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公开(公告)号:CN104685603A
公开(公告)日:2015-06-03
申请号:CN201380039786.1
申请日:2013-06-19
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/261 , H01J2237/006 , H01J2237/063 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002 , H01J2237/2003 , H01J2237/2007 , H01J2237/2448 , H01J2237/2602
Abstract: 本发明的目的在于提供一种电子显微镜及电子显微镜用试样保持装置,其能在电子显微镜内容易且安全地营造气体或液体环境,以高分辨率观察其中的试样及其反应。在具备保持试样(23)的试样保持单元(6)的电子显微镜中,上述试样(23)配置于电子束能通过的毛细管(17)内部,在上述毛细管(17)内部具有向上述毛细管(17)内部供给气体或液体的供给装置、以及回收上述气体或液体的回收装置,一边使上述气体或液体流动一边获得上述试样的试样图像。
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公开(公告)号:CN102160141B
公开(公告)日:2013-12-25
申请号:CN200980138014.7
申请日:2009-08-04
Applicant: HQ-绝缘体股份有限公司
IPC: H01J37/32 , C23C16/511
CPC classification number: H01J37/32211 , C23C8/36 , H01J37/32192 , H01J2237/2001
Abstract: 本发明涉及用于产生微波等离子体的设备,用于以微波等离子体处理半导体衬底的设备和方法,微波等离子体设备包括:至少一个电极(21、22、23),所述电极(21、22、23)包括由导电材料制成的同轴内导体(21)以及由导电材料制成且至少部分包围所述内导体且置于与内导体有一距离处的同轴外导体(22);以及连接至同轴内导体(21)的等离子体激发设备(23);其特征为同轴外导体(22)包括至少一个第一部分区(31),其中同轴外导体(22)沿着其长轴完全包围同轴内导体(21),且包括至少一个另一部分区(32),其中其部分包围同轴内导体(21)以使由微波发生器(20)生成的微波辐射可在该至少一个另一部分区(32)中基本垂直于同轴内导体(21)的长轴而排出。
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公开(公告)号:CN103460335A
公开(公告)日:2013-12-18
申请号:CN201180013955.5
申请日:2011-03-16
IPC: H01L21/00 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/6831 , H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/002 , H01J2237/2001 , H01J2237/2007 , H01J2237/20214 , H01J2237/2065 , H01J2237/31701 , H01L21/67109
Abstract: 本发明涉及利用蒸汽压缩冷却系统的离子注入系统。在一个实施例中,在蒸汽压缩系统中的热控制器依照理想蒸汽压缩循环发送制冷剂流体通过压缩机和冷凝器,以帮助限制或防止在注入期间工件不期望的加热,或者主动冷却所述工件。
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公开(公告)号:CN101682937B
公开(公告)日:2013-04-24
申请号:CN200780035454.0
申请日:2007-08-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: F27D5/0037 , C23C16/4586 , C23C16/46 , H01J2237/2001 , H01L21/67103
Abstract: 一种用于在处理系统中支撑衬底的衬底夹持器包括具有第一温度的温度受控支撑基座以及与温度受控支撑基座相对并且被配置来支撑衬底的衬底支撑。还包括耦合到衬底支撑的一个或多个加热元件,这一个或多个加热元件被配置来将衬底支撑加热到高于第一温度的第二温度,还包括放置在温度受控支撑基座和衬底支撑之间的绝热体。绝热体包括经过温度受控支撑基座和衬底支撑之间的绝热体的传热系数(W/m2-K)的非均匀空间变化。
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公开(公告)号:CN102066898B
公开(公告)日:2013-04-17
申请号:CN200980122376.7
申请日:2009-06-24
Applicant: 新日铁住金株式会社
IPC: G01N1/28 , G01N23/225
CPC classification number: G01N23/2255 , H01J37/20 , H01J37/285 , H01J2237/006 , H01J2237/2001
Abstract: 充气容器、原子探针装置及材料中氢位置分析方法。该充气容器具有:试料保持器,保持针状材料;重氢气供给机构,将重氢气向该试料保持器所保持的上述针状材料进行充气;以及加热机构,对上述试料保持器所保持的上述针状材料进行加热,在通过上述加热机构对上述针状材料进行了加热之后,通过遮断基于该加热机构的加热,由此对上述针状材料进行冷却。
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公开(公告)号:CN102914554A
公开(公告)日:2013-02-06
申请号:CN201210274899.7
申请日:2012-08-03
Applicant: FEI公司
Inventor: S.J.P.科宁斯 , S.库贾瓦 , P.H.F.特龙佩纳尔斯
CPC classification number: G01Q30/12 , B82Y35/00 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002 , H01J2237/2003 , H01J2237/28
Abstract: 本发明涉及在环境透射电子显微镜(ETEM)中的活性气氛中研究样品的方法。这样的研究被用于研究样品与气体的反应(化学的或物理的)。特别所关心的是气体和催化剂的化学反应,以及例如源自在固体上生长的气相的晶须的生长的物理变化(相变)。现有技术研究涉及将所述样品引入到ETEM的样品室内的侧面进入样品支持器上、将所述样品加热到所需的温度、等待所述样品安定到无漂移位置并且随后将所述样品暴露于经加热的活性气体的例如10mbar的压力。因为所述样品支持器的温度分布随气体的温度和压力而变,当将所述样品支持器暴露于所述气体时,所述样品支持器之上的温度分布将轻微地改变,作为其结果,所述样品将漂移。为了避免所述漂移,或者至少最小化所述漂移,本发明涉及在将所述惰性气体交换为所述活性气体之前在所期望的温度下暴露到惰性气体。本发明也可应用于光学显微镜、X-射线显微镜或扫描探测显微镜。
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公开(公告)号:CN101916740B
公开(公告)日:2013-01-02
申请号:CN201010246116.5
申请日:2005-02-25
Applicant: 应用材料有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/00 , H01J37/32
CPC classification number: H01L21/02104 , C23C14/022 , C23C14/50 , C23C14/541 , H01J37/32082 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32522 , H01J37/32541 , H01J37/32568 , H01J37/32862 , H01J2237/2001 , H01L21/67069 , H01L21/67109 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供了一种用于从衬底表面上去除天然氧化物的方法和装置。一方面,该腔包括一个腔体和一个至少部分布置在腔体内并适合在其上支撑衬底的支撑装置。该支撑装置包括至少部分在其中形成并能冷却衬底的一个或多个流体通道。该腔进一步包括布置在腔体上表面的盖装置。该盖装置包括在其间限定了等离子空腔的第一电极和第二电极,其中第二电极适合连接地加热衬底。
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公开(公告)号:CN102543639A
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN201110349835.4
申请日:2011-11-08
Applicant: FEI公司
IPC: H01J37/28 , H01J37/244 , H01J37/02
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/244 , H01J2237/024 , H01J2237/2001 , H01J2237/2003 , H01J2237/2445
Abstract: 本发明涉及用于带电粒子束系统的环境单元。一种用于带电粒子束系统的环境单元允许安装在X-Y镜台上的单元与聚焦镜筒的光轴之间的相对运动,从而消除了对单元内的子镜台的需要。诸如可缩回盖的柔性单元配置允许多种过程,包括束致和热致过程。在带电粒子束系统中且使用光电子的气体级联放大执行的光子产额光谱术允许分析单元中的材料并监视单元中的处理。还可以使用可缩回反射镜来执行发光分析。
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公开(公告)号:CN101699613B
公开(公告)日:2011-12-14
申请号:CN200910168282.5
申请日:2006-10-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 丹尼尔·J·霍夫曼 , 保罗·卢卡丝·比瑞哈特 , 理查德·弗威尔 , 哈密迪·塔瓦索里 , 道格拉斯·A·小布什伯格 , 道格拉斯·H·伯恩斯 , 卡洛·贝拉
IPC: H01J37/32 , H01L21/00 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/67248 , F25B49/02 , F25B2400/0401 , F25B2400/0403 , F25B2400/0411 , F25B2700/21174 , F25B2700/21175 , H01J37/32091 , H01J37/32183 , H01J37/32724 , H01J2237/2001 , H01L21/67069 , H01L21/67109 , H01L21/6831 , H05H2001/4682
Abstract: 本发明公开一种在等离子体反应装置中以均匀温度冷却晶片支撑的方法。从RF耦合的等离子体反应装置中的工件支撑传热或者向其传热的方法包括将冷却剂放置于位于工件支撑内部的内部流通道中,并通过使冷却剂循环经过制冷环路而从冷却剂传热或者向冷却剂传热,在制冷环路中,工件支撑的内部流通道构成制冷环路的蒸发器。该方法还包括将蒸发器内部的冷却剂的热条件维持在这样一个范围内,其中工件支撑和冷却剂之间的热交换主要或完全是通过冷却剂的蒸发潜热进行的。
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公开(公告)号:CN101802964B
公开(公告)日:2011-10-26
申请号:CN200880107478.7
申请日:2008-08-22
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor: 拉塞尔·J·罗 , 皮尔·R·卢比克 , 杰弗里·D·里斯查尔 , 史蒂夫·E·克劳斯 , 艾立克·D·赫尔曼森 , 约瑟·C·欧尔森 , 卡森·D·泰克雷特萨迪克
IPC: H01J37/00
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/08 , H01J37/09 , H01J37/16 , H01J37/248 , H01J2237/026 , H01J2237/038 , H01J2237/2001
Abstract: 本发明揭露了用于离子植入机的终端隔离的技术。在一个特定示范性实施例中,这些技术可被实现为离子植入机,其包括界定终端空腔的终端结构。离子植入机也可包括界定接地空腔的接地外壳且终端结构可至少部分地安置于接地空腔内。离子植入机还可包括中间终端结构,中间终端结构紧邻终端结构的外部安置且至少部分地安置于接地空腔内。
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