公开(公告)号：KR1019930024110A

公开(公告)日：1993-12-21

申请号：KR1019930008470

申请日：1993-05-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 세정처리장치는, 웨이퍼를 회전(spin)판부재와 함께 회전시키는 모터와, 회전판부재와 웨이퍼 하면과의 상호간에 공간이 형성되도록 웨이퍼를 유지하는 유지돌기와, 웨이퍼 상면에 세정액을 뿌리는 제트노즐과, 웨이퍼상면을 회전브러시로 세정하는 회전 브러시와, 웨이퍼 하면에 질소가스 또는 순수한 물을 내뿜는 유체 취출기구와, 상호간 공간을 배기하는 배기기구를 가지며, 유체 취출기구의 유체통로 및 배기기구의 배기통로가 모터의 회전구동측의 안에 형성되고, 상호간 공간에 연결되어 통하도록 되어 있다.

公开(公告)号：KR101018909B1

公开(公告)日：2011-03-02

申请号：KR1020030074140

申请日：2003-10-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  이와사키다쓰야

IPC: H01L21/027

Abstract: 스테이지(100)상에 기판(G)이 얹어 놓여져 있는 상태에서, 고압가스공급원으로부터의 고압의 공기를, 가스공급관(118) 및 통형상지지체(114)내의 통풍로(114a)를 통해 가스토출부(116)로부터 소정의 압력으로 토출시킴으로써, 기판(G)을 지지핀(108)으로부터 실질적으로 뜨게 한다. 가스토출부(116)가 호른형으로 형성되어 있기 때문에, 기판(G)의 하면에 닿은 공기는 소용돌이류를 생기는 일없이 순조롭게 빈틈(g)을 통해 밖으로 빠져나간다. 이 구성에 의해, 피처리기판에 흠집이나 문지른 흔적을 남기는 일없이, 또한 파티클을 생기는 일없이, 기판의 위치맞춤을 안전하고 정확하게, 나아가서는 효율적으로 할 수 있다.

公开(公告)号：KR100944594B1

公开(公告)日：2010-02-25

申请号：KR1020030033943

申请日：2003-05-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  시노기다케토라

IPC: H01L21/027

Abstract: 현상액의 소비량을 억제할 수 있는 동시에, 선폭을 균일하게 할 수 있는 현상처리방법 및 그 장치를 제공하는 것이다.
회전되는 사각형상의 LCD 기판(G) 표면의 중심부에 순수(純水)공급노즐(40)로부터 순수를 공급하여, 순수의 박막을 형성하고, 회전됨과 동시에, 순수의 박막이 형성된 LCD 기판(G) 표면의 중심부에 현상액 공급노즐(42)로부터 현상액을 공급하여, 현상액의 박막을 형성한다. 이어서, 현상액의 박막이 형성된 LCD 기판(G) 표면의 일끝단으로부터 다른 끝단을 향하여 현상액 공급노즐로부터 띠형상으로 현상액을 공급하여 현상처리한 후, 현상처리후의 LCD 기판(G) 표면에 린스액 공급노즐로부터 린스액을 공급하여 세정한다. 이에 따라 현상액의 소비량을 억제할 수 있는 동시에, 선폭을 균일하게 할 수 있다.

公开(公告)号：KR100706381B1

公开(公告)日：2007-04-10

申请号：KR1020000030315

申请日：2000-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와사키다쓰야 ,  아나이노리유키 ,  다테야마기요히사 ,  오타요시하루 ,  아라키신이치로 ,  이와쓰하루오

IPC: H01L21/68

Abstract: 기판의 보유·유지부재가, 대향하는 측벽부의 폭이 기판 장변의 길이에 상당하는 길이를 가지고, 이 측벽부들의 대향방향으로 장변방향을 맞춘 상태에서 보유·유지할 수 있는 넓은 폭의 제 1의 보유·유지부와, 대향하는 측벽{단차부} 사이의 폭이 기판의 단변방향의 길이에 상당하는 길이를 갖추고, 이 단차부들의 대향방향으로 단변방향을 맞춘 상태에서 보유·유지부를 갖춘다. 따라서, 반입반출대상인 처리장치가 장변을 쥐는 경우에는, 기판방향 조정수단에 의해, 이 보유·유지부재보다도 상방으로 유리기판을 위치시킨 후, 당해 기판의 장변이 당해 처리장치의 반입반출부를 향하여 마주보도록 회전시켜 하강시킨다. 이에 의해, 제 1의 보유·유지부에 기판이 재치되어, 장변을 쥐는 당해 처리장치와의 사이에서 기판의 반입반출이 가능하게 된다. 마찬가지의 조작에 의해 제 2의 보유·유지부 상에 기판을 재치하면, 단변을 쥐는 처리장치와의 사이에서 기판의 반입반출이 가능하게 된다.

公开(公告)号：KR100586119B1

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：KR1019980047283

申请日：1998-11-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쓰히로 ,  다테야마기요히사 ,  모토다기미오

IPC: H01L21/00

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판처리시에 있어서는 덮개의 개폐를 신속히 행할 수 있고, 보수관리시에 있어서는 장치를 분해하지 않고 간편하고 안전하게 작업할 수 있는 기판처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
기판처리장치는, 기판재치대와, 상부 개구를 가지며, 상기 기판재치대를 둘러싸는 컵부와, 이 컵의 상부개구를 개폐하는 덮개와, 이 덮개를 지지하는 지지아암과, 이 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 1 피스톤과, 이 제 1 피스톤을 승강안내하는 제 1 실린더를 가진 제 1 승강기구와, 상기 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 2 피스톤과, 이 제 2 피스톤을 승강안내하는 제 2 실린더를 가진 제 2 승강기구와, 상기 제 1 및 제 2 실린더에 압력유체를 각각 공급하여, 상기 제 1 및 제 2 실린더로부터 압력유체를 각각 배기하는 구동회로와, 이 구동회로의 동작을 각각 제어하는 제어기구를 구비한다.
4. 발명의 중요한 용도
액정 디스플레이(LCD)용 유리기판과 같은 대형기판을 처리하기 위한 처리공간을 규정하는 컵과 덮개를 구비한 기판처리장치에 사용됨.

公开(公告)号：KR1020050063761A

公开(公告)日：2005-06-28

申请号：KR1020050052340

申请日：2005-06-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 표면의 둘레가장자리부에 대하여 용제를 내뿜어, 이에 따라 기판표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막(薄膜)을 제거하는 박막 제거장치로서, 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하여 배치되는 용제토출부재(63,64)와, 이 용제토출부재내에 설치되어, 용제를 대기시키기 위한 용제대기부(65)와, 상기 용제토출부재의 상기 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하는 면으로 개구하여, 상기 용제대기부와 연이어 통하는 토출구멍(67)과, 상기 용제토출부재의 상기 용제대기부에 대하여 용제를 소정의 압력으로 공급하고, 그에 따라 상기 토출구멍으로부터 용제를 토출시켜 상기 기판 표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막을 제거하는 용제공급부(71,73)를 가진다.

公开(公告)号：KR100438249B1

公开(公告)日：2004-10-26

申请号：KR1019980017562

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  다카모리히데유키

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6838 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/141

Abstract: A substrate transfer apparatus capable of preventing contaminants from sticking to a substrate again when the substrate is unloaded, wherein a first support member and a second support member are provided on an arm, the first support member supporting the substrate when the substrate is loaded into a processing machine and the second support member supporting the substrate when the substrate is unloaded from the processing machine.

Abstract translation: 一种基板输送装置，其特征在于，在卸载基板时，能够防止污染物再次附着在基板上，其中，在臂上设置有第一支承部件和第二支承部件， 当基板从加工机器卸载时，加工机器和支撑基板的第二支撑构件。

公开(公告)号：KR1020030093111A

公开(公告)日：2003-12-06

申请号：KR1020030033943

申请日：2003-05-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  시노기다케토라

IPC: H01L21/027

Abstract: 현상액의 소비량을 억제할 수 있는 동시에, 선폭을 균일하게 할 수 있는 현상처리방법 및 그 장치를 제공하는 것이다.
회전되는 사각형상의 LCD 기판(G) 표면의 중심부에 순수(純水)공급노즐(40)로부터 순수를 공급하여, 순수의 박막을 형성하고, 회전됨과 동시에, 순수의 박막이 형성된 LCD 기판(G) 표면의 중심부에 현상액 공급노즐(42)로부터 현상액을 공급하여, 현상액의 박막을 형성한다. 이어서, 현상액의 박막이 형성된 LCD 기판(G) 표면의 일끝단으로부터 다른 끝단을 향하여 현상액 공급노즐로부터 띠형상으로 현상액을 공급하여 현상처리한 후, 현상처리후의 LCD 기판(G) 표면에 린스액 공급노즐로부터 린스액을 공급하여 세정한다. 이에 따라 현상액의 소비량을 억제할 수 있는 동시에, 선폭을 균일하게 할 수 있다.

公开(公告)号：KR100379647B1

公开(公告)日：2003-06-19

申请号：KR1019970037949

申请日：1997-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 쓰카모토다케시 ,  다테야마기요히사 ,  무라타가즈히코

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162

Abstract: A processing apparatus comprises a resist coating machine for coating resist on the surface of a substrate, a resist removing machine for removing the unnecessary resist stuck to the peripheral portion of the substrate carried out of the resist coating machine, and a transport arm for transporting the substrate from the resist coating machine to the resist removing machine, wherein the resist removing machine comprises a substrate table on which the substrate brought in by the transport arm is placed, a nozzle for spraying a solvent on the peripheral portion to remove the unnecessary resist stuck to the peripheral portion of the substrate on the substrate table; a discharge machine for discharging the solvent used to dissolve and remove the unnecessary resist and the dissolved and removed resist, and an exhaust machine for exhausting the atmosphere under the substrate table downward.

Abstract translation: 本发明提供一种处理装置，该处理装置包括：抗蚀剂涂布机，其用于涂布基板表面的抗蚀剂;抗蚀剂除去机构，其用于除去附着在抗蚀剂涂布机的基板的周缘部的不需要的抗蚀剂;以及输送臂， 从所述抗蚀剂涂布机向所述抗蚀剂剥离机输送基板，所述抗蚀剂剥离机具备：载置由所述搬运臂搬入的所述基板的基板台;在所述周边部喷射溶剂而除去不需要的所述抗蚀剂的喷嘴 到衬底台上的衬底的外围部分; 用于排出用于溶解和去除不需要的抗蚀剂的溶剂以及溶解并除去的抗蚀剂的排出机以及用于向下排出衬底台下的气氛的排气机。

公开(公告)号：KR100366602B1

公开(公告)日：2003-05-01

申请号：KR1019970041992

申请日：1997-08-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  아나이노리유키

IPC: H01L21/02

CPC classification number: B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B05D3/104 ,  G03F7/16 ,  G03F7/161

Abstract: A coating apparatus has a spin chuck for attracting and holding a semiconductor wafer in a horizontal state by means of vacuum. A movable beam is arranged above the spin chuck. The movable beam includes first and second nozzles integrally formed. The first nozzle is used for supplying a photo-resist liquid while the second nozzle is used for supplying a solvent for the photo-resist liquid. When a coating process is performed, the movable beam above the wafer is horizontally moved in one direction. The solvent is first supplied onto the wafer from the second nozzle, and the coating or photo-resist liquid is then supplied from the first nozzle, following the solvent. Wettability of the wafer relative to the photo-resist is increased by the solvent, prior to supply of the photo-resist liquid.

Abstract translation: 涂布设备具有旋转卡盘，用于通过真空吸引并保持水平状态的半导体晶片。 旋转卡盘上方设有可移动的横梁。 可移动梁包括整体形成的第一和第二喷嘴。 第一喷嘴用于供应光刻胶液体，而第二喷嘴用于供应光刻胶液体的溶剂。 当执行涂覆工艺时，晶片上方的可移动梁在一个方向上水平移动。 首先将溶剂从第二喷嘴供应到晶片上，然后从溶剂后的第一喷嘴供应涂层或光刻胶液体。 在提供光致抗蚀剂液体之前，通过溶剂增加晶片相对于光致抗蚀剂的润湿性。