正常地进行到相对较大的局部区域（例如，区域200μm×200μm）内的感兴趣位点的高精确度导航的情况下也有可能进行此类高精确度导航的方法。大的区域、高分辨率扫描、数字变焦和图像到理想化坐标系的配准的组合使得能够在不依赖于工作台移动的情况下在局部区域周围实现导航。一旦获取了图像，则任何样本或射束漂移将不影响对准。优选实施例因此允许具有低于100nm精确度的到样本上的位点的精确导航，甚至在没有高精确度工作台/导航系统的情况下。
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公开(公告)号：CN104737280A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380052989.4
申请日：2013-10-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/24592
Abstract: 本发明是一种具备观察试样上的缺陷的缺陷观察装置的带电粒子束装置，具备：控制部、以及显示部，所述控制部在多个修正条件下针对利用所述缺陷观察装置取得的一张以上图像执行漂移修正处理，并使所述多个修正条件与执行了所述漂移修正处理的多个修正图像对应，作为第1画面显示在所述显示部中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104681382A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201410718566.8
申请日：2014-12-02
Applicant: FEI公司
Inventor： A.A.S.斯鲁伊特曼恩 , E.G.T.博世
CPC classification number: H01J37/244 , G01N23/225 , G01N2223/418 , H01J37/222 , H01J37/26 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/153 , H01J2237/221 , H01J2237/2441 , H01J2237/24495 , H01J2237/2804 , H01J2237/2813 , H01J37/22
Abstract: 具有增强的电子检测的带电粒子显微术。一种研究从带电粒子显微镜中的样本发出的输出电子的通量的方法，该方法包括下列步骤：使用检测器来拦截通量的至少一部分，以便产生样本的至少一部分的像素化图像Ij的集合{Ij}，由此，集合{Ij}的基数是M＞1；对每个图像Ij中的每个像素pi，确定累积信号强度Sij，因此产生信号强度的相关集合{Sij}；使用集合{Sij}计算下列值：每像素位置i的平均信号强度S；每像素位置i的S中的方差σ2S；将这些值S和σ2S用于选自包括如下的组的样本的所述部分的至少一个图：表示作为位置的函数的检测的电子的能量的变化的第一图；表示作为位置的函数的检测的电子的数目的变化的第二图。
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公开(公告)号：CN103917311A
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201380003861.9
申请日：2013-06-12
Applicant: 东邦钛株式会社
CPC classification number: H01J37/304 , B22D23/06 , C22B9/228 , C22C14/00 , F27D11/08 , F27D11/12 , F27D19/00 , F27D2019/0071 , H01J37/22 , H01J37/222 , H01J37/3045 , H01J37/305
Abstract: 提供对于形成于配设在电子束熔化炉内的炉床、铸模内的熔融金属池，将电子束精度良好地照射到事先预定的位置的技术。一种具备保持熔融金属的炉床和铸模、使熔融金属熔融的电子枪、控制电子束的照射方向的电子枪控制单元、熔融金属的图像传感器、以及运算单元的电子束熔化炉的运转方法，将对于熔融金属应该照射电子束的照射坐标输入到电子枪控制单元以将电子束照射到熔融金属，利用图像传感器检测电子束照射到熔融金属而产生的高亮度部位，利用运算单元根据检测信号运算高亮度部位坐标，利用运算单元运算照射坐标与高亮度部位坐标的差异，将差异输入到电子枪控制单元，由此以差异成为规定值以下的方式控制电子束的照射位置。
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公开(公告)号：CN103854941A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201310624541.7
申请日：2013-11-29
Applicant: FEI公司
CPC classification number: H01J37/22 , G01N23/046 , G01N23/2251 , G01N2223/418 , G01N2223/419 , H01J37/21 , H01J37/222 , H01J37/26 , H01J2237/21 , H01J2237/226 , H01J2237/2802
Abstract: 一种在带电粒子显微镜中执行样本的层析成像的方法，其包括以下步骤：提供沿粒子光轴传播的带电粒子射束；将样本设置在可关于所述射束倾斜的样本座上；在成像步骤中，引导射束穿过样本，以便在图像探测器处形成和捕获样本的图像；在一列样本倾斜中的每一个下重复该程序，以便获得对应的一组图像；在重建步骤中，数学地处理来自所述组的图像，以便构造样本的合成图像，由此：在所述成像步骤中，对于给定的样本倾斜，一系列构件图像在对应的一系列焦点设定值下被捕获；在所述重建步骤中，对于所述列的样本倾斜的至少一个组成部分，所述一系列构件图像的多个组成部分在所述数学图像处理中使用。这给出了给定样本倾斜下的3D成像立方体而非2D成像片。
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公开(公告)号：CN101858821B
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN200910260522.4
申请日：2009-12-11
Applicant: FEI公司
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G06T5/006 , G06T5/50 , G06T2207/10056 , G06T2207/20021 , H01J37/222 , H01J37/26 , H01J37/265 , H01J2237/2823 , H01J2237/2826
Abstract: 本发明涉及一种确定TEM的投影系统中的畸变的方法，以及一种用于校正这些像差的方法。所述像差是通过收集样品的大量的像进行确定的，所述样品在每一次像的获取之间被稍微移动。在这些像上将显示样品相同部分的子场(303，304-i)进行比较。这些子场(303，304-i)将显示一些对应于微分像差的小的差别。这样能够确定在大量的点中的所述微分像差，此后通过积分能够确定每一个点的像差。最后对像中每一个被探测像素的要被显示的位置进行校正，显示的像具有大大降低的像差。根据本发明的方法的优点在于不需要样品的高精度步长，也不需要知道样品的几何形状。
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公开(公告)号：CN103066012A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201210345182.7
申请日：2012-09-18
Applicant: FEI公司
Inventor： A.P.J.M.博曼 , M.托思 , S.兰多夫 , D.H.纳鲁姆
IPC: H01L21/768 , H01L21/3213
CPC classification number: H01J37/20 , C25D5/003 , C25D5/02 , C25D5/026 , C25D5/04 , C25D17/005 , C25D17/10 , C25D17/12 , C25D21/04 , C25D21/12 , H01J37/18 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/182 , H01J2237/2003 , H01J2237/202 , H01J2237/2801
Abstract: 本发明涉及小结构的局部真空中修改。使用一种电荷转移机制来针对小结构来局部淀积或去除材料。创建局部电化学电池而不必将整个工件浸入浴中。电荷转移机制可以与荷电粒子束或激光系统一起使用以修改小结构，诸如集成电路或微机电系统。电荷转移工艺可以在空气中执行，在一些实施例中可以在真空室中执行。
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