公开(公告)号：KR101436649B1

公开(公告)日：2014-09-01

申请号：KR1020090069931

申请日：2009-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  기시타나오후미 ,  비와사토시 ,  후지무라고우지

IPC: G02F1/1339 ,  G02F1/1341 ,  G02F1/13

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178

Abstract: 본 발명은 액처리 장치의 총배기량의 증대를 억제하면서, 기판 유지부의 배열수를 증가시키는 것을 목적으로 한다.
n개(n은 3 이상의 정수)의 컵체(4)를, 각각 제1 댐퍼(72)가 설치된 복수의 개별 배기로(7)와, 이들 복수의 개별 배기로(7)의 하류측에 공통으로 접속되는 공통 배기로(73)를 통해 배기량 E로 흡인 배기함에 있어서, 약액 노즐(5)이 웨이퍼(W)와 대향하는 설정 위치에 있는 한 컵체에서는, 해당 컵체측으로부터 외기를 제1 취입량(E1)으로 취입(取入)하고, 다른 나머지의 컵체에서는, 해당 컵체측으로부터 제1 취입량(E1)보다 작은 제2 취입량(E2)으로 취입하며, 컵체(4)측 및 분기로(76)측 모두의 외기 취입량이 (E-E1)/(n-1)이 되도록 제1 댐퍼(72)를 구성한다.

公开(公告)号：KR1020160061263A

公开(公告)日：2016-05-31

申请号：KR1020150161189

申请日：2015-11-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와키야마데루푸미 ,  이토노리히로 ,  히가시지마지로 ,  비와사토시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/68728 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은기판에공급된후의처리액이건조후의기판에부착되는것을억제하여기판의오손(汚損)을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판을처리하는기판처리시스템에있어서, 연직축주위로회전가능하게설치된유지플레이트와, 상기유지플레이트에설치되고, 상기기판을유지하는기판유지부재와, 상기기판유지부재에유지된기판을미리정해진방향으로회전시키는회전구동부와, 상기기판유지부재에유지된기판에처리액을공급하는처리유체공급부를구비하고, 상기기판유지부재는, 기판과대향하는위치에형성된제1 측면부와상기제1 측면부에인접하는제2 측면부및 제3 측면부를가지며, 상기제1 측면부는, 기판의단부면을파지(把持)하는파지부를갖고, 상기제2 측면부는, 상기제1 측면부와의사이에서첨단부(尖端部)를형성하며, 기판에공급된후의처리액을기판의하방으로안내하는액류(液流) 안내부를구비하는것으로하였다.

Abstract translation: 本发明的目的是通过在干燥处理液之后，通过抑制供给到基板的处理液被附着到基板来防止基板被污染。 根据本发明的用于处理基板的基板处理系统包括：安装成能够围绕垂直轴线旋转的维护板; 基板保持部件，其安装在维护板上并维持基板; 旋转驱动部，其将保持在所述基板保持部件上的所述基板沿预定方向旋转; 以及用于向保持在基板保持部件上的基板供给处理液的加工液供给部。 基板保持部件具有：形成在面向基板的位置的第一侧面部; 以及与第一侧面部相邻的第二侧面部和第三侧面部。 第一侧面部具有用于抓住基板的端面的抓取部，第二侧面部在第一侧面部和第二侧面部之间形成切削刃部，准备液体引导部， 引导在基板下方供给到基板的处理液。

公开(公告)号：KR1020170113354A

公开(公告)日：2017-10-12

申请号：KR1020170039954

申请日：2017-03-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이나도미히로아키 ,  나카무라도오루 ,  기모토고우지 ,  기요하라야스오 ,  오카무라사토시 ,  비와사토시 ,  야마모토노부야 ,  오오카와가츠히로 ,  야하타게이이치 ,  나카하라데츠로

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/024 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67745

Abstract: 본발명은, 건조처리후의기판에처리액이전착되는것을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판(7)을처리액을이용하여액 처리하는액 처리부(14)와, 상기액 처리부에서액 처리한후의습윤상태의상기기판을건조처리하는건조처리부(15)와, 상기액 처리부로처리전의상기기판을반송하는제1 반송부(25)와, 상기액 처리부로부터상기건조처리부로습윤상태의상기기판을반송하는제2 반송부(26)와, 상기액 처리부에서액 처리하기전의상기기판을반송하고, 상기건조처리부로부터건조처리후의상기기판을반송하는제3 반송부(10)를가지며, 상기제3 반송부와면하는쪽에상기제1 반송부와상기제2 반송부와상기건조처리부가배치되고, 상기제1 반송부와상기제2 반송부에면하고상기제3 반송부와반대쪽에상기액 처리부가배치되는것으로하였다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是防止处理液在干燥处理后电沉积在基底上。 和液体处理部分14，干燥处理使用用于基板7的处理溶液通过液体处理部处理的液体处理溶液后的基板在湿状态下的干燥部15，在本发明中，该液体 和用于传送基板的第一传送单元25预处理的零件处理，第二输送单元26，用于在湿态下部分干燥过程从液体处理部搬送基板，以通过液体处理部处理后的液体 以及第三输送部（10），用于在干燥处理之前输送基板并在干燥处理之后从干燥处理部输送基板，其中第一输送部和第二输送部 设置干燥处理部，并且液体处理部设置在第一输送部和第二输送部的相反侧，并且设置在第三输送部的相对侧。

公开(公告)号：KR1020170103666A

公开(公告)日：2017-09-13

申请号：KR1020170026136

申请日：2017-02-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이나도미히로아키 ,  오카무라사토시 ,  비와사토시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02101 ,  B08B3/08 ,  B08B7/0021 ,  H01L21/02054 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68785

Abstract: 본발명은기판처리용기내에반입되는웨이퍼상의액체가건조되는것을방지하는것을목적으로한다. 기판처리장치(3)는, 용기본체(31A)와, 이용기본체(31A) 외측으로부터웨이퍼(W)를용기본체(31A) 내에반송하고, 처리중 웨이퍼(W)를유지하는유지부재(42)를포함한다. 용기본체(31A)의외측에웨이퍼(W)를지지하는기판지지핀(49)과, 유지부재(42)를냉각하는냉각판(45)이설치되어있다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是防止被带入衬底处理容器的晶片上的液体干燥。 基板处理装置3具备容器主体31A和保持部件42，该保持部件42用于在将晶片W从使用基体31A的外部搬入到容器主体31A的过程中保持晶片W ）一个。 用于支撑晶片W的基板支撑销49和用于冷却支撑构件42的冷却板45设置在容器主体31A的外侧。

公开(公告)号：KR1020170103653A

公开(公告)日：2017-09-13

申请号：KR1020170024175

申请日：2017-02-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고시겐타로 ,  기요세히로미 ,  비와사토시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: F26B21/14 ,  F26B5/00 ,  F26B9/06 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은, 비교적짧은시간에, 기판의표면에부착된액체를처리유체에의해제거함과더불어, 처리유체를장시간에걸쳐사용하는것을목적으로한다. 기판처리장치(10)는웨이퍼(W)에대하여초임계처리를행하는처리용기(1)와, 유체공급라인(51)과, 유체배출라인(52)과, 제1 순환라인(53)과, 제2 순환라인(60)을구비한다. 제1 순환라인(53) 및제2 순환라인(60)에, 처리유체를받는처리용기(1)의용량보다큰 제1 저류탱크(20) 및제2 저류탱크(62)가설치되어있다.

Abstract translation: 本发明的目的在于通过处理液在较短的时间内除去附着在基板表面上的液体，并且长时间使用处理液。 基板处理装置10具备：对晶圆W进行超临界处理的处理容器1，流体供给管路51，流体排出管路52，第一循环管路53， 和第二循环线（60）。 第一循环管线53和第二循环管线60设置有比处理容器1的容纳容积大的第​​一储存罐20和第二储存罐62。

公开(公告)号：KR1020100020421A

公开(公告)日：2010-02-22

申请号：KR1020090069931

申请日：2009-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  기시타나오후미 ,  비와사토시 ,  후지무라고우지

IPC: G02F1/1339 ,  G02F1/1341 ,  G02F1/13

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178

Abstract: PURPOSE: A liquid treatment apparatus, a liquid treatment method and a storage medium are provide to suppress the total exhaust volume of liquid treatment equipment and to increase a array number of a substrate holding unit. CONSTITUTION: First air blow amount controllers are respectively connected to a plurality of discrete exhaust ducts(7). The first air blow amount controllers adjusts the outside blowing amount from a cup body side and the outside blowing amount from a branch pipe side. When a drug solution nozzle is a set position opposite to a substrate on a substrate holding part, a controller sets the first air blow amount controllers corresponding to the cup body(4) in a first state. The controller sets the first air blow amount controllers corresponding to the other cup body in a second state.

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质，以抑制液体处理设备的总排气量并增加基板保持单元的阵列数。 构成：第一吹气量控制器分别连接到多个离散排气管道（7）。 第一吹气量控制器从分支管侧调节杯体侧的外侧吹出量和外部吹出量。 当药液喷嘴是与基板保持部件上的基板相对的设定位置时，控制器将与杯体（4）对应的第一吹气量控制器设定在第一状态。 控制器在第二状态下设定与另一杯体对应的第一吹气量控制器。