Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauelementen und optoelektronisches Halbleiterbauelement

    公开(公告)号:DE102016106493A1

    公开(公告)日:2017-10-12

    申请号:DE102016106493

    申请日:2016-04-08

    Abstract: Es wird ein Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (1) angegeben, mit den Schritten: a) Bereitstellen eines Verbunds (3) mit einer Halbleiterschichtenfolge (2), die einen zur Erzeugung oder zum Empfangen von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (20) aufweist; b) Ermitteln einer Position von zumindest einem Defektbereich (4) der Halbleiterschichtenfolge; c) Ausbilden einer Mehrzahl von elektrisch kontaktierbaren Funktionsbereichen (5), die jeweils einen Teil der Halbleiterschichtenfolge aufweisen und frei von einem Defektbereich sind; und d) Vereinzeln des Verbunds in eine Mehrzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen, die jeweils zumindest einen der Funktionsbereiche aufweisen. Weiterhin wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement angegeben.

    Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung einer Mehrzahl von Halbleiterbauelementen

    公开(公告)号:DE102015105692A1

    公开(公告)日:2016-10-20

    申请号:DE102015105692

    申请日:2015-04-14

    Abstract: Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (1) mit einem Halbleiterchip (2), der eine Halbleiterschichtenfolge (200) mit einem zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (20) aufweist, angegeben, wobei – der Halbleiterchip eine Vorderseite (201) und eine der Vorderseite gegenüberliegende Rückseite (202) aufweist; – das Halbleiterbauelement einen Formkörper (4) aufweist, der zumindest stellenweise an den Halbleiterchip angeformt ist; – das Halbleiterbauelement an einer der Vorderseite des Halbleiterchips gegenüberliegenden Rückseite (12) des Halbleiterbauelements einen thermischen Anschluss aufweist, der sich bis zur Rückseite des Halbleiterchips erstreckt; und – der Halbleiterchip an der Vorderseite zumindest eine elektrische Anschlussfläche (25) aufweist, die über eine auf dem Formkörper verlaufende Kontaktbahn (55) mit einer elektrischen Kontaktfläche (5) des Halbleiterbauelements elektrisch leitend verbunden ist. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung einer Mehrzahl von Halbleiterbauelementen angegeben.

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