EINGEBETTETER IC-BAUSTEIN UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES EINGEBETTETEN IC-BAUSTEINS

    公开(公告)号:DE102013107593A1

    公开(公告)日:2014-01-23

    申请号:DE102013107593

    申请日:2013-07-17

    Abstract: Es wird ein eingebetteter IC-Baustein (760) bereitgestellt, der Folgendes enthält: mindestens einen Chip (306), der über einem Chipträger (308) angeordnet ist, wobei der mindestens eine Chip (306) mehrere Chipkontaktinseln (312) enthält; Verkapselungsmaterial (304), das über dem Chipträger (308) und mindestens teilweise um den mindestens einen Chip (306) herum ausgebildet ist; mehrere elektrische Zwischenverbindungen (326), die durch das Verkapselungsmaterial (304) hindurch ausgebildet sind, wobei jede elektrische Zwischenverbindung (326) elektrisch mit einer Chipkontaktinsel (312) verbunden ist; und eine Struktur (332), die zwischen den elektrischen Zwischenverbindungen (326) des eingebetteten IC-Bausteins (760) ausgebildet ist, wobei die Struktur (332) die Kriechstromfestigkeit zwischen den elektrischen Zwischenverbindungen (326) erhöht.

    Verfahren zum Herstellen eines Chipgehäuses

    公开(公告)号:DE102013104487A1

    公开(公告)日:2013-11-07

    申请号:DE102013104487

    申请日:2013-05-02

    Abstract: Ein Verfahren zum Herstellen eines Chipgehäuses (100) wird bereitgestellt. Das Verfahren weist auf: Anordnen einer Mehrzahl von Dies über einem Träger (110); Abscheiden von Verkapselungsmaterial über dem Träger, wobei die Mehrzahl von Dies mittels des Verkapselungsmaterials bedeckt ist, wodurch eine Struktur gebildet wird, die das Verkapselungsmaterial und die Mehrzahl von Dies aufweist (120); und Entfernen von Verkapselungsmaterial, wodurch ein gedünnter Bereich der Struktur und ein zusätzlicher Bereich der Struktur gebildet werden, welcher Verkapselungsmaterial aufweist, dicker als der gedünnte Bereich (130).

    Ein Schaltkreisgehäuse, ein elektronisches Schaltkreisgehäuse und Verfahren zum Verkapseln eines elektronischen Schaltkreises

    公开(公告)号:DE102013102893A1

    公开(公告)日:2013-09-26

    申请号:DE102013102893

    申请日:2013-03-21

    Abstract: Ein Schaltkreisgehäuse wird bereitgestellt, das Schaltkreisgehäuse aufweisend: einen elektronischen Schaltkreis; einen Metallblock neben dem elektronischen Schaltkreis; eine erste Metallschichtstruktur elektrisch kontaktiert mit mindestens einem ersten Kontakt auf einer ersten Seite des elektronischen Schaltkreises; eine zweite Metallschichtstruktur elektrisch kontaktiert mit mindestens einem zweiten Kontakt auf einer zweiten Seite des elektronischen Schaltkreises, wobei die zweite Seite gegenüberliegend der ersten Seite ist; wobei der Metallblock elektrisch kontaktiert ist mit der ersten Metallschichtstruktur und der zweiten Metallschichtstruktur mittels eines elektrisch leitfähigen Mediums; und wobei das elektrisch leitfähige Medium ein Material verschieden von dem Material der ersten und der zweiten Metallschichtstruktur oder eine Materialstruktur verschieden von dem Material der ersten und der zweiten Metallschichtstruktur aufweist.

    Ausrichtung eines rekonfigurierten Wafers

    公开(公告)号:DE102010015903B4

    公开(公告)日:2013-08-08

    申请号:DE102010015903

    申请日:2010-03-10

    Abstract: Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements, mit den folgenden Schritten: Platzieren mehrerer Chips (104) auf einen Träger (101); Platzieren von wenigstens einem Markierungselement (120) auf dem Träger (101) relativ zu den mehreren Chips (104); Aufbringen von Einkapselungsmaterial (107) auf die mehreren Chips (104), das Markierungselement (120) und den Träger (101) zur Bildung eines Einkapselungsarbeitsstücks, wobei das Einkapselungsarbeitsstück eine dem Träger zugewandte erste Hauptseite (108) und eine zweite Hauptseite gegenüber der ersten Hauptseite (109) aufweist; wobei das Markierungselement (120) auf der dem Träger zugewandten Seite mit einem Linienmuster (130) versehen ist; Entfernen des Trägers (101) von dem Einkapselungsarbeitsstück; wobei das Linienmuster (130) jeweils von der ersten Hauptseite (108) und von der zweiten Hauptseite (109) aus optisch detektierbar ist; und Detektieren der Markierungselemente (120) durch ein der zweiten Hauptseite zugewandtes optisches Erkennungssystem.

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